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Chapters
- 00:05Title
- 01:20Cleaning the Germanium Substrate
- 02:46Loading to the Vacuum System and Germanium Deoxidization
- 04:30Thin Film ALD Growth and Annealing of the Strontium Titanate (STO) Film
- 07:23Results: RHEED and X-ray Diffraction Analysis
- 08:41Conclusion
Diese Arbeit beschreibt die Verfahren für das Wachstum und die Charakterisierung von kristallinen SrTiO 3 direkt auf Germaniumsubstrate durch Atomlagenabscheidung. Das Verfahren veranschaulicht die Fähigkeit eines all-chemischen Wachstumsverfahren zu Oxiden monolithisch auf Halbleitern für die Metalloxid-Halbleitervorrichtungen integriert werden.
