Journal
/
Quimica
/
Accumulatie en analyse van koper-ionen in een oplossing Plating kopersulfaat
JoVE Revista
Quimica
This content is Free Access.
JoVE Revista Quimica
Accumulation and Analysis of Cuprous Ions in a Copper Sulfate Plating Solution
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Accumulatie en analyse van koper-ionen in een oplossing Plating kopersulfaat

14,376 Views

•

07:00 min

•

March 20, 2019

DOI:

10.3791/59376-v

DOI:
10.3791/59376-v

•

07:00 min
March 20, 2019

•

12 Views
, ,
1Advanced Manufacturing Research Institute, Department of Electronics and Manufacturing,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

Summary

Automatically generated

Ophoping van koper-ionen in een oplossing in een model experiment en een analyse op basis van kwantitatieve metingen plating kopersulfaat worden hier beschreven. Dit experiment reproduceert het accumulatieproces van koper-ionen in de plating-bad.

Explore More Videos

Copper SulfatePlating SolutionMonovalent CopperQuantificationOptical EvaluationNitrogen GasCopper PlatePlatinum PlatePower SupplyUV-Vis Spectrophotometer

Read Article

Cite this Article

Koga, T., Sakata, Y., Terasaki, N. Accumulation and Analysis of Cuprous Ions in a Copper Sulfate Plating Solution. J. Vis. Exp. (145), e59376, doi:10.3791/59376 (2019).

Download .ris file

Copy

Share Video

.

Copy