Journal
/
Química
/
U2O5 Film Vorbereitung über UO2 Ablagerung von Gleichstrom-Sputtern und aufeinanderfolgenden Oxidation und Reduktion mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff
JoVE Journal
Química
This content is Free Access.
JoVE Journal Química
U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

U2O5 Film Vorbereitung über UO2 Ablagerung von Gleichstrom-Sputtern und aufeinanderfolgenden Oxidation und Reduktion mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff

DOI:
10.3791/59017-v

•

12:05 min

•

February 21, 2019

•

, , ,
1European Commission, Joint Research Centre,Directorate for Nuclear Safety and Security

Capítulos

  • 00:04Título
  • 01:06The Labstation Modular Machine
  • 02:11Introduction of the Sample and Sample Holder into the Labstation
  • 03:10Transfer the Sample Holder to the Preparation Chamber
  • 04:03In situ Cleaning of the Sample Holder and Sample Holder Characterization
  • 05:39Deposition of a UO2 Thin Film
  • 06:50UO2 Sample Characterization
  • 07:38Oxidation of UO2 with Atomic Oxygen and Analysis of the UO3 Obtained
  • 08:52Reduction of UO3 by Atomic Hydrogen and Analysis of the U2O5 Obtained
  • 09:45Results: Identification of Uranium(V) in Thin Films
  • 10:51Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Dieses Protokoll stellt die Vorbereitung der U2O5 Dünnfilme erhalten in Situ im Ultra-Hochvakuum. Der Prozess umfasst Oxidation und Reduktion von UO2 Filme mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff, beziehungsweise.

Tags

Keywords: U2O5UO2Thin FilmSputteringOxidationReductionAtomic OxygenAtomic HydrogenUranium OxidesSurface CompositionX-ray Photoelectron SpectroscopyNitridesCarbidesUltra-high VacuumSample PreparationGold SubstrateLoading ChamberVacuum System

Article

Embed

ADICIONAR À PLAYLIST

Usage Statistics

Vídeos Relacionados

check_url/pt/59017?article_type=v

Herstellung von hydrophoben Metall-organische Gerüste über Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition von Perfluoralkanen für die Beseitigung von Ammoniak
check_url/pt/59017?article_type=v

Kritischer Stickstoff Verarbeitung für die Reinigung von Reactive Porous Materials
check_url/pt/59017?article_type=v

Herstellung von makroporösen Epitaxial-Quarz-Films auf Silizium durch Chemical Solution Deposition
check_url/pt/59017?article_type=v

Eine Methode, die Oberflächenspannung eines Liquid Metal manipulieren via Oberfläche Oxidation und Reduktion
check_url/pt/59017?article_type=v

Epitaxie Perowskit Strontiumtitanat auf Germanium über Atomic Layer Deposition
check_url/pt/59017?article_type=v

Eine einfache, kostengünstige und robuste System das Volumen an Wasserstoff durch chemische Reaktionen mit wässrigen Lösungen Evolved messen
check_url/pt/59017?article_type=v

Ein optimiertes Protokoll für die effiziente radioaktive Markierung von Gold-Nanopartikeln durch eine Verwendung von<sup> 125</sup> I-markiertem Azide prosthetische Gruppe
check_url/pt/59017?article_type=v

Synthese von Platin-Nickel Nanodrähte und Optimierung für Sauerstoff Leistung
check_url/pt/59017?article_type=v

Eine schnelle Synthese-Methode für Au, Pd und Pt-Aerogelen über lösungsorientierte Direktreduktion
check_url/pt/59017?article_type=v

Salzschmelze Synthese von komplexen Metall-Oxid-Nanopartikel

Read Article