U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen

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UO₂증 착 직류 스퍼터 링 및 연속 산화와 산소 원자와 원자 수소 감소를 통해 U₂O₅ 영화 준비

JoVE 杂志
化学

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U₂O₅ Film Preparation via UO₂Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen

UO₂증 착 직류 스퍼터 링 및 연속 산화와 산소 원자와 원자 수소 감소를 통해 U₂O₅ 영화 준비

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February 21, 2019

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February 21, 2019

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이 프로토콜 초고 진공에서 U₂O₅ 박막 얻은 현장에 준비를 제공합니다. 과정 각각 산화와 산소 원자와 원자 수소, UO₂ 영화의 감소를 포함.

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