Journal
/
/
Demonstrasjon av like-intensitet Beam Generation av dielektrisk Metasurfaces
JoVE Journal
Ingenieurwesen
Zum Anzeigen dieser Inhalte ist ein JoVE-Abonnement erforderlich.  Melden Sie sich an oder starten Sie Ihre kostenlose Testversion.
JoVE Journal Ingenieurwesen
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Kapitel

  • 00:04Titel
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

En protokoll for fabrikasjon og optisk karakterisering av dielektrisk metasurfaces presenteres. Denne metoden kan brukes til fabrikasjon av ikke bare bjelke splitter, men også av generelle dielektrisk metasurfaces, som linser, hologrammer, og optiske kapper.

Verwandte Videos

Read Article