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Chapitres
- 00:05Titre
- 01:20Cleaning the Germanium Substrate
- 02:46Loading to the Vacuum System and Germanium Deoxidization
- 04:30Thin Film ALD Growth and Annealing of the Strontium Titanate (STO) Film
- 07:23Results: RHEED and X-ray Diffraction Analysis
- 08:41Conclusion
इस काम के परमाणु परत बयान से जर्मेनियम substrates पर विकास और क्रिस्टलीय SrTiO 3 सीधे के लक्षण वर्णन के लिए प्रक्रियाओं का विवरण। प्रक्रिया धातु ऑक्साइड सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए अर्धचालक पर monolithically आक्साइड एकीकृत करने के लिए एक सब-रासायनिक विकास पद्धति की क्षमता को दिखाता है।
