Представлен ряд различных процедур подготовки наночастиц для анализа поверхности (капельное литье, спиновое покрытие, осаждение из порошков и криофиксация). Мы обсуждаем проблемы, возможности и возможные применения каждого метода, особенно в отношении изменений свойств поверхности, вызванных различными методами приготовления.
Наночастицы привлекают все большее внимание в последние годы из-за их потенциала и применения в различных областях, включая медицину, косметику, химию, а также их потенциал для создания передовых материалов. Для эффективного понимания и регулирования физико-химических свойств и потенциальных неблагоприятных эффектов наночастиц необходимо разработать проверенные процедуры измерения различных свойств наночастиц. Хотя процедуры измерения размера и распределения наночастиц уже установлены, стандартизированные методы анализа химического состава их поверхности еще не существуют, хотя влияние химического состава поверхности на свойства наночастиц неоспоримо. В частности, хранение и подготовка наночастиц для анализа поверхности сильно влияет на аналитические результаты различных методов, и для получения последовательных результатов подготовка образцов должна быть как оптимизирована, так и стандартизирована. В этом материале мы подробно представляем некоторые стандартные процедуры подготовки наночастиц для анализа поверхности. В принципе, наночастицы могут быть нанесены на подходящую подложку из суспензии или в виде порошка. Кремниевые (Si) пластины обычно используются в качестве подложки, однако их очистка имеет решающее значение для процесса. Для пробоподготовки из суспензии мы обсудим капельное литье и спин-покрытие, где не только чистота субстрата и чистота суспензии, но и ее концентрация играют важную роль для успеха методики приготовления. Для наночастиц с чувствительными лигандными оболочками или покрытиями более подходит осаждение в виде порошков, хотя этот метод требует особой осторожности при фиксации образца.
Наноматериалы определяются как материалы, имеющие любой внешний размер от 1 нм до 100 нм или имеющие внутреннюю или поверхностную структуру в этом масштабе1. Из-за уникальных свойств, возникающих из-за их небольшого масштаба и, соответственно, большой площади поверхности (среди других факторов), они находят все большее применение в самых разных областях, включая сельское хозяйство, химию, автомобильное строительство, косметику, окружающую среду, медицину, печать, энергетику и текстиль. Это более широкое использование означает, что как человек, так и окружающая среда будут подвергаться воздействию, в доселе неизвестных масштабов, этим материалам, токсикологические свойства которых еще не полностью известны и размер которых позволяет их легко интегрировать в биологические или экологические системы2.
После определения фундаментальных свойств площади поверхности и распределения частиц по размерам/размерам химия поверхности и покрытия были определены в качестве наиболее важных свойств наноматериалов3; более мелкие частицы имеют более высокую площадь поверхности на единицу массы и, следовательно, более высокое отношение поверхностных к объемным атомам. Действительно, для наночастиц размером 1 нм более 70% атомов можно найти по углам или краям; это сильно влияет на свойства поверхности, такие как хемосорбция, которая сильно зависит от морфологии поверхности атомного масштаба4. Правила, касающиеся наноматериалов, требуют точных данных о физико-химических свойствах и надежных оценок токсикологических свойств этих материалов. Чтобы эффективно оценивать токсикологические свойства физических и химических свойств наноматериалов, сообщество наноматериалов требует надежных, стандартизированных и проверенных аналитических процедур. Такие проекты, как ACEnano5, направлены на сбор и корреляцию точных и проверяемых физических данных из наночастиц в рамках, позволяющих лучше регулировать и характеризовать наноматериалы. Это стремление к стандартизированным аналитическим процедурам также было поддержано редакторами ACS Nano, желающими «консолидировать и согласовать методы характеризации и минимальные уровни анализа материалов6». Кроме того, XPS и ToF-SIMS предлагают новые возможности для выяснения архитектуры частиц наночастиц ядра-оболочки7,8.
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS) и масс-спектрометрия вторичных ионов (ToF-SIMS), сравниваемые в таблице 1, являются хорошо зарекомендовавшими себя методами исследования поверхностных атомов. В XPS образец облучают рентгеновскими лучами, имеющими энергию от 1 до 2 кэВ, вызывая испускание электронов из-за фотоэлектрического эффекта. Эти испускаемые электроны, имеющие кинетическую энергию в одном диапазоне, коррелируют с энергией связи электронов в твердом теле; поэтому появление фотоэлектронов при этих определенных энергиях связывания и измеримых интенсивностях позволяет проводить количественный анализ состава. Поскольку средний свободный путь этих фотоэлектронов ниже 10 нм, XPS является высокочувствительным к поверхности методом количественного анализа. Кроме того, детальный анализ энергий связи в спектрах с высоким разрешением позволяет количественно определить валентные состояния этих электронов.
В ToF-SIMS поверхность распыляется сфокусированным ионным пучком (первичными ионами), при этом ионы, выбрасываемые из материала (вторичные ионы), собираются и анализируются в масс-спектрометре времени пролета. Полученная картина масса/заряд позволяет определить элементный, изотопный или молекулярный состав. Из-за среднего свободного пути вторичных ионов этот метод также очень чувствителен к поверхности и имеет информационную глубину 1-2 нм, но в лучшем случае является полуколичественным из-за матричного эффекта, при котором вероятность ионизации (и, следовательно, выход) вторичных ионов сильно зависит от окружающей их матрицы. ToF-SIMS может работать как в статическом, так и в динамическом режиме; разница между ними заключается в первичном потоке ионов, воздействующем на поверхность. Статические SIMS удерживают поток первичных ионов на уровне, который воздействует (т.е. фрагменты) максимум на 1%-10% поверхности; поверхность остается относительно нетронутой, что позволяет анализировать верхние атомные слои материала. Поскольку даже статические SIMS вызывают некоторое разрушение поверхности, она считается менее «неразрушающей» из двух методов.
Эти поверхностно-чувствительные методы позволяют анализировать первые несколько нанометров материала, включая преднамеренные или непреднамеренные покрытия, которые для наноматериалов могут значительно влиять на свойства материала. Примерами преднамеренных покрытий являются укупорочные слои на квантовых точках для улучшения квантовых выходов фотолюминесценции и снижения реакционной способности окружающей среды9, глиноземные или кремнеземные покрытия для предотвращения фотокаталитической активности наночастиц титана в солнцезащитных блокаторах10, функционализация поверхности для обеспечения биоконъюгации и последующей биологической активности11, покрытия для диагностики и доставки лекарств12 , и фторуглеродные покрытия на магнитных частицах для ферромагнитных жидкостей и металлических систем сердечника-оболочки для улучшения свойств катализатора13. Непреднамеренные покрытия, такие как окисление, поверхностное загрязнение или белковые короны в биологических системах, оказывают столь же сильное влияние на свойства наночастиц, и крайне важно, чтобы экспериментальные процедуры подготовки гарантировали, что покрытие и, в более общем плане, химический состав поверхности наноматериала не разрушаются и не трансформируются. Также важно оценить свойства наночастиц, поскольку они находятся на месте, поскольку их свойства могут быть резко изменены изменением2,14,15. Кроме того, концентрация стабилизаторов в суспензии наночастиц может резко влиять на анализ и структурную целостность наночастиц; наличие стабилизатора может привести к большим нежелательным сигналам (например, C, H, O и Na) при анализе, в то время как его удаление может привести к повреждению или агломерации наночастиц.
Из-за их размера и площади поверхности условия хранения наночастиц также влияют на их поведение, как в виде хранимых порошков / суспензий, так и в виде подготовленных образцов. В различных исследованиях было показано, что эффект неоптимальных условий хранения, в частности хранения при комнатной температуре и воздействия света, вызывает деградацию наночастиц, которая, как было показано, изменяет физические, химические и/или токсикологические свойства частиц14,15,16,17,18 . Было показано, что меньшие наночастицы окисляются быстрее, чем более крупные, со скоростью окисления/деградации, зависящей от условий хранения15, а также химического состава поверхности14. Было показано, что эффекты деградации наночастиц во время хранения значительно влияют на физико-химические свойства, включая токсичность14, в то время как окислительный рост может протекать внутрь за счет ядра15.
Поэтому тщательное хранение и подготовка наноматериалов имеет важное значение для точного анализа поверхности, и любые факторы, которые могут повлиять на поверхность образца и/или качество измерений, должны быть тщательно рассмотрены. Следует отметить, что из-за относительно низкого пространственного разрешения XPS (в диапазоне мкм) и ToF-SIMS (несколько сотен нм) может быть исследовано лишь небольшое подмножество наночастиц; эти методы усредняются по площади и не имеют возможности изображать отдельные частицы, как это возможно с помощью таких методов, как электронная микроскопия. По этой причине любой анализ требует осаждения наночастиц в непрерывном слое, чтобы обеспечить отсутствие помех от подложки. Поэтому электронная микроскопия и XPS/ToF-SIMS часто используются вместе в качестве взаимодополняющих методов анализа наноматериалов.
Помимо изменений в химическом составе поверхности, основные задачи подготовки образцов наночастиц для анализа XPS и ToF-SIMS заключаются в подготовке слоя, который является: однородным, для повышения воспроизводимости; без зазоров, чтобы минимизировать вклад подложки в спектры; достаточно тонкий, чтобы избежать эффектов зарядки (для непроводящих образцов); и надежно фиксируется на подложке, чтобы избежать попадания свободных наночастиц и повреждения сверхвысоковакуумных приборов
Наночастицы могут быть нанесены на подложку из суспензии или в виде порошка. Во-первых, мы обсудим различные методы осаждения наночастиц из суспензии. Кремниевые пластины являются широко используемой подложкой для суспензионного осаждения, поскольку они относительно дешевы, легко доступны в виде высокочистого продукта, состоящего из чистого или легированного кремния (легирование позволяет избежать эффектов зарядки), а для большинства наночастиц спектральные пики не перекрываются с пиками, типичными для наночастиц. Этот последний пункт важен; перед анализом следует убедиться, что пики подложки хорошо отделены от пиков, ожидаемых от наночастиц, в противном случае интерпретация спектров затруднена или невозможна, и непрерывное покрытие подложки наночастицами не может быть проверено. Перед использованием кремниевых пластин необходима обширная процедура очистки (описанная в данной публикации) для удаления (органических) загрязнений и повышения смачиваемости поверхности. Другие подходящие подложки, такие как золотые пленки, высокоупорядоченный пиролитический графит (HOPG) или индиевая фольга, были успешно использованы, но обсуждение их приготовления выходит за рамки этой работы19,20,21,22.
Во-вторых, мы представляем методы нанесения порошков наночастиц на подложку для анализа XPS и ToF-SIMS и представляем преимущества и недостатки каждого метода, позволяя исследователям, новичкам в технике, найти оптимальный метод подготовки для своих целей. В-третьих, мы обсуждаем криофиксацию, которая является подходящим методом подготовки для сохранения таких признаков, как поведение агломерации, органическая корона, твердый /водный интерфейс23,24 или распределение в биологических средах25 NP. Криофиксация, как правило, быстрое замораживание материала в криогене с жидким азотным охлаждением и анализ в замороженно-гидратированном состоянии, позволяет анализировать и визуализировать наночастицы непосредственно в сложных матрицах. Эта процедура не вызывает образования кристаллов льда, но образует аморфный лед, который удерживает мембраны и клеточные и тканевые структуры в их естественном биологическом состоянии, избегая повреждений, вызванных процессами кристаллизации воды, и позволяя поддерживать точное химическое распределение всех клеточных метаболитов и соединений клеточных мембран26,27,28 . Этот способ получения может представлять особый интерес для представления точной химической карты фактического NP-агломерата или гетероагломерата, визуализации точного химического пространства в непосредственной близости от наночастицы непосредственно в суспензии или корреляции либо специфических особенностей клеточной ткани, либо внутриклеточных компартментов в NP-агломератах или гетероагломератах.
Как показали результаты, представленные в настоящей работе, наиболее подходящая процедура в конкретном случае зависит от множества параметров, таких как гидрофильность наночастиц, стабильность, проводимость, состояние (например, порошок или суспензия) и аналитический вопрос (например, размер, объемные свойства или поверхностные покрытия). Здесь представлены различные методы, которые могут быть использованы для подготовки НП к поверхностному анализу, а также сравнения их преимуществ и недостатков.
Представлен ряд методов подготовки наночастиц к анализу поверхности с использованием XPS и ToF-SIMS. Мы обобщили преимущества и недостатки этих методов, а также возможные источники ошибок и пригодности для различных материалов в таблице 2. Как показано в репрезентативных результатах, получение наночастиц может сильно повлиять на успех полученного анализа поверхности. Кроме того, не все способы подходят для всех типов частиц из-за таких факторов, как помехи сигнала с подложкой или монтажными материалами, эффекты зарядки в непроводящих толстых пленках, состояние наночастиц в виде порошка или суспензии, потенциальное повреждение чувствительных внешних слоев, разрушение биологических структур и информации об агрегации и интерфейсах или уязвимость чувствительных сверхвысокуумных приборов к свободным наночастицам.
Поскольку измерения XPS и ToF-SIMS усредняются по площади, а не измеряют отдельные частицы, можно получить только воспроизводимые результаты из однородных слоев; поэтому следует избегать агрегации или агломерации частиц на подложке. Кроме того, слишком толстые слои непроводящих материалов вызывают эффекты зарядки во время анализа, что может привести к нежелательным артефактам в спектрах, особенно частичной зарядке, которая не может быть компенсирована с помощью паводковой пушки. С другой стороны, неполные пленки показывают сильные сигналы от подложки или монтажных материалов (например, клеев), которые могут мешать чувствительным пикам с поверхности частиц. Идеальная толщина пленки зависит от материала и должна определяться экспериментально путем анализа пленок разной толщины. В частности, образцы, приготовленные с использованием спинового покрытия, должны быть проанализированы с помощью SEM для обеспечения полноты покрытия.
Работа с NP-суспензиями представляет меньшую опасность воздействия и требования безопасности по сравнению с работой с порошками NP. Капельное литье является относительно простым методом с низкими требованиями к оборудованию и особенно подходит для проводящих наночастиц в суспензии, где толщина пленки не является проблемой. В то время как образцы могут быть легко высушены в атмосферных условиях, вакуумный осушитель служит для сокращения времени высыхания капель, а также для защиты пластин от загрязнения. Кольцо Витона используется для изменения моделей испарения капель и тем самым сводит к минимуму образование кофейных колец. На схемы испарения также можно влиять путем изменения гидрофильности субстрата с использованием протоколов очистки или путем нанесения альтернативных покрытий51,52, путем испарения в атмосферах растворителя53 или даже путем нагревания подложки54. Спин-покрытие рекомендуется для суспензий непроводящих наночастиц в суспензии, поскольку оно способно генерировать однородный слой частиц, который достаточно тонкий, чтобы избежать эффектов зарядки, но все же достаточно толстый, чтобы предотвратить вклад Si-подложки в спектры XPS и ToF-SIMS. Для каждой отдельной системы и концентрации NP параметры центрифуги и спин-покрытия должны быть оптимизированы, но затем могут быть очень надежно воспроизведены даже на разных приборах. Поскольку капля со спин-покрытием всегда находится в середине пластины, радиус вращения не имеет значения, и можно использовать единицу «оборотов в минуту» (rpm). В качестве альтернативы суспензия может быть нанесена на пластину после запуска программы; однако для получения более толстого покрытия потребуются различные параметры спин-покрытия и большее количество суспензии.
Из-за своего чрезвычайно малого размера наночастицы могут отделяться от подложки и свободно перемещаться внутри сверхвысоковакуумной камеры при воздействии ионного или рентгеновского пучка. Это особая проблема для образцов, приготовленных с порошком. В некоторых случаях наночастицы могут проникать в чувствительные компоненты прибора, требуя дорогостоящего и трудоемкого обслуживания. Из-за приложенного напряжения ускорения опасность повреждения чувствительных деталей больше с ToF-SIMS, чем с XPS. Порошкообразные образцы, особенно те, которые подготовлены с использованием метода «stick and go», должны быть тщательно проверены, чтобы убедиться, что порошки достаточно надежно закреплены, особенно для анализа ToF-SIMS. Это может быть подтверждено, например, путем удержания образца вверх ногами и продувания через него потока газа (например, N2). Перед анализом образцы также могут быть оставлены на ночь в шлюзе или другой камере начального отбора проб прибора, где стабильный вакуум может указывать на отсутствие сыпучих частиц из образца. Наночастицы, приготовленные в виде гранул, однако, могут быть даже распылены (при низких напряжениях ускорения) без повреждения прибора; этот метод может устранить загрязняющие вещества, особенно углеводороды, вводимые из пресса, а также может обеспечить объемный анализ частиц.
Приготовление порошков NP в заглушке держателя образца позволяет подготовить образцы с определенной геометрией и макроскопически плоской поверхностью. Критическими точками являются чистота инструмента для прессования образца, а также использование низкого давления во избежание изменений поверхности наночастиц из-за этой процедуры. У него есть недостатки, заключающиеся в необходимости относительно большого количества материала, и потенциальные проблемы с потерей материала в высоковакуумных инструментах. Мы не рекомендуем этот метод для анализа ToF-SIMS, так как частицы не сжимаются и не защищаются каким-либо образом.
Что касается материала NP, то первым соображением при подготовке образца является устранение или сведение к минимуму помех между NP и субстратами из аналогичного материала; например, Si пластины являются неподходящей подложкой для анализа SiO2 NP с использованием XPS и ToF-SIMS, даже при достаточном покрытии образцов. Металлические или неорганические наночастицы могут быть легко проанализированы в виде порошка на клее (при условии, что они не содержат органических слоев или покрытий) из-за отсутствия помех сигнала между наночастицами и двусторонним клеем, способ приготовления, который был бы непригоден для полимерных NP. Металлические наночастицы имеют большую гибкость с точки зрения возможной толщины используемой пленки из-за отсутствия эффектов зарядки, и могут быть отлиты с относительно небольшим количеством оборудования; однако они, вероятно, содержат большое количество примесей и стабилизаторов от их синтеза, которые должны быть тщательно удалены без повреждения частиц. Полимерные наночастицы могут быть легче повреждены при прессовании матрицы, но также могут легче удерживаться вместе в грануле, в зависимости от используемого давления. Гранулы или мягкие органические покрытия на поверхности NP также могут быть чувствительны к повреждениям. Прямое осаждение из раствора может привести к повреждению чувствительных покрытий либо в процессе суспензии, либо в процессе сушки, но выгодно для анализа NP, уже присутствующих в суспензии. Криофиксация является подходящим методом для анализа химических структур, поверхностей или интерфейсов в суспензии, которые могут быть повреждены или разрушены различными другими методами подготовки образцов, но требует специализированного криоборудования как для XPS, так и для ToF-SIMS46’47.
Хотя в этой статье описывается несколько примерных методов, которые могут быть использованы для пробоподготовки, в каждом случае метод должен быть оптимизирован и проверен с использованием альтернативных аналитических методов. Недавно был опубликован подробный обзор влияния различных факторов22. Помимо разработки и валидации подходящих методов подготовки, документация этих этапов также имеет первостепенное значение40. В этой публикации представлены некоторые простые в обращении методы и руководство по изменению или разработке новых методов в соответствии с требованиями конкретной задачи.
The authors have nothing to disclose.
Этот проект получил финансирование от Программы Европейского Союза Horizon 2020 (H2020) в рамках грантового соглашения No 720952 (ACEnano). Авторы хотели бы поблагодарить Сигрид Бенеманн за измерения SEM, Маркуса Шнайдера за измерения ToF-SIMS и PCA, а также Филиппа Райхардта за помощь в съемках.
4-figure Laboratory balance | Kern & Sohn GmbH | ADB200-4A | |
5 mm Pellet die | Specac | GS03060 | |
Alkali glass cleaning solution | Sigma-Aldrich | Hellmanex™ III Z805939 | Special cleaning solution for cuvettes |
Carbon adhesive tabs | Plano | "Leit-Tabs" G3347 | |
Clean laboratory beakers | any | e.g. 300 mL | |
Cryo-freezer | Electron Microscopy Sciences | EMS-002 Cryo Workstation | |
Dialysis tube with fasteners | Medicell Membranees Ltd | DTV12000.06.30 | Molecular weight cut-off (MWCO) 12-14 kDa |
Die press | any | Capable of 2 kN force | |
Disposable syringe, 1 mL, Luer-slip | TH Geyer | Labsolute 7657545 | Any appropriate volume can be used |
Double-sided adhesive | 3M | Removable Repositionable Tape 665 | |
Dry ice | Linde AG | ICEBITZZZ® | For short term storage/cooling |
Eppendorf transfer pipette and tips | Eppendorf | various | Check correct size for planned pipetting volume |
Ethanol, ACS grade | Merck KGaA | 1009832500 | |
FFP2 or FFP3 mask | various | For working with nanoparticles from non-hazardous materials, when not in a fume hood or glove box | |
Isopropanol, ACS grade | Merck KGaA | 1096342500 | |
Lab coat, gloves and goggles | any | ||
Laboratory centrifuge | Eppendorf | Centrifuge 5430 | |
Laboratory fume hood | any | necessary for working with nanoparticles | |
Laboratory stirrer & stirrer bar | NeoLab | D-6010 | |
Lint-free wipes | Kimberley Clark Professional | Kimtech Science Precision wipes | Recommended for working with Si wafers |
Liquid Nitrogen | Linde AG | Stickstoff flüssig 5.0 | Only for cooling of the cryogen. |
Microtube/centrifuge tube 1,5 mL | T.H. Geyer GmbH & Co. KG | Labsolute 7696751 | |
Nitrogen 5.0 | any | 99.999% purity | |
Pasteur pipette, PE, plastic 3 mL | TH Geyer | Labsolute 7 691 203 | |
Pasteur pipette, PE, plastic 3 mL | TH Geyer | Labsolute 7 691 203 | |
Powder sample holder | BAM workshop | "Home-made" sample holder | |
Propane | Sigma-Aldrich | 769037 | The cryogen should be of highest possible purity. |
Sample vial or centrifuge tube 1 mL | Greiner Bio-One GmbH | Cellstar 188 261 | Should be capable of being fixed in the Vortexer |
Silicon wafers | any | ideally 1cm2 pre-cut | |
Spin-coater | SPS Europe | SPIN150i-NPP | |
Syringe filter 0,45 µm | Th Geyer | Labsolute 7699803 | For smaller samples; larger versions exist for larger sample volumes |
ToF-SIMS | IONTOF GmbH | ToF-SIMS IV or V, equipped with Bi LMIG and flood gun | |
Tweezers for handling Si wafers | any | ||
ultrapure water | TKA | MicroPure 08.1202 | |
Ultrasonicator | Bandelin | Sonorex Super | |
UV/Ozone cleaner | NanoBioAnalytics | UVC-1014 | |
Vacuum dessicator | any | ||
Vacuum pump (membrane/diaphragm) | Vacuubrand GmbH | Type MD-4T | |
Viton O-ring 6.07 x 1.78 mm | Betech GmbH | 2-010, FKM 80 | |
Vortexer | Heathrow Scientific | Vortexer HS120212 | |
Wafer Holder 25mm coin style | Semiconductor Production Systems Europe | eWB0091-ASSY-1 | |
XPS | Kratos | Kratos Axis Ultra DLD |