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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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Fabricación de alta densidad, Contacto-Interface plana Electrodos nerviosas para aplicaciones de registro y estimulación

DOI:
10.3791/54388-v

•

09:35 min

•

October 04, 2016

•

, , , ,
1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Kapitel

  • 00:05Titel
  • 01:02Contact Placements
  • 03:35Embedding the Electrode Components
  • 05:36Applying Shielding and Completing the Electrode
  • 07:45Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
  • 08:58Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

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Este artículo proporciona una descripción detallada sobre el proceso de fabricación de un electrodo del nervio interfaz plana de contacto alta densidad (FINA). Este electrodo está optimizado para la grabación y la estimulación de la actividad neuronal selectiva dentro de los nervios periféricos.

Tags

Flat-interface Cuff ElectrodesNeural InterfaceNeuroprostheticsCAD SoftwareLaser CuttingSpot WelderSilicon SheetVacuum ChamberIsotemp OvenReference Contacts

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