Journal
/
Engenharia
/
Area selettiva Modifica della Silicon bagnabilità della superficie da impulsi laser UV irradiazione in ambiente liquido
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Area selettiva Modifica della Silicon bagnabilità della superficie da impulsi laser UV irradiazione in ambiente liquido

DOI:
10.3791/52720-v

•

08:48 min

•

November 09, 2015

•

, ,
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering,Université de Sherbrooke

Capítulos

  • 00:05Título
  • 01:24Sample Preparation
  • 02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
  • 03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
  • 03:56Contact Angle Measurement
  • 05:05XPS Measurement
  • 05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
  • 07:10Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Riportiamo un processo di alterazione in situ di HF trattata Si (001) superficie in uno stato idrofilo o idrofobo irradiando campioni in camere microfluidica riempiti con H 2 O 2 / H 2 O soluzione (0,01% -0,5%) o soluzioni di metanolo per mezzo del laser pulsato UV di un parente a bassa fluenza impulso.

Tags

Silicon Surface WettabilityPulsed UV Laser IrradiationLiquid EnvironmentSuperhydrophilicHydrophobicSurface FunctionalizationBiosensingOH-terminated SiSi-OCH3 Compounds

Article

Embed

ADICIONAR À PLAYLIST

Usage Statistics

Vídeos Relacionados

Indagine su Evolution Plasma precoce indotta da impulsi laser ultracorti

Caratterizzazione delle modificazioni superficiali di White Interferometria Luce: Applicazioni in Ion Sputtering, ablazione laser, ed esperimenti Tribologia

Fabbricazione di nano-ingegneria trasparenti Ossidi Conducting da Pulsed Laser Deposition

Visualizzazione di Liquid High Speed ​​Jet Occlusione su una superficie mobile

Integrazione di luce Trapping Argento Nanostrutture in silicio microcristallino idrogenato celle solari tramite bonifico stampa

Automazione della modalità di bloccaggio in una rotazione in fibra laser non lineare di polarizzazione attraverso l'uscita di polarizzazione Misure

Emissione spettroscopica Boundary Investigation strato durante ablativo Material Testing in Plasmatron

Fabbricazione ad alta temperatura di Nanostrutturati di ossido di ittrio stabilizzato-Zirconia (YSZ) Ponteggi da<em> In Situ</em> Carbon Templating xerogel

Preparazione delle reti di cristalli liquidi per moto oscillatorio macroscopica indotta da luce

Analisi quantitativa della fusione a induzione sottovuoto mediante spettroscopia di ripartizione indotta da laser

Read Article