需要订阅 JoVE 才能查看此. 登录或开始免费试用。
Chapters
- 00:04Introduction
- 01:17Magnesium Zinc Oxide (MgZnO) Window Layer Sputter Deposition
- 02:33Absorber Layer Close-Space Sublimation Deposition
- 06:50Close-Space Sublimation Copper Treatment
- 07:28Thin Tellurium Evaporation Deposition
- 08:25Nickel Back Contact Application
- 08:55Delineation into 25 Small-Area Devices
- 09:49Results: Representative Photoluminescence, Current Density Voltage (J-V), and Quantum Efficiency (QE) Comparison of Cadmium Telluride (CdTe) and Cadmium Selenium Telluride/Cadmium Telluride (CdSeTe/CdTe) Devices
- 11:14Conclusion
يصف هذا العمل عملية التصنيع الكاملة للأجهزة الفولتية السيلينيوم الكاديوم الرقيقة التيلوريد/الكادميوم التيلوريد لتحسين الكفاءة. وتستخدم هذه العملية نظاما آليا للفراغ في الخط لترسب التسامي في الفضاء القريب القابل للتطوير، من تصنيع أجهزة البحوث في المنطقة الصغيرة، فضلا عن الوحدات النمطية الكبيرة النطاق.
