Aqui apresentamos um protocolo para estimar materiais e superfície propriedades ópticas que utilizam o efeito fotoacústico combinado com reflexão interna total. Esta técnica evanescentes photoacoustics baseados em campo pode ser usado para criar um sistema de metrologia fotoacústica para estimar índices de espessuras, a granel e de refração película fina 'materiais, e explorar suas propriedades ópticas.
Here, we present a protocol to estimate material and surface optical properties using the photoacoustic effect combined with total internal reflection. Optical property evaluation of thin films and the surfaces of bulk materials is an important step in understanding new optical material systems and their applications. The method presented can estimate thickness, refractive index, and use absorptive properties of materials for detection. This metrology system uses evanescent field-based photoacoustics (EFPA), a field of research based upon the interaction of an evanescent field with the photoacoustic effect. This interaction and its resulting family of techniques allow the technique to probe optical properties within a few hundred nanometers of the sample surface. This optical near field allows for the highly accurate estimation of material properties on the same scale as the field itself such as refractive index and film thickness. With the use of EFPA and its sub techniques such as total internal reflection photoacoustic spectroscopy (TIRPAS) and optical tunneling photoacoustic spectroscopy (OTPAS), it is possible to evaluate a material at the nanoscale in a consolidated instrument without the need for many instruments and experiments that may be cost prohibitive.
Avanços na compreensão dos materiais ópticos 1,3,4,6,7,10,13-16 forneceram novos insights sobre a criação de materiais de filme fino para uma série de dispositivos ópticos, incluindo revestimentos anti-reflexo sobre as lentes, alta taxa de extinção óptica filtros e guias de onda de placas altamente absorventes 17. Estes avanços não seria possível sem o uso de muitas técnicas de caracterização, como elipsometria 4,6,18, medida do ângulo de contato, microscopia de força atômica 7,11,19, e microscopia eletrônica de varredura / transmissão, que auxiliam na melhoria iterativa estas tecnologias, fornecendo medidas directas ou estimativas indiretas de propriedades fundamentais materiais ópticos. Disse propriedades, tais como o índice de refração, governar como os materiais interagem com fótons incidentes, o que afeta diretamente a sua função e seu uso em aplicações ópticas. No entanto, cada uma destas técnicas tem as limitações relativas à résolução, a preparação da amostra, o custo e a complexidade, e cada um gera apenas um subconjunto dos dados necessários para caracterizar completamente o material. Dito isto, uma nova série de técnicas conhecidas, como fotoacústica à base de campo evanescente (EFPA) 5,6,15,18,20-49 como mostrado na Figura 1, tem o potencial para estimar as propriedades do material em nanoescala numa consolidada um conjunto de experiências. EFPA abrange os sub-técnicas do total espectroscopia fotoacústica reflexão interna (TIRPAS) 23,25,26,33-35,43-45, espectroscopia fotoacústica / reflexão interna total espectroscopia fotoacústica refractometry (PAS / TIRPAS refractometry) 18, e fotoacústica tunneling óptica espectroscopia (OTPAS) 6, e foi utilizado para estimar a granel e o índice de refracção de película fina, espessura do filme, bem como para detectar material com absorção a um prisma / amostra ou interface substrato / amostra.
A fim de compreender o mecanismo EFPA, umadeve primeiro compreender o conceito de espectroscopia fotoacústica (PAS), que se refere à geração de ondas de pressão de ultra-sons com a rápida expansão termoelástica de um cromóforo, após a absorção de um impulso de ultra-curta (<ms) de luz (Figura 1). Enquadramento teórico e matemático para o efeito fotoacústico discutido neste artigo pode ser obtido aqui 50-59. A alteração da pressão resultante pode ser detectado por um microfone de ultra-sons ou transdutor. O efeito fotoacústica, originalmente descoberto em 1880 com a invenção do photophone de Alexander Graham Bell, foi "redescoberto" no início de 1970, devido aos avanços na tecnologia laser e microfone, e, eventualmente, colocar em uso prático para preencher nichos de aplicações de imagiologia biomédica para película fina análise de ensaios não-destrutivos de materiais. 1,53-57,59-82 Este efeito pode ser matematicamente descrito com equações de onda unidimensional, no qual the uma fonte de onda acústica é simples cuja pressão (p) varia em ambas as posições (x) e o tempo (t):
com soluções para fontes acústicas simples do formulário 64
onde P é a pressão, Γ = aV S 2 / C P onde α é o coeficiente de expansão térmica de volume, v s é a velocidade do som no meio, e C P é a capacidade de calor a uma pressão constante, H 0 é a exposição radiante do feixe de laser, c é a velocidade do som no meio animado, X é o comprimento, e t é o tempo. A magnitude da onda acústica resultante assenta directamente sobre o coeficiente de absorção óptica do material, um u, which é o inverso da profundidade de penetração óptico, δ, que por sua vez é uma medida da distância a que a luz viaja até que ele decai para um / e da sua intensidade óptica inicial. Enquanto a Equação (1) é uma equação geral de uma fonte de onda um plano dimensional, absorvedores típicos irá emitir uma onda acústica esférica em três dimensões. Além da descrição matemática, aplicações das fotoacústica efeito 54 estendem por muitos métodos de imagem como a microscopia, tomografia, e até mesmo imagiologia molecular devido ao efeito fotoacústica com alta sensibilidade, devido ao grande absorção óptica, devido à presente naturalmente hemoglobina cromóforo. Outras aplicações do efeito fotoacústico mesmo incluem a estimativa de várias propriedades dos filmes finos 15,16,20,21,24,26-32,36-39,41,42,56,83,84. No entanto, o PAS tem certas limitações: (1) a sua grande profundidade de penetração óptico elimina a capacidade de sonda de campo próximo propriedades ópticas em superfícies (2)s eficiência de captura a energia acústica emitida é baixo devido à propagação esférica de a maioria da energia de distância a partir do detector (3) as amostras devem incluir cromóforos no regime de comprimento de onda em apreço.
Quando combinado com técnicas baseadas em campo evanescente, no entanto, muitas dessas limitações podem ser melhorados. O campo evanescente ocorre quando um feixe de luz sofre uma reflexão interna total (TIR), conforme descrito por Lei de Snell, a qual também permite efeito guias de ondas de fibra óptica para guia de luz de grandes distâncias (km) para aplicações de computação e de telecomunicações. Em aplicações práticas, o campo evanescente é utilizado em uma variedade de tecnologias de caracterização e de imagem, incluindo a espectroscopia de reflectância total atenuada (ATR). Imagens é conseguido com alto contraste devido ao confinamento da luz para dentro das primeiras poucas centenas de nanómetros na amostra de interesse. O campo evanescente toma a forma de um exponentiallY campo em decomposição, que se estende para o meio externo a uma profundidade de penetração óptico que é tipicamente da ordem do comprimento de onda a ser utilizado (normalmente ~ 500 nm ou menos), como mostrado nas equações 3 e 4.
onde I é a intensidade da luz em% para uma z localização a partir da interface do prisma / amostra, que 0 representa a intensidade de luz inicial em% na interface, z é a distância em nanómetros, e δ p é a profundidade de penetração óptica, conforme mostrado na equação 4. com tal uma pequena profundidade de penetração óptico, o campo evanescente é capaz de interagir com o ambiente muito perto da interface das duas matérias, e bem abaixo dos limites de difracção ópticos e acústicos. As propriedades ópticas dos materiais ou partículas dentro desta gama podem perturbar o campo ou de outro modo alterar a sua geração, que a interacção pode ser detectada por uma variedade de métodos de 3,5,6,10,15,17,18,21,23,25-27,29-47,84-95.
Quando as técnicas de evanescentes são combinados com PAS, as formas de onda fotoacústica produzidas podem ser utilizadas para caracterizar materiais ou partículas que interagem com o campo evanescente, criando o evanescente-campo fotoacústica base (EFPA) família de técnicas, tal como mostrado na Figura 1. Esta família inclui, mas não está limitado a, espectroscopia de reflexão total interna fotoacústica (TIRPAS), encapsulamento óptico espectroscopia fotoacústica (OTPAS), e a superfície de ressonância plasmónica de espectroscopia fotoacústica (SPRPAS). O leitor interessado deve consultar as seguintes referências para derivações das equações utilizadas para TIRPAS 5,6,18,23,25,26,33-35,43-47, PAS / TIRPAS refractometry 18, e OTPAS 6. Em cada caso, o efeito fotoacústico é gerado por meio de um mecanismo de excitação diferente do que a simples transmissão através de um prisma; por exemplo, em TIRPAS, a luz é evanescentlyacoplado através de uma interface de prisma / substrato / amostra para os cromóforos (que pode incluir o material da amostra em si, ou moléculas hóspedes no interior da amostra), enquanto que na SPRPAS, o modo primário de excitação é em vez através da absorção de um plasmónica de superfície, que é uma onda eM secundário criado quando a energia do campo evanescente é transferido para dentro da nuvem de electrões de uma camada de metal depositada sobre a superfície do prisma. Esta família de técnicas foi originalmente inventado no início de 1980 por Hinoue et al., E melhorada por T. Inagaki et al., Com a invenção de SPRPAS, mas viu muito pouco o desenvolvimento devido a limitações técnicas das fontes de luz e equipamento de detecção disponíveis . Mais recentemente, as investigações anteriores mostraram que o aumento da sensibilidade e utilidade são possíveis com fluoreto de polivinilideno moderna (PVDF) detectores de ultra-sons e granada de ítrio e alumínio dopado com neodímio comutação-Q (Nd: YAG) lasers. Especificamente, nanossegundo-pulsado de Nd: YAGlasers resultar em um aumento de 10 vezes em 6 a potência de pico, que permite técnicas EFPA a tornar-se ferramentas úteis para avaliar as propriedades ópticas de uma variedade de materiais e interfaces 5,6,15,18,21-29,31-47,84 , 96. Além disso, o trabalho anterior mostrou ainda mais a capacidade de tais técnicas para determinar informações estruturais sobre os materiais em uma interface, o que era anteriormente não alcançáveis com as tecnologias de espectroscopia fotoacústica tradicional (PAS), devido à sua relativamente grande profundidade de penetração 53,55,57,59, 61,62,69,73,75,80,81.
Esta capacidade é mostrado nos protocolos que se seguem sob a técnica OTPAS; no entanto, a um nível mais fundamental as três técnicas de cada dependem de uma equação diferente definitivo, o qual determina a capacidade da tecnologia. Por exemplo, em TIRPAS, a profundidade de penetração óptica do campo evanescente, δ 'P, conduz primeiramente a acústica resultantea intensidade do sinal para uma amostra absorvente, e é descrita por:
onde λ 1 é o comprimento de onda da luz que se desloca através do meio de prisma e é definido pela relação λ 1 = λ / n em que n 1 1 é o índice de refracção do material do prisma. Além disso, θ refere-se ao ângulo de excitação, e N 21 refere-se à razão entre os índices de refracção de cada meio, e é definido por n = 21 n 2 / n 1, em que n é 2, o índice de refracção do material de amostra. Quanto maior for a profundidade de penetração óptico, o mais material está a ser irradiada. Para o efeito fotoacústico, quanto maior for a profundidade de penetração óptico, o mais material está a ser excitado que pode produzir ondas acústicas que conduzem a um sinal acústico maior.
<pclass = "jove_content"> Ao contrário TIRPAS no entanto, em PAS / TIRPAS REFRACTOMETRIA a equação primária é a lei de Snell:em que n 1 é o índice de refracção do prisma, θ 1 é o ângulo de incidência na interface prisma / amostra, n 2 representa o índice de refracção da amostra, e θ 2 é o ângulo da luz que é refractada através da segunda médio. A sensibilidade de estimar o índice de refracção de um material é essencialmente ditada por a precisão da estimativa de θ 1. Em reflexão interna total, o que é conseguido quando θ 1 está para além do ângulo crítico, que gera um campo evanescente, sin θ 2 = 1 e, portanto, reduz a Equação 5 N 2 = N 1 sinθ 1. (Nota: θ 1 =θ crítica) Conhecer o ângulo no qual a derivada numérica (dP / dθ onde P é o pico a pico de tensão do sinal fotoacústico e θ é o ângulo de incidência da luz com a amostra) do sinal fotoacústico tem um mínimo local permite para a estimativa de θ uma que permite que o utilizador a resolver para n 2 e, assim, estimar o índice de refracção grandes quantidades de uma amostra, tal como mostrado na Figura 1.
Finalmente, em OTPAS, a seguinte equação relaciona transmissão óptica em% a pico fotoacústica para pico de tensão por:
em que T é a transmissão óptica por cento, p é a tensão de pico-a-pico gerada pela espectro angular de um substrato com um filme em que, p é 0 a tensão de pico-a-pico gerada pela angular espectro ósubstrato de FA, β é a constante de acoplamento com base no índice de refracção do prisma e do óleo de imersão, α é o factor de atenuação, e é um factor que inclui espessura e o índice de refracção da película da amostra dentro do campo evanescente. A sensibilidade desta técnica à espessura e do índice de refracção é impulsionado pela exactidão da estimativa da intensidade de pico a pico do sinal acústico, p e p 0 em cada ângulo de incidência no espectro angular. Tem sido demonstrado que β pode ser calculada directamente com base nos índices de refracção do prisma e do óleo de imersão; consequentemente, é uma tarefa simples para calcular a transmissão óptica a cada ângulo de incidência e, em seguida, para extrair uma estimativa para o índice de refracção e a espessura da película através de análise estatística de ajuste de curva. O leitor interessado deve consultar a Goldschmidt et al., Para mais informações. 5,6
Tele EFPA sistema é um sistema baseado fotoacústica capaz de estimar a espessura, do índice de refracção de película fina, índice de refracção grandes quantidades, e a geração de sinais acústicos através de absorção óptica de detecção. O sistema é constituído por um laser, um trem óptico para orientar a luz para o prisma / amostra e para o lado da energia de laser de medição. O lado de medição de energia laser é usado para normalizar o sinal fotoacústico para a energia laser incidente, como mostrado na Figura 2. O sistema EFPA é conduzido por um condutor do motor de passo para girar o prisma / amostra para o espectro angular em PAS refractometria / TIRPAS e OTPAS . O sistema adquire dados através de uma placa de aquisição digital e fornece uma interface de usuário e controle do estágio automatizado através de um programa em casa.
The use of devices for the characterization of materials at the nanoscale will undoubtedly continue far into the future in order to produce new materials and combinations of materials to solve difficult and costly societal problems. Many methods such as ellipsometry, atomic force microscopy (AFM), and traditional photoacoustics are currently used to evaluate material properties at the nanoscale despite their inherent limitations due to few alternatives. EFPA shows promise as a consolidated set of techniques that can push beyond the typical limitations of the photoacoustic effect to provide a single instrument to characterize materials at the nanoscale.
The protocol described herein and its associated sub-techniques have the capability to estimate both bulk and thin film refractive indices of a material, film thickness, and have detection capabilities for a variety of biosensing applications. OTPAS specifically has the advantage that it can estimate the thickness and refractive index of nanometer scale films despite the fact that the films themselves do not contain inherently absorbing pigmentation. EFPA as a consolidated set of techniques has a few advantages over techniques such as ellipsometry, atomic force microscopy, and the traditional photoacoustic effect. The first advantage is that EFPA is comparatively inexpensive to set up. A typical EFPA setup can estimate refractive index from both the bulk and surface, can estimate thickness, and can probe absorbing materials and will cost around $5,000 to set up. In contrast, AFM setups cost around $50,000 and cannot estimate optical properties. Secondly, EFPA can estimate these properties within a few minutes without complex interaction such as in ellipsometry where input parameter error can cause differences in results. Finally, EFPA, when compared to the traditional photoacoustic effect, has axial resolution 100X smaller as it can estimate thickness of 200 nm films6 whereas the traditional photoacoustic effect is limited to 7,500 nanometers when using similar lasers and setup82. Conveniently, almost every material has independent and differing surface and bulk refractive index properties as well as absorptive properties, which collectively make for functional differences in their use in optical research systems.
Critical steps within the protocol come down to three primary considerations. First, optical coupling of the sample, whether that be a liquid or a film, is crucial to obtain reliable and repeatable results. Air bubbles within the immersion oil or sample will lead to inaccurate characterization of the thickness, refractive index, and in some cases a complete lack of sensitivity of the transducer to the excited sample owing to the inability of ultrasound to adequately pass through a liquid/air interface due to vastly differing acoustic impedance values. Second, with regard to OTPAS, a sample that is homogeneously thick in the area irradiated by the laser beam in order to provide consistent thickness values during scanning since as of yet EFPA cannot determine thickness differences within the area of excitation. Finally, again with regard to OTPAS, the sample film must be transparent to the wavelength being used. This is a fundamental assumption made in the mathematical equations that describe how OTPAS finds thickness and refractive index values. If absorption is substantial enough that more than 1% of the incident light is absorbed by the film, characterization will not match the real thickness and refractive index values of the film.
Modifications to the EFPA technique can be made with relative ease and other types of components can be substituted in for more effective scans or functionality. The only major issues that have to be addressed when building an EFPA system are the following. First, it is crucial to have a method of automatically rotating a prism mount and acquiring acoustic signals at small (0.05 degree) increments. Second, having a nanosecond pulse width or shorter laser system to excite samples using the photoacoustic effect. Third, having a graphical user interface or program to acquire the data to do mathematical curve fitting and numerical derivatives for estimating thickness and bulk/thin film refractive index.
There are three fundamental limitations to EFPA. The first is that in order to find the bulk refractive index, thin film refractive index, thickness, or detect materials using TIRPAS, the sample must have a refractive index that is less than that of the prism or substrate it is in contact with so that total internal reflection can occur which is the basis of all three of these techniques. The second limitation is that EFPA currently requires physical contact in order to estimate thickness, refractive index, and for detection of properties. The final limitation is that OTPAS, a sub-technique of EFPA, currently requires optically transparent materials to estimate thickness and refractive index of the thin film of interest.
This type of consolidated instrument could find many applications in characterization environments including research cores and industrial environments. Future work regarding EFPA techniques is focused on the improvement of the refractive index accuracy through improvements in instrumentation and translational/rotational stages. Additional advancements will focus around the improvement of signal-to-noise ratio for the detection of smaller quantities of absorbing materials, so as to characterize weakly absorbing materials, as are found most commonly in biological systems.
The authors have nothing to disclose.
Este projecto foi financiado pelo Prêmio BRIGE National Science Foundation (1.221.019).
100 mm plano convex lens | Thorlabs | LA1509 | Plano convex lens for beam expander |
-30 mm plano concave lens | Thorlabs | LC2679 | Plano concave lens for beam expander |
10 MHz Ultrasonic transducers | Harisonic | I31006T | Ultrasonic sensors used for photoacoustic detection, both for laser energy measurement and for OTPAS mount |
Immersion oil Type A | Cargille | 16482 | Index of 1.519 to match that of NBK-7 substrates |
Natural latex rubber sheet (red) | McMastercarr | 86085K11 | Index ~1.519 to match that of Type A immersion liquid to act as an optical absorber to measure optical tunneling and laser energy |
Laser goggles | VERE | 53 | Used to protect eyes from laser light |
Cage mounted non polarizing beam splitter cube | Thorlabs | CM1-BS013 | Split laser light so that one half can be measured and one half can be used for excitation |
Cage mounted polarizing beam splitter cube | Thorlabs | CM1-PBS251 | Ensure light is polarized before being used for optical tunneling experiments |
Graduated ring activated iris diaphragm | Thorlabs | SM1D12C | Cut beam down to a smaller size for alignment |
Data acquisition card | National Instruments | USB-5133 | USB oscilloscope to acquire data |
Stepper motor driver | National Instruments | MID-7604 | Stepper motor driver to drive stepper motors for angular spectra |
Sherline XY stage (14”) | Sherline | 5600-CNC/5610-CNC | Sherline XY stage |
4-jaw self centering chuck | Sherline | 1076/1034 | Sherline rotational attachment |
Right angle attachment | Sherline | 3701 | Right angle attachment to attach rotational mount |
CNC rotary table | Sherline | 8730 | Rotary table for holding OTPAS prism/sample |
Surelite I-20 laser system | Continuum | I-20 | Q-switched Nd:YAG laser for exciting samples |
NBK-7 prism | Thorlabs | PS911 | Right angle prism for EFPA |
Adjustable torque wrench | Tohnichi | RTD40Z | Adjustable torque wrench to equally tighten down the EFPA mount for each technique to 16.75 g/mm |
Digital level | Micromark | 84519 | Digital level to ensure EFPA prism holder starts at 0 degrees. |