Зондовая силовая микроскопия Кельвина (KPFM) измеряет топографию поверхности и различия в потенциале поверхности, в то время как сканирующая электронная микроскопия (SEM) и связанные с ней спектроскопии могут прояснить морфологию поверхности, состав, кристалличность и кристаллографическую ориентацию. Соответственно, совместная локализация SEM с KPFM может дать представление о влиянии наноразмерного состава и структуры поверхности на коррозию.
Зондовая силовая микроскопия Кельвина (KPFM), иногда называемая поверхностно-потенциальной микроскопией, является наноразмерной версией почтенного сканирующего зонда Кельвина, оба из которых измеряют разность потенциалов Вольта (VPD) между колеблющимся наконечником зонда и поверхностью образца, применяя нулевое напряжение, равное по величине, но противоположное по знаку разности потенциалов наконечника-образца. Путем сканирования проводящего зонда KPFM над поверхностью образца можно нанести на карту наноразмерные изменения топографии и потенциала поверхности, идентифицируя вероятные анодные и катодные области, а также количественно оценивая присущую материалу движущую силу гальванической коррозии.
Последующая совместная локализация карт потенциалов KPFM Volta с помощью передовых методов сканирующей электронной микроскопии (SEM), включая изображения обратно рассеянных электронов (BSE), карты элементного состава энергодисперсионной спектроскопии (EDS) и обратные полюсные фигуры обратно рассеянной электронной дифракции (EBSD), могут обеспечить дальнейшее понимание соотношений структура-свойство-производительность. Здесь представлены результаты нескольких исследований, совместно локализующих KPFM с SEM на широком спектре сплавов, представляющих технологический интерес, демонстрируя полезность объединения этих методов на наноуровне для выяснения инициации и распространения коррозии.
Также подчеркиваются важные моменты, которые следует учитывать, и потенциальные подводные камни, которых следует избегать в таких исследованиях: в частности, калибровка зонда и потенциальное смешанное воздействие на измеренные VPD испытательной среды и поверхности образца, включая влажность окружающей среды (т.е. адсорбированную воду), поверхностные реакции /окисление и полировку мусора или других загрязняющих веществ. Кроме того, приведен пример совместной локализации третьего метода, сканирующей конфокальной рамановской микроскопии, чтобы продемонстрировать общую применимость и полезность метода колокализации для обеспечения дальнейшего структурного понимания, выходящего за рамки того, что предоставляется методами на основе электронной микроскопии.
Микроскопическая характеристика материалов принципиально важна для понимания и разработки новых материалов. Многочисленные методы микроскопии дают карты поверхностей материалов и их свойств, включая топографию, упругость, деформацию, электрическую и теплопроводность, потенциал поверхности, элементный состав и ориентацию кристаллов. Однако информация, предоставляемая одной модальностью микроскопии, часто недостаточна для полного понимания совокупности свойств, которые могут способствовать материальному поведению, представляющему интерес. В некоторых случаях усовершенствованные микроскопы были построены с комбинированными возможностями характеризации, такими как перевернутая платформа оптического микроскопа, которая включает в себя атомно-силовой микроскоп (AFM) или использует несколько модальностей сканирующего зонда (например, зондовая силовая микроскопия Кельвина [KPFM] или интермодуляционная электростатическая силовая микроскопия [ImEFM1], измерения поверхностного потенциала и магнитно-силовая микроскопия [MFM])2,3,4, 5 для характеристики образца на той же АСМ. В более общем плане, хотелось бы объединить информацию с двух отдельных микроскопов для получения корреляций структура-свойство 6,7. Совместная локализация сканирующей зондовой силовой микроскопии Кельвина со сканирующими электронными и рамановскими микроскопиями и спектроскопиями представлена здесь, чтобы проиллюстрировать процесс корреляции информации, полученной из двух или более отдельных микроскопов, посредством конкретного примера применения, а именно мультимодальной характеристики металлических сплавов для понимания коррозионного поведения.
Коррозия – это процесс, посредством которого материалы реагируют химически и электрохимически с окружающей средой8. Электрохимическая коррозия представляет собой спонтанный (т.е. термодинамически благоприятный, обусловленный чистым уменьшением свободной энергии) процесс, включающий перенос электронов и зарядов, который происходит между анодом и катодом в присутствии электролита. Когда коррозия происходит на поверхности металла или сплава, анодные и катодные области развиваются на основе изменений в составе микроструктурных особенностей в процессе, известном как микрогальваническая коррозия9. Благодаря использованию совместно локализованных наноразмерных методов характеризации, методы, описанные здесь, обеспечивают экспериментальный путь для выявления вероятных микрогальванических пар между широким спектром микроструктурных характеристик сплава, обеспечивая потенциально полезную информацию для смягчения коррозии и разработки новых материалов. Результаты этих экспериментов могут определить, какие микроструктурные особенности на поверхности сплава могут служить локальными анодными участками (т.е. участками окисления) или катодами (т.е. участками восстановления) во время активной коррозии, а также дать новое представление о наноразмерных особенностях инициации коррозии и реакций.
KPFM – это метод определения характеристик сканирующей зондовой микроскопии (SPM) на основе AFM, который может генерировать одновременную (или построчную последовательную) топографию и карты разности вольтовых потенциалов (VPD) поверхности образца с разрешениями порядка 10 нанометров и милливольт соответственно10. Для этого KPFM использует проводящий датчик AFM с наноразмерным наконечником. Как правило, зонд сначала отслеживает топографические изменения в поверхности образца, затем поднимается на определенную пользователем высоту над поверхностью образца, прежде чем проследить линию топографии для измерения VPD между зондом и образцом (т. Е. Относительный вольтовый потенциал поверхности образца). Хотя существует несколько способов практической реализации измерений KPFM, в принципе, определение VPD осуществляется путем одновременного применения как смещения переменного тока (в представленной реализации к зонду), так и переменного смещения постоянного тока (в представленной реализации к образцу), чтобы обнулить разность потенциалов наконечник-образец, как указано путем обнуления колебаний зонда на приложенной частоте смещения переменного тока (или его гетеродинно-усиленной сумме и разностных частотах на по обе стороны от частоты естественного механического резонанса зонда) 11. Независимо от метода реализации, KPFM создает коррелированную топографию с высоким боковым пространственным разрешением и карты VPD на металлической поверхности12.
VPD, измеренный с помощью KPFM, напрямую коррелирует с разницей в рабочей функции между образцом и зондом, и, кроме того, VPD (как правило) имеет тенденции с электродным потенциалом в растворе 13,14,15. Эта зависимость может быть использована для определения ожидаемого (локального) электродного поведения микроструктурных признаков на основе VPD и была исследована для ряда систем коррозии металлических сплавов 15,16,17,18,19,20,21,22 . Кроме того, измеренный VPD чувствителен к локальному составу, поверхностным слоям и структуре зерна / кристалла / дефекта и, следовательно, обеспечивает наноразмерное выяснение признаков, которые, как ожидается, инициируют и управляют коррозионными реакциями на поверхности металла. Следует отметить, что VPD (Ψ) связан с (неизмеримым) поверхностным потенциалом (χ), но отличается от него, как описано более подробно в литературе13,14, включая полезные диаграммы и точные определения правильной электрохимической терминологии23. Последние достижения в области применения KPFM к исследованиям коррозии значительно повысили качество и повторяемость полученных данных благодаря тщательному рассмотрению влияния пробоподготовки, параметров измерений, типа зонда и внешней среды 24,25,26,27.
Одним из недостатков KPFM является то, что, хотя он генерирует наноразмерную карту разрешения поверхности VPD, он не предоставляет прямой информации о составе, и, таким образом, корреляция вариаций в VPD с различиями в элементном составе должна быть обеспечена совместной локализацией с дополнительными методами характеризации. Путем совместной локализации KPFM с SEM, энергодисперсионной спектроскопией (EDS), электронной обратно рассеянной дифрацией (EBSD) и/или рамановской спектроскопией можно определить такую композиционную и/или структурную информацию. Однако совместная локализация наноразмерных методов может быть затруднена из-за экстремального увеличения изображения, различий в поле зрения и разрешении, а также взаимодействий образцов во времяхарактеристики 28. Получение нано- и микромасштабных изображений одной и той же области образца на разных приборах требует высокой точности и тщательного планирования для совместной локализации методов и минимизации артефактов из-за возможного перекрестного загрязнения во время последовательной характеристики18,28.
Целью данной статьи является определение систематического метода совместной локализации KPFM и SEM визуализации, последний из которых может быть заменен другими методами характеризации, такими как EDS, EBSD или рамановская спектроскопия. Необходимо понимать правильное упорядочение этапов характеризации, влияние окружающей среды на разрешение KPFM и измеренные VPD, калибровку зонда KPFM и различные стратегии, которые могут быть использованы для успешной совместной локализации SEM или других передовых методов микроскопии и спектроскопии с KPFM. Соответственно, предоставляется пошаговая обобщенная процедура совместной локализации SEM с KPFM, за которой следуют примерные работы такой совместной локализации вместе с полезными советами и рекомендациями для получения значимых результатов. В более общем плане, процедура, описанная здесь, должна служить для описания широко применимого процесса совместной локализации изображений/карт свойств, полученных из других модальностей микроскопии с помощью KPFM и других режимов AFM, для получения полезных отношений структура-свойство в различных материальных системах 6,7,29,30,31,32.
Поскольку KPFM измеряет топографию поверхности и VPD с наноразмерным разрешением, подготовка образцов имеет решающее значение для получения высококачественных изображений KPFM. Мелкодисперсные этапы полировки, обсуждаемые в разделе протокола, являются оптимальной отправной точкой для достижения высококачественной конечной обработки поверхности для металлических сплавов. Кроме того, изучение поверхности после каждого этапа полировки с помощью оптического микроскопа может подтвердить улучшение качества поверхности (например, уменьшение количества, размера и глубины видимых царапин), в то время как отделка вибрационной полировальной машиной обеспечит наилучшее конечное качество поверхности. Наконец, необходимо учитывать совместимость растворителя с образцом и монтажным агентом при выборе полирующих составов и методов очистки. В дополнение к тщательной подготовке образцов, совместная локализация различных методов характеризации требует использования общей ссылки (т.е. фидуциальной метки) для указания местоположения начала и направлений координатных осей XY (т.е. ориентации/вращения образца) 6,7,32. Существует множество возможных методов для достижения этой цели. Самый простой метод заключается в выявлении различных, ранее существовавших признаков на поверхности, которые можно увидеть глазом или с помощью оптического микроскопа. Чтобы этот метод работал, объект должен иметь четко определенную, легко идентифицируемую исходную точку (например, угол или выступ) и демонстрировать четкую ориентацию. Образец припоя CuSil, описанный здесь, продемонстрировал функции микронного масштаба, отвечающие этим требованиям, что сделало совместную локализацию простой (рисунок 1 и рисунок 5) 30. Кроме того, отличительные видимые цвета двух разделенных фазами областей дали представление об их составе (например, медь против богатого серебром). Возможно, лучшим, наиболее воспроизводимым методом создания фидуциальных меток является наноиндентирование, хотя для этого требуется доступ к автономному наноиндентеру или интегрированной наноиндентеральной системе AFM. Наноинденты могут быть расположены различными способами, но наиболее очевидным является использование одного отступа в качестве начала и двух дополнительных отступов, выровненных вдоль ортогональных осей, чтобы указать направления X и Y от начала, как показано в примере AM Ti64 (рисунок 2) 32. Наконец, фидуциальные метки также могут быть установлены путем царапин или маркировки поверхности (например, с помощью алмазного писца, лезвия бритвы или наконечника зонда микроманипулятора; или несмываемыми чернилами или постоянным маркером). Фидуциалы царапин могут быть полезны, когда отсутствуют различные особенности поверхности и/или наноиндентатор; однако эти методы могут вызывать проблемы, особенно при изучении коррозионных свойств (например, царапина может повредить поверхность, в результате чего она будет подвержена коррозии). При использовании фидуциальной царапины следует поместить царапину немного дальше от исследуемой поверхности, чтобы убедиться, что царапина не повлияет на результаты эксперимента. Аналогичным образом, загрязнение чернилами может повлиять на коррозионные характеристики, и, следовательно, эти методы лучше использовать при изучении свойств материала, отличных от коррозии.
Поскольку количественная оценка VPD в KPFM зависит от применения как смещения переменного тока, так и потенциала обнуления постоянного тока, путь от поверхности образца к патрону AFM должен быть электрически непрерывным. Таким образом, если образец каким-то образом электрически изолирован от патрона (например, он имеет оксидное покрытие задней стороны, наносится на непроводящую подложку или покрыт эпоксидной смолой), то необходимо будет сделать соединение. Одним из решений является использование серебряной пасты (см. Таблицу материалов) для проведения линии от верхней поверхности образца до патрона, гарантируя, что линия не имеет разрывов и полностью высохнет до получения изображения. Медная лента или проводящая углеродная лента также может быть использована для создания аналогичного электрического соединения. Независимо от метода, используемого для установления электрического соединения, непрерывность патрона-образца должна быть проверена мультиметром перед визуализацией KPFM.
Окисление или загрязнение поверхности металла приводит к резким изменениям в измеренных VPD. Минимизация количества кислорода, с которым контактирует образец, может замедлить пассивацию или деградацию поверхности. Одним из способов предотвращения окисления является помещение AFM в перчаточный ящик инертной атмосферы. Заменяя богатую кислородом окружающую среду инертным газом, таким как аргон или азот, поверхность образца может поддерживаться в относительно нетронутом состоянии в течение длительного периода времени (рисунок 3). Дополнительным преимуществом использования перчаточного ящика является устранение поверхностных вод, которые могут вводить растворенные загрязняющие вещества, ускорять коррозию или пассивацию и ухудшать разрешение из-за необходимости увеличения высоты подъема (см. Ниже). Кроме того, было показано, что измеренный VPD чувствителен к относительной влажности15,23, и поэтому важно контролировать (и в идеале сообщать) относительную влажность, если эксперименты KPFM проводятся в условиях окружающей среды.
В зависимости от используемого AFM (см. Таблицу материалов) и используемого режима реализации KPFM доступные параметры изображения и номенклатура будут различаться. Тем не менее, некоторые общие руководящие принципы могут быть сформулированы. KPFM сочетает топографию AFM с измерениями VPD. Таким образом, хорошее топографическое изображение является важным первым шагом, с заданным значением, выбранным для минимизации силы наконечника-образца (и, следовательно, потенциала для износа наконечника и повреждения образца), сохраняя при этом высокоточное отслеживание топографии (за счет оптимизации взаимодействия выигрышей и заданного значения). Другими словами, независимо от режима топографической визуализации, пользователь должен определить баланс между достаточным взаимодействием с поверхностью без повреждения образца или зонда (особенно если он покрыт металлом). Кроме того, если образец загрязнен или плохо отполирован, наконечник зонда может вступить в контакт с мусором, что приведет к поломке наконечника или артефактов наконечника. Также крайне важно избегать топографических артефактов в потенциальном канале KPFM Volta, что легче достичь в двухпроходном режиме KPFM, подобном описанному здесь. Оптимальная визуализация KPFM требует баланса между более низкой и более высокой высотой подъема, поскольку боковое разрешение KPFM уменьшается с увеличением высоты подъема, но силы Ван-дер-Ваальса на коротких расстояниях (которые отвечают за взаимодействия наконечник-образец, лежащие в основе топографических измерений AFM) могут создавать нестабильности, которые влияют на измерение электростатического взаимодействия на больших расстояниях на более низких высотах подъема. Работа в перчаточном ящике инертной атмосферы, как описано выше, может быть полезной в этом отношении, поскольку устранение слоя поверхностных вод устраняет его вклад во взаимодействие наконечника с образцом для улучшения обратной связи, тем самым обеспечивая более низкую высоту подъема KPFM и улучшенное пространственное разрешение, с дополнительным преимуществом более воспроизводимых VPD из-за постоянной (по существу нулевой) влажности и уменьшенного скрининга заряда. Аналогичным образом, снижение шероховатости поверхности (т.е. лучшая полировка) может привести к снижению высоты подъема и привести к улучшению разрешения KPFM, поскольку хорошее эмпирическое правило для избежания топографических артефактов заключается в том, чтобы установить высоту подъема, приблизительно равную высоте самой высокой поверхности с высоким соотношением сторон, присутствующей в области сканирования. Другим фактором, который вступает в игру при определении оптимальной высоты подъема, является амплитуда колебаний зонда во время прохождения режима подъема – большая амплитуда придает большую чувствительность небольшим VPD, но за счет необходимости большей высоты подъема, чтобы избежать топографических артефактов или ударов по поверхности (часто видимых как резкие всплески в фазе сканирования подъема). Опять же, чем более гладкая поверхность, тем ниже высота подъема, которая может быть достигнута для заданной амплитуды колебаний, тем самым улучшая как пространственное разрешение, так и потенциальную чувствительность Вольта – хорошая подготовка образца является ключевой. Наконец, при захвате изображения KPFM следует иметь в виду, что больший размер сканирования позволяет увеличить охват образца, но за счет увеличения времени сканирования, поскольку для точного измерения потенциалов Вольта электроникой обнаружения требуются медленные скорости сканирования.
Вывод об относительном благородстве микроструктур, наблюдаемых на поверхности проводящего материала, может быть сделан из VPD, измеренных с использованием KPFM (например, микрогальванические пары, межкристаллитная коррозия, точечная коррозия). Однако абсолютные вольтовские потенциалы материалов, о которых сообщается в литературе, широко варьируются 18,24,27. Это отсутствие воспроизводимости привело к неправильному толкованию различных систем материалов и их коррозионного поведения23,25. В результате для определения абсолютных вольтовых потенциалов (т.е. рабочих функций) или сравнения VPD, измеренных в лабораториях, зондах или днях, калибровка рабочей функции зонда KPFM относительно инертного материала (например, золота) необходима25,48. Исследование 2019 года, проведенное некоторыми из авторов, изучило различные зонды KPFM и показало изменчивость полученного измеренного VPD между этими зондами и стандартом алюминий-кремний-золото (Al-Si-Au). Различия в рабочих функциях наблюдались даже для отдельных зондов одного и того же номинального материала и конструкции (рисунок 12)25. В качестве доказательства концепции нержавеющая сталь 316L, соединенная ранее упомянутой припой CuSil, использовалась в качестве примерного материала для измерения абсолютных VPD или рабочих функций. Данные из работы Kvryan et al.30 2016 года сравнивались с VND KPFM, полученными на том же образце с различными зондами и используемыми для анализа потенциалов Вольта внутри припоя. Благодаря калибровке рабочей функции зонда с использованием Au-части стандарта Al-Si-Au в качестве эталонной рабочей функции повторяемость измеренного VPD фаз пайки улучшилась более чем на порядок, от нескольких сотен милливольт (рисунок 12A) до десятков милливольт (рисунок 12C). Дальнейшие усовершенствования калибровки могут быть реализованы путем непосредственного измерения рабочей функции инертного эталона (например, с помощью фотоэмиссионной спектроскопии или электронной спектроскопии Оже) или расчета рабочей функции с использованием теории функционала плотности25,48.
Рисунок 12: Влияние калибровки зонда на потенциальную воспроизводимость KPFM Volta. (A) VPD для богатых медью и серебром областей в образце пайки CuSil, полученном относительно трех различных зондов PFQNE-AL. (B) VPD для тех же трех зондов относительно золотой части стандарта Al-Si-Au, представленной на левой оси ординат, с результирующими модифицированными значениями рабочей функции PFQNE-AL, представленными на правой оси ординаты, рассчитанными на основе теории функционала плотности. (C) Абсолютные VPD областей, богатых медью и серебром, полученные путем масштабирования измеренных VPD относительно золота стандарта Al-Si-Au, полученного до получения изображения образца припоя. Левая ось ординаты (вычисляемая с использованием уравнения над панелью C) указывает VPD между фазами образца пайки и золотым стандартом. Правая ось ординаты (рассчитанная с использованием уравнения под панелью C) представляет результирующую модифицированную рабочую функцию для каждой фазы на основе модифицированной рабочей функции зонда, рассчитанной на панели B. Эта цифра воспроизводится из Efaw et al.25. Сокращения: KPFM = зондовая силовая микроскопия Кельвина; VPD = разность потенциалов Вольта. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.
В заключение, совместная локализация карт потенциала KPFM Volta с передовыми методами SEM, включая изображения SE, изображения BSE, карты элементной композиции EDS и обратные полюсные фигуры EBSD, может дать представление о соотношениях структура-свойство-производительность. Аналогичным образом, другие нано- и микромасштабные методы характеризации, такие как сканирующая конфокальная рамановская микроскопия, также могут быть совместно локализованы для обеспечения дальнейшего структурного понимания. Однако при совместной локализации нескольких инструментов для определения характеристик решающее значение имеет подготовка образцов, включая как минимизацию шероховатости поверхности и мусора, так и идентификацию или создание надежных фидуциальных маркеров для указания происхождения и осей изображения образца (т.е. ориентации или вращения). Кроме того, необходимо учитывать потенциальное воздействие данного метода определения характеристик на последующие измерения, и по этой причине предпочтительно, чтобы KPFM (который является как неразрушающим, так и высокочувствительным к поверхностному загрязнению) выполнялся сначала перед другими методами характеризации. Наконец, важно свести к минимуму поверхностные загрязнения, учитывать и контролировать (или, что еще лучше, устранять) смешанные эффекты испытательной среды (например, влажность окружающей среды) и правильно калибровать рабочую функцию зонда KPFM, чтобы обеспечить надежное, значимое сравнение измерений потенциала KPFM Volta, о которых сообщается в литературе. С этой целью рекомендуется использовать перчаточный ящик с инертной атмосферой для размещения системы AFM (или, если она недоступна, с использованием другой формы контроля влажности / среды с низким содержанием влаги) и золотой или другой инертный эталонный материал с хорошо охарактеризованной рабочей функцией для калибровки зонда.
The authors have nothing to disclose.
За исключением случаев, специально указанных ниже, все изображения AFM и KPFM выполнялись в Лаборатории поверхностных наук Университета штата Бойсе (SSL), как и совместно локализованная сканирующая конфокальная рамановская микроскопия с совместно локализованной визуализацией SEM / EDS, выполненной в Государственном центре характеристик материалов Бойсе (BSCMC). Система AFM перчаточного ящика, используемая в большей части этой работы, была приобретена в рамках гранта Национального научного фонда Major Research Instrumentation (NSF MRI) 1727026, который также обеспечивал частичную поддержку PHD и OOM, в то время как рамановский микроскоп был приобретен за счет финансирования Micron Technology Foundation. Авторы благодарят Micron Technology за использование их системы AFM перчаточного ящика для получения предварительных данных для гранта МРТ, включая получение изображений инертной атмосферы KPFM бинарного сплава MgLa, показанных на рисунке 3 этой рукописи. Частичная поддержка OOM и MFH была также оказана грантом NSF CAREER Под номером 1945650, в то время как CME и MFH признают дополнительное финансирование из консорциума космических грантов NASA Idaho Space Grant Consortium EPSCoR Seed Grant. FWD был поддержан Центром интегрированных нанотехнологий, пользовательским центром Управления фундаментальных энергетических наук Департамента энергетики. Sandia National Laboratories – это многоцелевая лаборатория, управляемая и управляемая National Technology and Engineering Solutions of Sandia LLC, дочерней компанией Honeywell International Inc., для Национального управления ядерной безопасности Министерства энергетики США по контракту DE-NA0003525.
Авторы благодарят Jasen B. Nielsen за подготовку образцов припоя для визуализации KPFM. Бинарный сплав MgLa (рисунок 3) был предоставлен Ником Бирбилисом, бывшим сотрудником Университета Монаша, Австралия, при поддержке Исследовательской лаборатории армии США (номер соглашения W911NF-14-2-0005). Кари (Ливингстон) Хиггинботэм с благодарностью благодарна за ее вклад в визуализацию и анализ KPFM в образец пайки Cu-Ag-Ti. Ник Храбе и Джейк Бензинг из Национального института стандартов и технологий (NIST) отмечены за полезные обсуждения, а также за их обширный вклад в подготовку (включая печать, полировку и создание фидуциалов наноиндентации) и проведение анализа SEM / EBSD в NIST на образце AM Ti-6Al-4V, в то время как Джейк Бензинг занимал постдокторскую исследовательскую должность Национального исследовательского совета.
В данной работе описываются объективные технические результаты и анализ. Любые субъективные взгляды или мнения, которые могут быть выражены в статье, принадлежат автору (авторам) и не обязательно отражают взгляды Министерства энергетики США, Национального управления по аэронавтике и исследованию космического пространства, Национального института стандартов и технологий, Национального научного фонда или правительства Соединенных Штатов.
Atomic force microscope | Bruker | Dimension Icon | Uses Nanoscope control software, PF-KPFM module/key enabled |
Colloidal silica polish | Leco | 812-121-300 | Abrasive: 0.08 μm (80 nm). Used as a finishing polish for metals. Great when preparing samples for performing high resolution EBSD. |
Conductive silver paint, Pelco | Ted Pella | 16062 | Other products with similar conductivity can be used (e.g., Pelco #16031 or 16034), but this product combines fast ambient drying, low VOC, high mechanical strength, easy cleanup/removal, and relatively low sheet resistance: https://www.tedpella.com/adhesive_html/Adhesive-Comparison.aspx |
Diamond slurry | Buehler | MetaDi Supreme, Polycrystalline Diamon Suspension | Final steps in polishing the sample. Start with 1 μm, then move to 0.05 μm (50 nm). |
Digital Multimeter | Fluke | Fluke 21 Multimeter | For checking continuity from the AFM stage/chuck to the sample surface, confirming proper grounding and biasing, etc. |
Epoxy | Buehler | EpoThin 2 | 4:1 ratio of resin to hardener. Mixed together and used for mounting samples to help with polishing and experiments. |
Ethanol | Sigma Aldrich | 459828 | 200 proof, spectrophotometric grade. Used to clean samples after polishing and/or prior to imaging. |
Glovebox, inert atmosphere | MBraun | LabMaster Pro MB200B + MB20G gas purification unit | Custom design (leaktight electrical feedthroughs, vibration isolation, acoustical noise and air current minimization, etc.) and depth for use with Bruker Dimension Icon AFM, 3 gloves, argon atmosphere |
Image overlap software | Microsoft | PowerPoint | Other software products can be used as desired depending upon user knowledge. The essential software capabilities needed are translation, rotation, and scaling of images, as well as ideally adjustment of image transparency during overlay of KPFM/other microscopy images. |
KPFM probe | Bruker | PFQNE-AL | Have also tried Bruker SCM-PIT and SCM-PIC probes, as well as solid Pt probes from Rocky Mountain Nanotechnology, but have found PFQNE-AL probes to provide superior performance |
KPFM standard | Bruker | PFKPFM-SMPL | 8 mm x 8 mm silicon wafer patterned with a 3 x 9 array of rectangular islands of aluminum (50 nm thick) surrounded by gold (50 nm thick). Mounted on a 15 mm steel disk with top surface gold layer electrically connected to disk. |
Nanoindenter | Hysitron | TS 75 | Nanoindented additively manufactured Ti-6Al-4V samples in a right triangle pattern to create an origin and XY axes for co-localized imaging. |
Nanscope Analysis | Bruker | Version 2.0 | Free AFM image processing and analysis software package, but proprietary, designed for, and limited to Bruker AFMs; similar functionality is available from free, platform-independent AFM image processing and analysis software packages such as Gwyddion, WSxM, and others |
Polisher | Allied | MetPrep 3 | Used during slurry polishing |
Probe holder | Bruker | DAFMCH | Specific to the particular AFM used, but must provide a direct electrical path from the probe to the instrument; DAFMCH is the standard contact and tapping mode probe holder for the Dimension Icon AFM, suitable for KPFM |
Raman microscope, scanning confocal | Horiba | LabRAM HR Evolution | Scanning confocal Raman microscope with 442 nm, 532 nm, and 633 nm excitation wavelengths/lasers (used 532 nm doubled Nd:YAG); 10x, 20x, 50x, and 100x Olympus objectives; 50-250 mm adjustable confocal pinhole, 0.8 m imaging spectrometer with 600 and 1800 line/mm gratings; TE cooled 256 x 1024 CCD array detector; and 80 mm x 100 mm Marzhauser motorized XYZ stage plus DuoScan mirror capabilities for scanning |
Sample Puck | Ted Pella | 16218 | Product number is for 15 mm diameter stainless steel sample puck. Also available in 6 mm, 10 mm, 12 mm, and 20 mm diameters at https://www.tedpella.com/AFM_html/AFM.aspx#anchor842459 |
Scanning electron microscope | Hitachi | S-3400N-II | Located at Boise State. Used to perform co-localized SEM/EDS on all samples except additively manufactured (AM) Ti-6Al-4V. |
Scanning electron microscope | Zeiss | Leo | Field Emission SEM. Located at NIST's Boulder, CO, campus. Used to provide co-localized SEM/EBSD on the AM Ti-6Al-4V samples. |
Silicon carbide grit paper (abrasive discs) | Allied | 120 grit: 50-10005, 400 grit: 50-10025, 800 grit: 50-10035, 1200 grit: 50-10040 | Polished samples progressively from ANSI standard 120 grit to 1200 grit prior to employing any slurries. Note that ANSI standard 120 grit corresponds to P120 (European), while ANSI standard 1200 grit corresponds to P4000 (European) – i.e., the ANSI (US Industrial Grit) and European FEPA (P-Grading) abrasives characterization standards agree at coarse grits, but diverge numerically for finer abrasives. |
Sonicator | VWR (part of Avantor) | 97043-992 | Used to clean samples via sonication after polishing. |
Ultrahigh purity nitrogen (UHP N2), 99.999% | Norco | SPG TUHPNI – T | T size compressed gas cylinder of ultrahigh purity (99.999%) nitrogen for drying samples |
Variable Speed Grinder | Buehler | EcoMet 3000 | Used with silicon carbide grit papers during hand polishing. |
Vibratory polisher | Buehler | AutoMet 250 Grinder Polisher | Used to polish samples for longer periods of time. Automatic polishing. |