頂いたディウェッティング経由で制御可能なカスタマイズ可能な金ナノ粒子の大面積基板を用いたナノ加工

大面積ナノ粒子薄膜の作製技術、太陽エネルギー変換と高密度データ ストレージにおける最近の技術の進歩のプラズモンナノ粒子^1,2,の使用と養子縁組のため非常に重要です^3,4,5。 興味深いことに、それはいくつかを操作し、ナノスケールで光をコントロールする能力を持つこれらのナノ粒子を提供これらのプラズモンナノ粒子の磁気特性。光のこの制御は、ナノスケールで入射光の光捕捉を強化し表面の吸収率を高める可能性を提供します。これらの同じプロパティに基づくし、磁化と非磁化状態のいずれかでナノ粒子を持っている能力を持つ、科学者も高密度デジタル データ ストレージ用の新しいプラットフォームを定義します。これらのアプリケーションのそれぞれについて、それは重要なを大面積で手頃な価格のナノ加工技法を開発したナノ粒子のサイズ、間隔、および図形のコントロールのことができます。

ナノ粒子を生成する利用可能な技術はほとんどナノスケール リソグラフィ、柔軟なスケーラビリティとコストの問題に基づいています。までが、これらのテクニックのスケーラビリティの問題に対処しようとしている複数の異なった調査がずっとある、ナノ粒子作製に必要な制御のレベルを提供し、コストと時間のため十分な効果プロセスが存在しません。産業用^{6,7,8,9,10,11}に採用。必要な研究努力改善パルス レーザー誘起ディウェッティング (示す) およびテンプレート化された固体ディウェッティング^12,13,14の制御が、それでも重要な最近リソグラフィ手順とこのスケーラビリティの問題。

本稿では、採用を悩ませているこのスケーラビリティとコストの問題を解決する微細加工法のプロトコルとナノ粒子薄膜広範な産業用アプリケーションでの使用を提案します。この処理方法により、作り出されたナノ粒子のサイズと間隔を制御決定する表面エネルギーを操作することによって、形成されるナノ粒子の自己集合。ここでは、金ナノ粒子を生成する金薄膜を用いたこの技術の使用を示す我々 は最近、ニッケル膜を使用してこのメソッドのわずかに異なるバージョンを公開している、したがって、目的、任意の金属でこの手法を使用できます。この方法の目標はプロセスの複雑さとコストを最小限に抑えながらナノ粒子薄膜を生成してこのように我々 が Ni アルミナ系の原子層堆積法とナノ秒レーザー照射を使用し、交換前のアプローチを変更それらの物理蒸着とホット プレート。Ni アルミナ系の仕事私たちの結果はまたディウェッティング¹⁵後表面の形態制御の許容レベルを示した。