/

化学

/

U₂O₅ הסרט הכנה באמצעות התצהיר₂אז פרט להתמחות על ידי זרם ישיר Sputtering וחמצון רצופים וצמצום עם אטומי חמצן ומימן אטומי

JoVE 杂志
化学

This content is Free Access.

JoVE 杂志化学

U₂O₅ Film Preparation via UO₂Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen

Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

U₂O₅ הסרט הכנה באמצעות התצהיר₂אז פרט להתמחות על ידי זרם ישיר Sputtering וחמצון רצופים וצמצום עם אטומי חמצן ומימן אטומי

7,649 Views

•

12:05 min

•

February 21, 2019

DOI:

10.3791/59017-v

DOI:

10.3791/59017-v

•

12:05 min

February 21, 2019

•

3 Views

Thomas Gouder, Frank Huber, Rachel Eloirdi, Roberto Caciuffo

¹European Commission, Joint Research Centre,Directorate for Nuclear Safety and Security

Tags

U2O5 UO2 Thin Film Sputtering Oxidation Reduction Atomic Oxygen Atomic Hydrogen Uranium Oxides Surface Composition X-ray Photoelectron Spectroscopy Nitrides Carbides Ultra-high Vacuum Sample Preparation Gold Substrate Loading Chamber Vacuum System

Read Article