/
/
Epitaxiale nanogestructureerde α-quartzfilms op silicium: van materiaal tot nieuwe apparaten
Se requiere una suscripción a JoVE para ver este contenido. Inicie sesión o comience su prueba gratuita.
Capítulos
- 00:05Introduction
- 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
- 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
- 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
- 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
- 10:20Conclusion
Dit werk presenteert een gedetailleerd protocol voor de microfabrication van nanogestructureerde α-kwarts cantilever op een Silicon-On-Insulator (SOI) technologiesubstraat beginnend bij de epitaxiale groei van kwartsfilm met de dipcoatingmethode en vervolgens nanostructuratie van de dunne film via nanoimprintlithografie.
Tags
Keywords: EpitaxialNanostructuredAlpha-quartzSiliconQuartz-based SensorsMiniaturizationMonolithic IntegrationChemical IntegrationEpitaxial RequirementsMicrocantileversActive Microelectromechanical SystemLead-free Piezoelectric Oxide MaterialsMass SensitivityPDMSSOI SubstrateDip CoatingGel FilmMicro/nanostructure
