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記録と刺激アプリケーションの高接触密度、フラットインターフェイスの神経電極の作製
 
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記録と刺激アプリケーションの高接触密度、フラットインターフェイスの神経電極の作製

Article DOI: 10.3791/54388-v • 09:35 min • October 4th, 2016
October 4th, 2016 •
1,3, 2, 1, 1, 1
1Neural Engineering Center, Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center, U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Capítulos

Resumo
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この記事では、高い接触密度フラットインタフェース神経電極（FINE）の製造工程の詳細な説明を提供します。この電極は、末梢神経内で選択的神経活動を記録し、刺激のために最適化されています。

Tags

神経科学、問題116、フラットインターフェイスの神経電極（FINE）、カフ電極、ポリエーテルケトン（PEEK）、CAD、神経活動、多接点
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