Se presentan varios procedimientos diferentes para preparar nanopartículas para el análisis de superficies (fundición por gota, recubrimiento por espín, deposición de polvos y criofijación). Discutimos los desafíos, oportunidades y posibles aplicaciones de cada método, particularmente con respecto a los cambios en las propiedades de la superficie causados por los diferentes métodos de preparación.
Las nanopartículas han ganado cada vez más atención en los últimos años debido a su potencial y aplicación en diferentes campos, incluidos la medicina, la cosmética, la química y su potencial para permitir materiales avanzados. Para comprender y regular eficazmente las propiedades físico-químicas y los posibles efectos adversos de las nanopartículas, es necesario desarrollar procedimientos de medición validados para las diversas propiedades de las nanopartículas. Si bien los procedimientos para medir el tamaño y la distribución del tamaño de las nanopartículas ya están establecidos, aún no se han establecido métodos estandarizados para el análisis de su química superficial, aunque la influencia de la química de la superficie en las propiedades de las nanopartículas es indiscutible. En particular, el almacenamiento y la preparación de nanopartículas para el análisis de superficies influyen fuertemente en los resultados analíticos de varios métodos, y para obtener resultados consistentes, la preparación de la muestra debe optimizarse y estandarizarse. En esta contribución, presentamos, en detalle, algunos procedimientos estándar para preparar nanopartículas para análisis de superficies. En principio, las nanopartículas se pueden depositar sobre un sustrato adecuado desde la suspensión o como polvo. Las obleas de silicio (Si) se usan comúnmente como sustrato, sin embargo, su limpieza es crítica para el proceso. Para la preparación de muestras a partir de la suspensión, discutiremos la fundición por gota y el recubrimiento por centrifugado, donde no solo la limpieza del sustrato y la pureza de la suspensión, sino también su concentración juegan un papel importante para el éxito de la metodología de preparación. Para nanopartículas con capas o recubrimientos de ligandos sensibles, la deposición como polvos es más adecuada, aunque este método requiere un cuidado particular en la fijación de la muestra.
Los nanomateriales se definen como materiales que tienen cualquier dimensión externa entre 1 nm y 100 nm o que tienen una estructura interna o superficial a esta escala1. Debido a las propiedades únicas que surgen de su pequeña escala y, en consecuencia, su gran superficie (entre otros factores), encuentran un uso cada vez mayor en una amplia variedad de campos, incluidos la agricultura, la química, la construcción automotriz, los cosméticos, el medio ambiente, la medicina, la impresión, la energía y los textiles. Este mayor uso significa que tanto el ser humano como el medio ambiente estarán expuestos, a una escala hasta ahora desconocida, a estos materiales cuyas propiedades toxicológicas aún no se conocen completamente, y cuyo tamaño permite su fácil integración en sistemas biológicos o ambientales2.
Después de las propiedades fundamentales del área de superficie y la distribución del tamaño de partícula / tamaño, la química de la superficie y los recubrimientos se identificaron como la propiedad más crucial de los nanomateriales3; Las partículas más pequeñas tienen un área de superficie más alta por unidad de masa y, por lo tanto, una mayor proporción de átomos superficiales a granel. De hecho, para nanopartículas de tamaño de 1 nm, más del 70% de los átomos se pueden encontrar en esquinas o bordes; esto influye fuertemente en las propiedades de la superficie, como la quimisorción, que depende en gran medida de la morfología de la superficie a escala atómica4. Las regulaciones que se ocupan de los nanomateriales requieren datos precisos sobre las propiedades fisicoquímicas y estimaciones confiables de las propiedades toxicológicas de estos materiales. Para estimar eficientemente las propiedades toxicológicas a partir de las propiedades físicas y químicas de los nanomateriales, la comunidad de nanomateriales requiere procedimientos analíticos confiables, estandarizados y verificados. Proyectos como ACEnano5 tienen como objetivo recopilar y correlacionar datos físicos precisos y verificables de nanopartículas en un marco que permita una mejor regulación y caracterización de los nanomateriales. Este impulso hacia procedimientos analíticos estandarizados también ha sido apoyado por los editores de ACS Nano, que desean “consolidar y acordar métodos de caracterización y niveles mínimos de análisis de materiales6“. Además, XPS y ToF-SIMS ofrecen nuevas posibilidades para dilucidar la arquitectura de partículas de las nanopartículas core-shell7,8.
La espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) y la espectrometría de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo (ToF-SIMS), comparadas en la Tabla 1, son métodos bien establecidos para la investigación de átomos de superficie. En XPS, la muestra se irradia con rayos X que tienen una energía entre 1 y 2 keV, causando emisión de electrones debido al efecto fotoeléctrico. Estos electrones emitidos, que tienen una energía cinética en el mismo rango, se correlacionan con la energía de unión de los electrones en el sólido; por lo tanto, la aparición de fotoelectrones en estas energías de unión definidas e intensidades medibles permite el análisis cuantitativo de la composición. Dado que la vía libre media de estos fotoelectrones es inferior a 10 nm, XPS es una técnica altamente sensible a la superficie para el análisis cuantitativo. Además, el análisis detallado de las energías de unión en espectros altamente resueltos permite la determinación cuantitativa de los estados de valencia de estos electrones.
En ToF-SIMS, la superficie se pulveriza con un haz de iones enfocado (iones primarios), con los iones expulsados del material (iones secundarios) recogidos y analizados en un espectrómetro de masas de tiempo de vuelo. El patrón de masa/carga obtenido permite la determinación de la composición elemental, isotópica o molecular. Debido a la vía libre media de los iones secundarios, esta técnica también es altamente sensible a la superficie y tiene una profundidad de información de 1-2 nm, pero es en el mejor de los casos semicuantitativa, debido al efecto de matriz por el cual la probabilidad de ionización (y por lo tanto el rendimiento) de los iones secundarios está fuertemente influenciada por su matriz circundante. ToF-SIMS se puede operar en modo estático o dinámico; la diferencia entre los dos es el flujo iónico primario que afecta a la superficie. El SIMS estático mantiene el flujo de iones primario a un nivel que impacta (es decir, fragmentos) en un máximo del 1% al 10% de la superficie; la superficie permanece relativamente intacta, lo que permite el análisis de las capas atómicas superiores de material. Dado que incluso el SIMS estático causa cierta destrucción en la superficie, se considera que es menos “no destructivo” de los dos métodos.
Estas técnicas sensibles a la superficie permiten el análisis de los primeros nanómetros del material, incluidos los recubrimientos intencionales o no intencionales, que, para los nanomateriales, pueden influir significativamente en las propiedades del material. Ejemplos de recubrimientos intencionales son capas de recubrimiento en puntos cuánticos para mejorar los rendimientos cuánticos de fotoluminiscencia y reducir la reactividad ambiental9, recubrimientos de alúmina o sílice para la prevención de la actividad fotocatalítica de nanopartículas de titania en bloqueadores solares10, funcionalización de superficies para permitir la bioconjugación y la actividad biológica posterior11, recubrimientos para aplicaciones de diagnóstico y administración de fármacos12 , y recubrimientos de fluorocarbono sobre partículas magnéticas para ferrofluidos y sistemas metálicos core-shell para mejorar las propiedades del catalizador13. Los recubrimientos no intencionales, como la oxidación, la contaminación superficial o las coronas de proteínas en los sistemas biológicos tienen una influencia igualmente fuerte en las propiedades de las nanopartículas y es crucial que los procedimientos de preparación experimental garanticen que el recubrimiento y, en general, la química superficial del nanomaterial no se destruyan ni transformen. También es crucial evaluar las propiedades de las nanopartículas tal como están in situ, ya que sus propiedades pueden verse drásticamente alteradas por el cambio2,14,15. Además, la concentración de estabilizadores en la suspensión de nanopartículas puede influir dramáticamente en el análisis y la integridad estructural de las nanopartículas; la presencia de un estabilizador puede dar lugar a grandes señales no deseadas (por ejemplo, C, H, O y Na) en el análisis, mientras que su eliminación puede provocar daños o aglomeración de las nanopartículas.
Debido a su tamaño y superficie, las condiciones de almacenamiento de las nanopartículas también afectan su comportamiento, tanto como polvos/suspensiones almacenados como muestras preparadas. En diversos estudios se ha demostrado que el efecto de las condiciones de almacenamiento subóptimas, en particular el almacenamiento a temperatura ambiente y la exposición a la luz, causan la degradación de las nanopartículas, lo que ha demostrado alterar las propiedades físicas, químicas y/o toxicológicas de las partículas14,15,16,17,18 . Se ha demostrado que las nanopartículas más pequeñas se oxidan más rápidamente que las más grandes con tasas de oxidación/degradación dependientes de las condiciones de almacenamiento15 y de la química de la superficie14. Se ha demostrado que los efectos de la degradación de las nanopartículas durante el almacenamiento afectan significativamente las propiedades fisicoquímicas, incluida la toxicidad14, mientras que el crecimiento oxidativo puede avanzar hacia el interior a expensas del núcleo15.
Por lo tanto, el almacenamiento y la preparación cuidadosos de los nanomateriales son esenciales para un análisis preciso de la superficie, y cualquier factor que pueda influir en la superficie de la muestra y / o la calidad de las mediciones debe considerarse cuidadosamente. Cabe señalar que debido a la resolución espacial relativamente baja de XPS (en el rango de μm) y ToF-SIMS (unos pocos cientos de nm), solo se puede investigar un pequeño subconjunto de las nanopartículas; estos métodos promedian sobre un área y no tienen la capacidad de obtener imágenes de partículas individuales como es posible con técnicas como la microscopía electrónica. Por esta razón, cualquier análisis requiere la deposición de las nanopartículas en una capa continua para garantizar que no haya interferencias del sustrato. Por lo tanto, la microscopía electrónica y XPS / ToF-SIMS se utilizan a menudo juntos como métodos complementarios para el análisis de nanomateriales.
Aparte de los cambios en la química de la superficie, los principales desafíos para la preparación de muestras de nanopartículas para el análisis XPS y ToF-SIMS son preparar una capa que sea: homogénea, para aumentar la reproducibilidad; gapless, para minimizar la contribución del sustrato a los espectros; lo suficientemente delgado como para evitar efectos de carga (para muestras no conductoras); y fijado de forma segura al sustrato, para evitar que las nanopartículas libres entren y dañen los instrumentos de ultra alto vacío
Las nanopartículas se pueden depositar sobre el sustrato desde la suspensión o como polvo. En primer lugar, discutiremos los diferentes métodos para depositar nanopartículas a partir de la suspensión. Las obleas de silicio son un sustrato comúnmente utilizado para la deposición en suspensión, porque son relativamente baratas, fácilmente disponibles como un producto altamente puro que consiste en silicio puro o dopado (el dopaje evita los efectos de carga), y para la mayoría de las nanopartículas los picos espectrales no se superponen con los picos típicos de las nanopartículas. Este último punto es importante; antes del análisis, debe asegurarse de que los picos del sustrato estén bien separados de los picos esperados de las nanopartículas, de lo contrario la interpretación de los espectros es complicada o imposible y no se puede verificar la cobertura continua del sustrato por parte de las nanopartículas. Antes de usar obleas de silicio, es necesario un procedimiento de limpieza extenso (descrito en esta publicación) para eliminar los contaminantes (orgánicos) y aumentar la humectabilidad de la superficie. Otros sustratos adecuados como películas de oro, grafito pirolítico altamente ordenado (HOPG) o láminas de indio se han utilizado con éxito, pero una discusión sobre su preparación está más allá del alcance de este trabajo19,20,21,22.
En segundo lugar, presentamos métodos para depositar polvos de nanopartículas en un sustrato para el análisis XPS y ToF-SIMS y presentamos las ventajas y desventajas de cada método, lo que permite a los investigadores nuevos en las técnicas encontrar el método de preparación óptimo para sus propósitos. En tercer lugar, discutimos la criofijación, que es un método de preparación adecuado para conservar características como el comportamiento de aglomeración, la corona orgánica, la interfaz sólido/acuosa23,24 o la distribución en medios biológicos25 de NP. La criofijación, típicamente congelación rápida de material en un criógeno líquido refrigerado por nitrógeno y análisis en estado congelado-hidratado, permite el análisis y visualización de nanopartículas directamente en matrices complejas. Este procedimiento no causa la formación de cristales de hielo, sino que forma hielo amorfo que mantiene las membranas y las estructuras celulares y tisulares en su estado biológico nativo, evitando el daño causado por los procesos de cristalización del agua y permitiendo mantener la distribución química exacta de todos los metabolitos celulares y compuestos de la membrana celular26,27,28 . Este método de preparación puede ser de particular interés para presentar un mapa químico exacto del aglomerado o heteroaglomerado NP real, visualizar el espacio químico exacto en las proximidades de la nanopartícula directamente en suspensión, o correlacionar características específicas del tejido celular o compartimentos intracelulares dentro de aglomerados o heteroaglorados NP.
Como se muestra a través de los resultados presentados en este trabajo, el procedimiento más adecuado en un caso particular depende de una variedad de parámetros como la hidrofilicidad, estabilidad, conductividad, estado (por ejemplo, polvo o suspensión) de las nanopartículas y la cuestión analítica en cuestión (por ejemplo, tamaño, propiedades a granel o recubrimientos superficiales). Aquí se presenta una variedad de métodos que se pueden utilizar para la preparación de NP para el análisis de superficie, así como una comparación de sus ventajas y desventajas.
Se han presentado varios métodos para la preparación de nanopartículas para el análisis de superficies utilizando XPS y ToF-SIMS. Hemos resumido las ventajas y desventajas de estos métodos, así como las posibles fuentes de error e idoneidad para diferentes materiales, en la Tabla 2. Como se muestra en los resultados representativos, la preparación de nanopartículas puede influir fuertemente en el éxito del análisis de superficie resultante. Además, no todos los métodos son adecuados para todos los tipos de partículas debido a factores como la interferencia de la señal con el sustrato o los materiales de montaje, los efectos de carga en películas gruesas no conductoras, el estado de las nanopartículas como polvo o suspensión, el daño potencial a las capas externas sensibles, la destrucción de estructuras biológicas e información sobre agregación e interfaces, o la vulnerabilidad de los instrumentos sensibles de ultra alto vacío a las nanopartículas libres.
Debido a que las mediciones de XPS y ToF-SIMS promedian sobre un área en lugar de medir partículas individuales, solo es posible obtener resultados reproducibles a partir de capas homogéneas; por lo tanto, debe evitarse la agregación o aglomeración de las partículas en el sustrato. Además, las capas demasiado gruesas de materiales no conductores causan efectos de carga durante el análisis, lo que puede conducir a artefactos no deseados en los espectros, especialmente la carga parcial que no se puede compensar con una pistola de inundación. Por otro lado, las películas incompletas muestran señales fuertes del sustrato o materiales de montaje (por ejemplo, adhesivos), que pueden interferir con picos sensibles de la superficie de partículas. El espesor ideal de la película depende del material y debe determinarse experimentalmente mediante el análisis de películas de diferentes espesores. En particular, las muestras preparadas con recubrimiento de espín deben analizarse con SEM para garantizar la integridad del recubrimiento.
Trabajar con suspensiones NP presenta menos riesgos de exposición y requisitos de seguridad en comparación con trabajar con polvos NP. La fundición por gota es un método relativamente simple con bajos requisitos de equipo y es particularmente adecuado para nanopartículas conductoras en suspensión donde el grosor de la película no es una preocupación. Si bien las muestras se pueden secar fácilmente en condiciones atmosféricas, el desecador al vacío sirve para reducir el tiempo de secado de las gotas, así como para proteger las obleas de la contaminación. El anillo Viton se utiliza para modificar los patrones de evaporación de la gota y, por lo tanto, minimizar la formación de anillos de café. Los patrones de evaporación también pueden verse influenciados por la variación de la hidrofilia del sustrato mediante protocolos de limpieza o por la aplicación de recubrimientos alternativos51,52, por la evaporación en atmósferas solventes53, o incluso por el calentamiento del sustrato54. El recubrimiento por espín se recomienda para suspensiones de nanopartículas no conductoras en suspensión porque es capaz de generar una capa de partículas homogénea que es lo suficientemente delgada como para evitar efectos de carga, pero lo suficientemente gruesa como para evitar que el sustrato de Si contribuya a los espectros XPS y ToF-SIMS. Para cada sistema NP individual y concentración, tanto la centrífuga como los parámetros de recubrimiento de espín deben optimizarse, pero luego se pueden reproducir de manera muy confiable incluso en diferentes instrumentos. Debido a que la gota recubierta de espín siempre está en el medio de la oblea, el radio de rotación es irrelevante y se puede usar la unidad “revoluciones por minuto” (rpm). Alternativamente, la suspensión podría depositarse en la oblea después de iniciar el programa; sin embargo, esto requeriría diferentes parámetros de recubrimiento de espín y una mayor cantidad de suspensión para obtener un recubrimiento más grueso.
Debido a su tamaño extremadamente pequeño, las nanopartículas pueden desprenderse del sustrato y moverse libremente dentro de la cámara de ultra alto vacío cuando se impactan con un haz de iones o rayos X. Este es un problema particular para las muestras preparadas con polvo. En algunos casos, las nanopartículas pueden penetrar en los componentes sensibles del instrumento, lo que requiere un mantenimiento costoso y lento. Debido al voltaje de aceleración aplicado, el peligro de dañar piezas sensibles es mayor con ToF-SIMS que con XPS. Las muestras en polvo, en particular las preparadas con el método “stick and go”, deben revisarse cuidadosamente para garantizar que los polvos se fijen de manera lo suficientemente segura, especialmente para el análisis ToF-SIMS. Esto se puede confirmar, por ejemplo, sosteniendo la muestra boca abajo y soplando una corriente de gas (por ejemplo, N2) a través de ella. Antes del análisis, las muestras también se pueden dejar durante la noche en la esclusa de aire u otra cámara de entrada de muestra inicial del instrumento, donde un vacío estable puede indicar que no hay partículas sueltas de la muestra. Las nanopartículas preparadas como gránulos, sin embargo, pueden incluso ser pulverizadas (a bajas tensiones de aceleración) sin dañar el instrumento; este método puede eliminar contaminantes, particularmente hidrocarburos, introducidos desde la prensa y también puede permitir el análisis a granel de las partículas.
La preparación de polvos NP en el talón del portamuestras permite la preparación de muestras con geometría definida y una superficie macroscópicamente plana. Los puntos críticos son la limpieza de la herramienta para presionar la muestra y el uso de una presión baja para evitar cambios en la superficie de las nanopartículas debido a este procedimiento. Tiene las desventajas de necesitar una cantidad relativamente alta de material y problemas potenciales con la pérdida de material en instrumentos de alto vacío. No recomendamos este método para el análisis ToF-SIMS, ya que las partículas no están comprimidas ni aseguradas de ninguna manera.
Con respecto al material NP, la primera consideración para la preparación de muestras es la eliminación o minimización de la interferencia entre NP y sustratos de material similar; por ejemplo, las obleas de Si son un sustrato inadecuado para el análisis de NP de SiO2 utilizando XPS y ToF-SIMS, incluso con suficiente cobertura de muestra. Las nanopartículas metálicas o inorgánicas pueden analizarse fácilmente como polvo en un adhesivo (suponiendo que no contengan capas o recubrimientos orgánicos) debido a la falta de interferencia de señal entre las nanopartículas y el adhesivo de doble cara, un método de preparación que no sería adecuado para NP poliméricos. Las nanopartículas metálicas tienen más flexibilidad en términos de posible espesor de película utilizado debido a la ausencia de efectos de carga, y pueden ser lanzados con relativamente poco equipo; sin embargo, es probable que contengan grandes cantidades de impurezas y estabilizadores de su síntesis, que deben eliminarse cuidadosamente sin dañar las partículas. Las nanopartículas poliméricas pueden dañarse más fácilmente por el prensado de troqueles, pero también pueden mantenerse unidas más fácilmente en el pellet, dependiendo de las presiones utilizadas. Los gránulos o recubrimientos orgánicos blandos en la superficie de NP también pueden ser sensibles al daño. La deposición directa de la solución tiene el potencial de dañar los recubrimientos sensibles, ya sea a través de la suspensión o el proceso de secado, pero es ventajosa para analizar los NP ya presentes en la suspensión. La criofijación es un método adecuado para el análisis de estructuras químicas, superficies o interfaces en suspensión que podrían dañarse o destruirse por otras técnicas de preparación de muestras, pero requiere un crioequipo especializado tanto para XPS como para ToF-SIMS46’47.
Si bien este documento describe varios métodos ejemplares que se pueden utilizar para la preparación de muestras, en todos los casos el método debe optimizarse y validarse utilizando métodos analíticos alternativos. Recientemente se publicó una descripción detallada de la influencia de diferentes factores22. Además del desarrollo y la validación de métodos de preparación adecuados, la documentación de estos pasos también es de suma importancia40. Esta publicación presenta algunos métodos fáciles de manejar y es una guía para modificar o desarrollar nuevos métodos de acuerdo con los requisitos de la tarea específica.
The authors have nothing to disclose.
Este proyecto ha recibido financiación del Programa Horizonte 2020 de la Unión Europea (H2020) en virtud del acuerdo de subvención n.º 720952 (ACEnano). A los autores les gustaría agradecer a Sigrid Benemann por las mediciones SEM, Markus Schneider por las mediciones ToF-SIMS y PCA, y Philipp Reichardt por la ayuda con la filmación.
4-figure Laboratory balance | Kern & Sohn GmbH | ADB200-4A | |
5 mm Pellet die | Specac | GS03060 | |
Alkali glass cleaning solution | Sigma-Aldrich | Hellmanex™ III Z805939 | Special cleaning solution for cuvettes |
Carbon adhesive tabs | Plano | "Leit-Tabs" G3347 | |
Clean laboratory beakers | any | e.g. 300 mL | |
Cryo-freezer | Electron Microscopy Sciences | EMS-002 Cryo Workstation | |
Dialysis tube with fasteners | Medicell Membranees Ltd | DTV12000.06.30 | Molecular weight cut-off (MWCO) 12-14 kDa |
Die press | any | Capable of 2 kN force | |
Disposable syringe, 1 mL, Luer-slip | TH Geyer | Labsolute 7657545 | Any appropriate volume can be used |
Double-sided adhesive | 3M | Removable Repositionable Tape 665 | |
Dry ice | Linde AG | ICEBITZZZ® | For short term storage/cooling |
Eppendorf transfer pipette and tips | Eppendorf | various | Check correct size for planned pipetting volume |
Ethanol, ACS grade | Merck KGaA | 1009832500 | |
FFP2 or FFP3 mask | various | For working with nanoparticles from non-hazardous materials, when not in a fume hood or glove box | |
Isopropanol, ACS grade | Merck KGaA | 1096342500 | |
Lab coat, gloves and goggles | any | ||
Laboratory centrifuge | Eppendorf | Centrifuge 5430 | |
Laboratory fume hood | any | necessary for working with nanoparticles | |
Laboratory stirrer & stirrer bar | NeoLab | D-6010 | |
Lint-free wipes | Kimberley Clark Professional | Kimtech Science Precision wipes | Recommended for working with Si wafers |
Liquid Nitrogen | Linde AG | Stickstoff flüssig 5.0 | Only for cooling of the cryogen. |
Microtube/centrifuge tube 1,5 mL | T.H. Geyer GmbH & Co. KG | Labsolute 7696751 | |
Nitrogen 5.0 | any | 99.999% purity | |
Pasteur pipette, PE, plastic 3 mL | TH Geyer | Labsolute 7 691 203 | |
Pasteur pipette, PE, plastic 3 mL | TH Geyer | Labsolute 7 691 203 | |
Powder sample holder | BAM workshop | "Home-made" sample holder | |
Propane | Sigma-Aldrich | 769037 | The cryogen should be of highest possible purity. |
Sample vial or centrifuge tube 1 mL | Greiner Bio-One GmbH | Cellstar 188 261 | Should be capable of being fixed in the Vortexer |
Silicon wafers | any | ideally 1cm2 pre-cut | |
Spin-coater | SPS Europe | SPIN150i-NPP | |
Syringe filter 0,45 µm | Th Geyer | Labsolute 7699803 | For smaller samples; larger versions exist for larger sample volumes |
ToF-SIMS | IONTOF GmbH | ToF-SIMS IV or V, equipped with Bi LMIG and flood gun | |
Tweezers for handling Si wafers | any | ||
ultrapure water | TKA | MicroPure 08.1202 | |
Ultrasonicator | Bandelin | Sonorex Super | |
UV/Ozone cleaner | NanoBioAnalytics | UVC-1014 | |
Vacuum dessicator | any | ||
Vacuum pump (membrane/diaphragm) | Vacuubrand GmbH | Type MD-4T | |
Viton O-ring 6.07 x 1.78 mm | Betech GmbH | 2-010, FKM 80 | |
Vortexer | Heathrow Scientific | Vortexer HS120212 | |
Wafer Holder 25mm coin style | Semiconductor Production Systems Europe | eWB0091-ASSY-1 | |
XPS | Kratos | Kratos Axis Ultra DLD |