Journal
/
/
عرض على توليد شعاع متساوي الكثافة بواسطة الأسطح الانسيابية
JoVE Revista
Ingeniería
Se requiere una suscripción a JoVE para ver este contenido.  Inicie sesión o comience su prueba gratuita.
JoVE Revista Ingeniería
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Traducción Automática

ويُعرض بروتوكول لتصنيع الأسطح الفوقية العازلة وتوصيفها البصري. ويمكن تطبيق هذه الطريقة على تصنيع ليس فقط الفواصل شعاع، ولكن أيضا من الأسطح السطحية العازلة العامة، مثل العدسات، الهولوغرامات، والعباءات البصرية.

Videos relacionados

Read Article