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Crescimento epitaxial de Perovskita titanato de estrôncio em Germânio via deposição de camadas Atomic
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Epitaxial Growth of Perovskite Strontium Titanate on Germanium via Atomic Layer Deposition

Crescimento epitaxial de Perovskita titanato de estrôncio em Germânio via deposição de camadas Atomic

DOI:
10.3791/54268-v

•

09:45 min

•

July 26, 2016

•

, , ,
1McKetta Department of Chemical Engineering,The University of Texas at Austin

Capítulos

  • 00:05Título
  • 01:20Cleaning the Germanium Substrate
  • 02:46Loading to the Vacuum System and Germanium Deoxidization
  • 04:30Thin Film ALD Growth and Annealing of the Strontium Titanate (STO) Film
  • 07:23Results: RHEED and X-ray Diffraction Analysis
  • 08:41Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Este trabalho detalha os procedimentos para o crescimento e caracterização de SrTiO cristalina 3 diretamente sobre substratos de germânio por deposição de camadas atômicas. O procedimento ilustra a capacidade de um método de crescimento de todos os produtos químicos para integrar monoliticamente em óxidos semicondutores para dispositivos semicondutores de óxido de metal.

Tags

Epitaxial GrowthPerovskiteStrontium TitanateGermaniumAtomic Layer DepositionMicroelectronicsDielectricCrystalline OxidesInterface StatesManufacturingPrecursorsMolecular Beam EpitaxySubstrate CleaningUV Ozone CleaningVacuum System

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