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Atomar definierte Vorlagen Epitaxieausrüstung komplexer Oxide Thin Films
Capítulos
- 00:05Título
- 01:15Atomically Smooth, Singly Terminated Dysprosium Scandate Surfaces
- 03:46Seed Layers of Nanosheets on Arbitrary Substrates
- 06:43Results: Characterization of the Templates
- 08:21Conclusion
Verschiedene Verfahren werden beschrieben, um atomar definierten Vorlagen Epitaxieausrüstung komplexer Oxiddünnschichten vorzubereiten. Chemische Behandlungen von einkristallinen SrTiO 3 (001) und DyScO 3 (110) Substrate wurden durchgeführt, um atomar glatte, Einzelterminierten Oberflächen zu erhalten. Ca 2 Nb 3 O 10 - Nanoschichten wurden verwendet, um atomar definierten Vorlagen auf beliebigen Substraten zu schaffen.
Tags
Epitaxial GrowthComplex Oxide Thin FilmsAtomically Defined Substrate SurfacesSrTiO3 (001)DyScO3 (110)Wet EtchingAnnealingSingle Terminated SurfacesHeteroepitaxial GrowthPerovskite Oxide Thin FilmsLangmuir-Blodgett DepositionNanosheetsCa2Nb3O10- NanosheetsLayered Parent Compound HCa2Nb3O10Seed LayersArbitrary Substrates
