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Fabricación De Cavidades Uniformes A Nanoescala A Través De La Unión Directa De Obleas De Silicio
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January 09, 2014
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Se describe un método para unir permanentemente dos obleas de silicio con el fin de realizar un recinto uniforme. Esto incluye la preparación de obleas, la limpieza, la unión RT y los procesos de recocido. Las obleas (células) enlazadas resultantes tienen uniformidad de recinto ~1%1,2. La geometría resultante permite mediciones de líquidos y gases confinados.
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Thomson, S. R. D., Perron, J. K., Kimball, M. O., Mehta, S., Gasparini, F. M. Fabrication of Uniform Nanoscale Cavities via Silicon Direct Wafer Bonding. J. Vis. Exp. (83), e51179, doi:10.3791/51179 (2014).
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