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Dieletroforese assistida por fluxo: Um método de baixo custo para a fabricação de dispositivos de solução-processable nanofio de alto desempenho
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Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices

Dieletroforese assistida por fluxo: Um método de baixo custo para a fabricação de dispositivos de solução-processable nanofio de alto desempenho

DOI:
10.3791/56408-v

•

09:14 min

•

December 07, 2017

•

, ,
1Advanced Technology Institute, Electrical and Electronic Engineering,University of Surrey

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 00:56Preparation of Substrates
  • 02:03Photolithography Bilayer Process for Contacts
  • 04:04Deposition of Metal Contacts
  • 04:59Flow-assisted Dielectrophoresis of Nanowires
  • 06:48Results: I-V Characteristics of a Silicon Nanowire Field Effect Transistor Mode Using Flow-aasisted Dielectrophoresis
  • 08:05Conclusion

Summary

Traduction automatique

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Neste trabalho, fluxo Dieletroforese assistida é demonstrado para a auto-montagem de dispositivos de nanofios. A fabricação de um transistor de efeito de campo de nanofios de silício é mostrada como um exemplo.

Tags

Flow-assisted DielectrophoresisSolution-processable Nanowire DevicesSemiconductor NanowiresNanowire AlignmentNanowire SelectionNanomaterial Self-assemblySolution-based Device FabricationSemiconductor DevicesNanofabricationScalable Nanowire Device Manufacturing

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