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記録と刺激アプリケーションの高接触密度、フラットインターフェイスの神経電極の作製
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October 04, 2016
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この記事では、高い接触密度フラットインタフェース神経電極（FINE）の製造工程の詳細な説明を提供します。この電極は、末梢神経内で選択的神経活動を記録し、刺激のために最適化されています。
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Dweiri, Y. M., Stone, M. A., Tyler, D. J., McCallum, G. A., Durand, D. M. Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications. J. Vis. Exp. (116), e54388, doi:10.3791/54388 (2016).
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