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Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices
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Asistida por flujo dielectroforesis: Un método de bajo costo para la fabricación de dispositivos de nanocable procesables en solución de alto rendimiento

DOI:
10.3791/56408-v

•

09:14 min

•

December 07, 2017

•

, ,
1Advanced Technology Institute, Electrical and Electronic Engineering,University of Surrey

Kapitel

  • 00:05Titel
  • 00:56Preparation of Substrates
  • 02:03Photolithography Bilayer Process for Contacts
  • 04:04Deposition of Metal Contacts
  • 04:59Flow-assisted Dielectrophoresis of Nanowires
  • 06:48Results: I-V Characteristics of a Silicon Nanowire Field Effect Transistor Mode Using Flow-aasisted Dielectrophoresis
  • 08:05Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

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En este papel, flujo dielectroforesis asistida se demuestran para el automontaje de dispositivos nanocable. La fabricación de un transistor de efecto de campo de nanocable de silicio se muestra como un ejemplo.

Tags

Flow-assisted DielectrophoresisSolution-processable Nanowire DevicesSemiconductor NanowiresNanowire AlignmentNanowire SelectionNanomaterial Self-assemblySolution-based Device FabricationSemiconductor DevicesNanofabricationScalable Nanowire Device Manufacturing

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