This content is Free Access.
परिसर ऑक्साइड फिल्मों की पतली epitaxial विकास के लिए atomically परिभाषित टेम्पलेट्स
Capítulos
- 00:05Título
- 01:15Atomically Smooth, Singly Terminated Dysprosium Scandate Surfaces
- 03:46Seed Layers of Nanosheets on Arbitrary Substrates
- 06:43Results: Characterization of the Templates
- 08:21Conclusion
विभिन्न प्रक्रियाओं जटिल ऑक्साइड पतली फिल्मों का epitaxial विकास के लिए atomically परिभाषित टेम्पलेट्स तैयार करने के लिए रेखांकित कर रहे हैं। एकल क्रिस्टलीय SrTiO 3 (001) और DyScO 3 का रासायनिक उपचार (110) substrates के atomically चिकनी, एकल समाप्त कर सतहों प्राप्त करने के लिए प्रदर्शन किया गया। CA दो नायब 3 ओ - 10 nanosheets मनमाना substrates पर atomically परिभाषित टेम्पलेट्स बनाने के लिए इस्तेमाल किया गया।
Tags
Epitaxial GrowthComplex Oxide Thin FilmsAtomically Defined Substrate SurfacesSrTiO3 (001)DyScO3 (110)Wet EtchingAnnealingSingle Terminated SurfacesHeteroepitaxial GrowthPerovskite Oxide Thin FilmsLangmuir-Blodgett DepositionNanosheetsCa2Nb3O10- NanosheetsLayered Parent Compound HCa2Nb3O10Seed LayersArbitrary Substrates
