Journal
/
Quimica
/
Niobium oxide films afgezet door reactieve sputtering: effect van zuurstof debiet
JoVE Revista
Quimica
Se requiere una suscripción a JoVE para ver este contenido.  Inicie sesión o comience su prueba gratuita.
JoVE Revista Quimica
Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Niobium oxide films afgezet door reactieve sputtering: effect van zuurstof debiet

7,090 Views

•

08:23 min

•

September 28, 2019

DOI:

10.3791/59929-v

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min
September 28, 2019

•

8 Views
, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Summary

Automatically generated

Hier presenteren we een protocol voor niobium oxide films afzetting door reactieve sputteren met verschillende zuurstof stroomsnelheden voor gebruik als een elektron transportlaag in perovskietmodule zonnecellen.

Explore More Videos

Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

Read Article

Cite this Article

Fernandes, S. L., Affonço, L. J., Junior, R. A. R., da Silva, J. H. D., Longo, E., Graeff, C. F. d. O. Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate. J. Vis. Exp. (151), e59929, doi:10.3791/59929 (2019).

Download .ris file

Copy

Share Video

.

Copy