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Chimica
/
U
2
O
5
膜を介して直流スパッタリングと連続酸化による UO
2
成膜と酸素原子と水素原子の還元
JoVE Journal
Chimica
This content is Free Access.
JoVE Journal
Chimica
U
2
O
5
Film Preparation via UO
2
Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen
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Click here for the English version.
U
2
O
5
膜を介して直流スパッタリングと連続酸化による UO
2
成膜と酸素原子と水素原子の還元
DOI:
10.3791/59017-v
•
12:05 min
•
February 21, 2019
•
Thomas Gouder
,
Frank Huber
,
Rachel Eloirdi
,
Roberto Caciuffo
1
European Commission, Joint Research Centre
,
Directorate for Nuclear Safety and Security
Capitoli
00:04
Titolo
01:06
The Labstation Modular Machine
02:11
Introduction of the Sample and Sample Holder into the Labstation
03:10
Transfer the Sample Holder to the Preparation Chamber
04:03
In situ Cleaning of the Sample Holder and Sample Holder Characterization
05:39
Deposition of a UO
2
Thin Film
06:50
UO
2
Sample Characterization
07:38
Oxidation of UO
2
with Atomic Oxygen and Analysis of the UO
3
Obtained
08:52
Reduction of UO
3
by Atomic Hydrogen and Analysis of the U
2
O
5
Obtained
09:45
Results: Identification of Uranium(V) in Thin Films
10:51
Conclusion
Summary
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Traduzione automatica
このプロトコルは、超高真空下で U
2
O
5
得られた薄膜の
場で
準備を提示します。プロセスは、それぞれ酸化と UO
2
膜の酸素原子と水素原子の還元を行います。
Tags
U2O5
UO2
Thin Film
Sputtering
Oxidation
Reduction
Atomic Oxygen
Atomic Hydrogen
Uranium Oxides
Surface Composition
X-ray Photoelectron Spectroscopy
Nitrides
Carbides
Ultra-high Vacuum
Sample Preparation
Gold Substrate
Loading Chamber
Vacuum System
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