Summary

Intégration de la Lumière de piégeage argent Nanostructures dans hydrogénée microcristalline cellules solaires en silicium par impression par transfert

Published: November 09, 2015
doi:

Summary

A viable transfer printing-based methodology to introduce plasmonic metal nanostructures in solar cells is described. Using nanopillar poly(dimethylsiloxane) stamps, an Ag-based ordered nanodisk array was integrated with standard hydrogenated microcrystalline Si solar cells, which led to improved device performances due to plasmonic light trapping.

Abstract

One of the potential applications of metal nanostructures is light trapping in solar cells, where unique optical properties of nanosized metals, commonly known as plasmonic effects, play an important role. Research in this field has, however, been impeded owing to the difficulty of fabricating devices containing the desired functional metal nanostructures. In order to provide a viable strategy to this issue, we herein show a transfer printing-based approach that allows the quick and low-cost integration of designed metal nanostructures with a variety of device architectures, including solar cells. Nanopillar poly(dimethylsiloxane) (PDMS) stamps were fabricated from a commercially available nanohole plastic film as a master mold. On this nanopatterned PDMS stamps, Ag films were deposited, which were then transfer-printed onto block copolymer (binding layer)-coated hydrogenated microcrystalline Si (µc-Si:H) surface to afford ordered Ag nanodisk structures. It was confirmed that the resulting Ag nanodisk-incorporated µc-Si:H solar cells show higher performances compared to a cell without the transfer-printed Ag nanodisks, thanks to plasmonic light trapping effect derived from the Ag nanodisks. Because of the simplicity and versatility, further device application would also be feasible thorough this approach.

Introduction

Il ya eu une demande de longue date pour l'application de nanostructures fonctionnelles dans un large éventail de domaines technologiques. Une des attentes de cette tendance est d'ouvrir une nouvelle conception des architectures de dispositifs conduisant à des performances améliorées ou novatrices. Dans le domaine des cellules solaires, par exemple, l'utilisation de nanostructures métalliques a été activement exploré en raison de leurs propriétés intrigantes optiques (c.-à-plasmoniques), 1 potentiellement bénéfique pour construire des systèmes efficaces de lumière de piégeage. 2,3 études En effet, certains théoriques 4 -6 ont suggéré qu'une telle piégeage de lumière plasmonique pourrait avoir des effets qui dépassent les optiques de rayons classiques (de texturing) à base de limite de piégeage de la lumière. 7 En conséquence, l'élaboration de stratégies pour intégrer les nanostructures métalliques désirés avec des cellules solaires est devenu de plus en plus importante pour réaliser ces prédictions théoriques.

Un certain nombre de stratégies ontété proposées pour répondre à ce défi 8-24. Ceux-ci comprennent, par exemple, simple (low-cost) de recuit thermique de films métalliques ou 8,9 dispersion des nanoparticules métalliques pré-synthétisé, 10,11 qui tous deux ont abouti à des démonstrations réussies plasmonique piégeage de la lumière. Cependant, il convient de souligner que les nanostructures métalliques fabriqués par ces approches sont généralement difficiles à correspondre aux modèles théoriques. En revanche, les techniques de nanofabrication traditionnels dans les industries de semi-conducteurs, tels que la photolithographie et faisceau d'électrons lithographie, 12,13 peuvent contrôler des structures bien en dessous du niveau de nm sous-100, mais ils sont souvent trop coûteux et fastidieux à appliquer aux cellules solaires, où la capacité de grande surface à faible coût est essentielle. Afin de remplir le faible coût, à haut débit, et les exigences de grande surface avec l'échelle nanométrique contrôlabilité, des méthodes telles que la lithographie par nano, 14-16 lithographie douce, 17,18 </sup> Nanosphères lithographie, 19-21 et le trou-masque lithographie colloïdale 22-24 serait prometteur. Parmi ces choix, nous avons développé une lithographie douce, technique avancée d'impression par transfert. 25 L'utilisation d'un poly nanostructuré (diméthylsiloxane) (PDMS) timbres et des couches adhésives à base de copolymère bloc, motif de nanostructures métalliques commandés pourrait être facilement atteint sur ​​un certain nombre de technologies de les documents pertinents, y compris ceux pour les cellules solaires.

L'objectif de cet article est de décrire la procédure détaillée de notre approche de transfert d'impression à intégrer la lumière piégeage nanostructures plasmoniques efficaces dans les structures de cellules solaires existantes. Comme un cas démonstratif, nanodisques AG et à couche mince hydrogénées microcristalline Si (uC-Si: H) des cellules solaires ont été sélectionnés dans cette étude (Figure 1), 26 bien que d'autres types de métaux et les cellules solaires sont compatibles avec cette approche. Avec son processusla simplicité, l'approche serait d'intérêt pour divers chercheurs comme un outil pratique pour intégrer les nanostructures métalliques fonctionnelles avec des appareils.

Protocol

1. Préparation de PDMS Timbres Définir un moule de nanotrou (cyclo nanoimprinted film plastique de polymère d'oléfine, taille: 50 mm x 50 mm) dans un polytétrafluoroéthylène (PTFE) conteneur. Peser copolymère vinylméthylsiloxane-diméthylsiloxane (0,76 g pour le mm moule 50 mm × 50) dans une bouteille en verre jetable et le mélanger avec le complexe Pt-divinyltétraméthyldisiloxane (6 pi, en utilisant une micro pipette numérique avec une pointe de polypropylène à usage unique) et …

Representative Results

La figure 2 illustre le processus général de l'impression par transfert de nanodisques Ag sur la surface de uC-Si: H (n couche). En bref, un film d'Ag (épaisseur: 10 à 80 nm) est d'abord déposée sur la surface d'un timbre nanopilier de PDMS par évaporation sous faisceau d'électrons. En parallèle, une solution de -P2VP b de PS est déposée par centrifugation sur la surface d'un fraîchement préparée uC-Si: H n couche. Par la suite, une goutte…

Discussion

Dans cet article, un double-couche disque / PDMS doux composite a été utilisé comme matériaux de timbre. 27 Cette combinaison a été jugée essentielle pour reproduire précisément la nanostructure de parent dans le moule, ce qui était un tableau à trous ronds hexagonale serrée dont le diamètre de 230 nm, profondeur de 500 nm, et l'espacement des trous 460 nm de centre à centre. Lorsque seuls PDMS Soft a été utilisé, le timbre toujours abouti à une surface mal nanostructuré (par exemple, p…

Disclosures

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

The authors thank New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO) under Ministry of Economy, Trade, and Industry (METI), Japan, for the financial support.

Materials

Nanohole mold Scivax
http://www.scivax.com
FLH230/500-120
PTFE container Eishin
http://www.colbyeishin.com
n/a Custom made
Hard-PDMS materials Gelest
http://www.gelest.com/gelest/forms/Home/home.aspx
VDT-731 Vinylmethylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer
SIP6831.1 Pt-divinyltetramethyldisiloxane complex
HMS-301 Methylhydrosiloxane-dimethylsiloxane copolymer
2,4,6,8-tetramethyltetra-vinylcyclotetrasiloxane Sigma-Aldrich
http://www.sigmaaldrich.com
396281 Additive for hard-PDMS
Soft-PDMS materials Dow Corning
http://www.dowcorning.com
Sylgard-184 Silicone precursor
PS-b-P2VP Polymer Source
http://polymersource.com
P5742-S2VP Mn × 103 = 133-b-132
Glass/SnO2:F substrates Asahi Glass Co. Ltd.
http://www.agc.com/english/company
Type VU Chemical mechanical polished by D-process Inc. (http://d-process.jp/index.html) to flatten the surfaces
Detergent Fruuchi Chemical Co.
http://www.furuchi.co.jp/eng/main.htm
Semico-clean 56 Used for the cleaning of Glass/SnO2:F substrates
ZnO:Ga supputtering target AGC Ceramics Co. Ltd.
http://www.agcc.jp/2005/en/index.html
5.7GZO
Ag supputtering target Mitsubishi Materials Co.
http://www.mitsubishicarbide.com/mmc/en/index.html
4NAg
Double-sided adhesive tape Nisshin EM Co.
http://nisshin-em.co.jp/information/carbontape.html
732
Polyimide tape Dupont
http://www.dupont.com/products-and-services/membranes-films/polyimide-films/brands/kapton-polyimide-film.html
Kapton 650S#25
Sn-Zn-based Solder Kuroda Techno Co., Ltd.
http://www.kuroda-techno.com/english/index.html
Cerasolzer AL-200
Digital micro pipette Nichiryo
http://www.nichiryo.co.jp/en/product/pipette/ex/index.html
00-NPX2-20
00-NPX2-200
00-NPX2-1000
Heating chamber Tokyo Rikakikai Co., Ltd.
http://www.eyelaworld.com/product_view.php?id=120
VOS-201SD
Electron beam evaporator
(two types)
Canon-Anelva
https://www.canon-anelva.co.jp/english/index.html
n/a Custom made
Arios
http://arios.com/
n/a Custom made
Sputtering system Ulvac
http://www.ulvac.co.jp/en
SBR-2306
PECVD system  Shimadzu Emit Co. Ltd.
http://www.shimadzu.co.jp/emit/en/
SLCM-13
Ar plasma system  Diner Electric Gmbh
http://www.plasma.de/index.html
Femto 
RIE system Samco Inc.
http://www.samcointl.com
RIE-10NR
Ultrasonic soldering device Colby-Eishin Enterprises, Inc.
http://www.colbyeishin.com/sub_sunbonder.htm
SUNBONDER
EQE measurement system Bunkoukeiki Co. Ltd.
http://www.bunkoukeiki.co.jp/
CEP-25BXS
J-V characteristics measurement system OTENTOSUN-5S-I/V
Amorphous Si reference cell WPVS-NPB-S1 For light intensity calibration
Digital multi-meter Keithley Instruments Inc.
http://www.keithley.com/
2400

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Cite This Article
Mizuno, H., Sai, H., Matsubara, K., Takato, H., Kondo, M. Integration of Light Trapping Silver Nanostructures in Hydrogenated Microcrystalline Silicon Solar Cells by Transfer Printing. J. Vis. Exp. (105), e53276, doi:10.3791/53276 (2015).

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