Summary

Fabricación Nanogaps por Nanoskiving

Published: May 13, 2013
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Summary

La fabricación de, relación de aspecto alta eléctricamente direccionable (> 1000:1) nanocables de metal separadas por huecos de nanómetros individuales utilizando ya sea capas de sacrificio de aluminio y la plata o monocapas auto-ensambladas como plantillas se describe. Estas estructuras NANOGAP se fabrican sin una habitación limpia o cualquier proceso de foto-litográficas o de haz de electrones por una forma de litografía borde conocido como nanoskiving.

Abstract

Existen varios métodos de fabricación nanogaps con espacios controlados, pero el control preciso sobre el espacio sub-nanométrica entre dos electrodos-y generando en prácticas cantidades-sigue siendo un reto. La preparación de electrodos NANOGAP utilizando nanoskiving, que es una forma de litografía borde, es una técnica rápida, sencilla y de gran alcance. Este método es un proceso totalmente mecánico que no incluya ninguna foto o haz de electrones pasos litográficas y no requiere ningún equipo especial o de infraestructura, tales como salas limpias. Nanoskiving se utiliza para fabricar nanogaps eléctricamente direccionables con control sobre las tres dimensiones; la dimensión más pequeña de estas estructuras se define por el espesor de la capa de sacrificio (Al o Ag) o monocapas auto-ensambladas. Estos cables se pueden colocar manualmente por transportarlos en gotas de agua y electricidad son directamente direccionable, no se requieren más de litografía para conectarlos a unelectrómetro.

Introduction

En este trabajo se describe la fabricación de electricidad direccionables y de alta relación de aspecto nanocables de oro, separadas por espacios de nanómetros individuales que utilicen el vacío depositado aluminio y la plata como un sacrificio capas separadoras de espacios> 5 nm y monocapas auto-ensambladas (SAMs) de alkanedithiols los huecos tan pequeños como 1.7 nm. Hemos fabricado estas nanoestructuras sin una habitación limpia o cualquier proceso de fotolitografía por seccionamiento de estructuras de emparedado de oro separadas por un espaciador de sacrificio utilizando un ultramicrotomo, una forma de litografía borde conocido como nanoskiving. 1-3 Este método es una combinación de la deposición de metal fino películas y seccionado usando un ultramicrotomo. El paso principal en nanoskiving está rebanando secciones delgadas con un ultramicrotomo equipado con cuchilla de diamante que está unido a un bote lleno de agua para producir losas que son tan delgadas como ~ 30 nm. Ultramicrotomes se utilizan ampliamente para la preparación de muestras delgadas para formación de imágenes con óptica o eligenron microscopía y muchos de los la mayoría de los profesionales de la experiencia de ultramicrotomía provienen de un fondo biológica o médica. Hay varios métodos para fabricar nanogaps incluyendo uniones mecánicas de descanso, 4 de haz de electrones de litografía 5, revestimiento electroquímico, 6, 7, 8 electromigración enfocada litografía por haz de iones, 9 evaporación sombra, sonda de barrido 10 y microscopía de fuerza atómica, 11 de litografía en hilos , reglas 12 y moleculares. 13 Todos estos métodos tienen sus propias características y aplicaciones, pero la producción y direccionamiento nanogaps tanto en números útiles y con un control preciso sobre las dimensiones de la brecha sigue siendo un reto. Además, estos métodos tienen altos costos de operación, que se limitan a la clase de materiales que pueden sobrevivir a los procesos de grabado, y están limitadas en la resolución. Nanoskiving permite la rápida fabricación de nanocables eléctricamente-direccionables con SPACINgs de nanómetros individuales en la sobremesa. Estamos interesados ​​en la rápida creación de prototipos de nanoestructuras para la electrónica molecular, para el que los electrodos nano-fabricados no requieren técnicas especializadas o de tiempo; 14 una vez que se hace un bloque, puede producir cientos de miles de nanoestructuras, (serie) en demanda. Sin embargo, la técnica no se limita a SAM o la electrónica molecular y es un método general para la preparación de un hueco entre dos nanoestructuras. En este trabajo se utiliza la plata, el aluminio y SAM como capas de sacrificio para producir lagunas de diversos tamaños entre los nanocables de oro, pero la técnica no se limita a estos materiales (o nanocables metálicos). Los alambres son de pick-and-place y son compatibles con la alineación magnética, así que se pueden colocar sobre sustratos arbitrarias. 15 Otro punto fuerte de nanoskiving es que proporciona control sobre las tres dimensiones. Las dimensiones de las muestras se determinan por la topografía del sustrato (X), laespesor de la película depositada (Y) y el espesor de la losa producido por el ultramicrotomo (Z). Figura 1 resume el procedimiento usado para producir los nanocables con la distancia definida. Características de oro (1-2 mm de longitud) se depositan por evaporación a través de una máscara de teflón sobre un sustrato de silicio. Epofix (Microscopía Electrónica de Ciencias) epoxi pre-polímero se vierte sobre toda la oblea, que cubre las características de oro, cuando se cura la resina epoxi, la resina se separa de la oblea (es decir, a través de la plantilla de extracción); las características de oro permanecen adheridos a la epoxi . Para capas de sacrificio metálicos, de aluminio o de plata se evapora con el espesor deseado a través de la máscara de Teflón con un desplazamiento de 200 – 500 micras sobre las características de oro. Para producir sub-5 lagunas nm, un SAM se forma por inmersión de las características de oro en una solución etanólica de 1 mM del ditiol apropiado durante la noche. Un segundo conjunto de oro (u otro metal) se deposita mediante la colocación de la máscara de sombra de teflón sobre elprimera capa de características de oro (cubierto de plata, de aluminio o de una SAM) con un desplazamiento de 200 – 500 micras con respecto a la primera evaporación. Este desplazamiento se define finalmente la dimensión más larga de la brecha, y puede ser medido con precisión utilizando un micro-regla antes de clavarse toda la estructura en epoxi para seccionar. A continuación, toda la estructura está incrustado en un bloque de epoxi que entonces podría estar listo para seccionar la ultramicrótomo. El brazo de muestreo mantiene el bloque preparado medida que avanza la cuchilla de diamante hacia ella en pasos controlados que definirán el espesor de las losas. La sección resultante flota en el agua en el barco.

Protocol

1. Preparación de un bloque de seccionamiento Tratar a un 3 "oblea de silicio de grado técnico en un plasma de aire más limpio durante 30 segundos y, a continuación exponerlo a (tridecafluoro-1, 1,2,2,-tetrahydrooctyl) vapor de triclorosilano durante una hora Nota:. Este paso es necesario antes de la paso 1.4 para evitar que el epoxi se adhiera a la oblea de silicio. Depositar una capa de oro (por lo general 100 nm de espesor, que definen la anchura de los alambres) a trav?…

Representative Results

Preparamos estructuras NANOGAP incorporando dos capas sacrificiales metálicos como el separador: aluminio y plata. Hemos grabado al ácido estas capas para obtener lagunas del espesor deseado. Como se describe en la sección de Protocolo, después de la sección expusimos las estructuras que contienen plata a plasma de oxígeno, y los que contienen aluminio a HCl acuoso. Figura 2 muestra micrografías electrónicas de barrido (SEM) de los nanocables resultantes con separación a escala nanométrica. En…

Discussion

En este trabajo se demostró la fabricación de estructuras NANOGAP utilizando nanoskiving. Este método experimentalmente sencilla permite la producción de nanoestructuras en la tasa de alrededor de uno por segundo, con el control de las tres dimensiones. El tamaño de la brecha-se define mediante la incorporación de cualquiera de las capas sacrificiales de aluminio y la plata o monocapas auto-ensambladas de ditioles (que proporciona una resolución tan pequeña como una). Las nanoestructuras pueden ser colocados a m…

Disclosures

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

Este trabajo forma parte del Programa Solar Conjunto (JSP) de Hyet Solar y el Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie FOM, que forma parte de la Organización Holandesa para la Investigación Científica (NWO).

Materials

Reagent/Material
Epofix epoxy resin Electron Microscopy 1232
Sciences
Gold Schone Edelmetaal B.V
Aluminum Umicore Materials AG
Silver Umicore Materials AG
(tridecafluoro-1,1,2,2, ABCR GmbH co.KG 78560-45-9
-tetrahydrooctyl)
trichlorosilane
,12-dodecanedithiol Home-synthesised According to: Akkerman et. al., Nature. 441, 69-72 (2006)
,14-tetradecanedithiol synthesized in house According to: Akkerman et. al., Nature. 441, 69-72 (2006)
,16-hexadecanedithiol synthesized in house According to: Akkerman et. al., Nature. 441, 69-72 (2006)
Equipment
Thermal deposition system home-built
Ultramicrotome Leica Microsystems
Dimanod knife ultra 35 Diatome DU3540
Dimanod knife ultra 45 Scimed GMBH
Scanning electron microscope JOEL
Source meter Keithley
Table 1. Tables of Specific Reagents and Equipment.

References

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Cite This Article
Pourhossein, P., Chiechi, R. C. Fabricating Nanogaps by Nanoskiving. J. Vis. Exp. (75), e50406, doi:10.3791/50406 (2013).

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