É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
تلفيق من السيليكا عالية جدا Microresonators عامل الجودة
15,936 Views
•
07:51 min
•
July 02, 2012
DOI:
Summary
Automatically generated
وصفنا في استخدام تقنية ليزر ثاني أكسيد الكربون إنحسر الى افتعال تجاويف السيليكا الرنانة، بما في ذلك قائمة بذاتها المجهرية وmicrotoroids على الرقاقة. طريقة إنحسر يزيل العيوب السطحية، مما يسمح للأعمار الفوتون طويلة داخل كلا الجهازين. الأجهزة الناتجة لديها من العوامل ذات جودة عالية جدا، وتمكين التطبيقات التي تتراوح بين الاتصالات السلكية واللاسلكية إلى biodetection.
Explore More Videos
FabricationSilicaUltra High Quality FactorMicroresonatorsWhispering Gallery Resonant CavitiesPhoton Storage LifetimeQuality Factor (Q)Material LossesSilica MicrocavitiesPhoton LifetimesUltra-low-threshold MicrolasersThin FilmsCavity Quantum Electrodynamics StudiesMicrosphereMicrotoroidCarbon Dioxide Laser Reflow StepOptical FiberSilicon WaferLithographyEtching Steps
Read Article
Cite this Article
Maker, A. J., Armani, A. M. Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators. J. Vis. Exp. (65), e4164, doi:10.3791/4164 (2012).
Copy