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Demonstration af lige-Intensitets stråle generering ved dielektriske Metasurfaces
JoVE Revista
Ingeniería
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JoVE Revista Ingeniería
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

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Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Traducción Automática

En protokol til fabrikation og optisk karakterisering af dielektriske metasurfaces præsenteres. Denne metode kan anvendes til fabrikation af ikke kun Beam Splitters, men også af generelle dielektriske metasurfaces, såsom linser, hologrammer, og optiske cloaks.

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