큰 면적 기판 기반 Nanofabrication 출장 Dewetting 통해 제어 하 고 사용자 정의 금 나노 입자의

큰 지역 나노 필름 제조는 plasmonic 나노 입자^1,2, 의 사용과 태양 에너지 변환 및 고밀도 데이터 스토리지의 최근 기술 발전의 도입에 대 한 비판적으로 중요 한 ^{3 , 4 , 5}. 흥미롭게도, 조작 및 제어는 nanoscale에 빛의 수와 이러한 나노 입자를 제공 하는이 plasmonic 나노 입자 들의 자기 특성 이다. 빛의이 제어력 강화 하는 nanoscale에 사건 빛의 빛 함정 고 표면의 absorptivity를 증가 가능성을 제공 합니다. 이 같은 속성에 따라 고 데는 자성 하 고 자기 아닌 상태에서 나노 입자를가지고 있는 능력을, 과학자는 또한 고밀도 디지털 데이터 저장을 위한 새로운 플랫폼을 정의 하 게 됩니다. 이러한 응용 프로그램의 각, 그것은 중요 한 그 넓은 지역 및 저렴 한 nanofabrication 나노 크기, 간격, 및 모양을 제어할 수 있는 기술을 개발.

나노 입자를 생산 하기 위해 사용할 수 있는 기술은 주로 나노 리소 그래피, 상당한 확장성 있고 비용 문제를 기반으로 합니다. 날짜 하지만 이러한 기술의 확장성 문제를 해결 하기 위해 시도 하는 여러 다른 연구 되었습니다, 그리고 프로세스가 존재 하는 나노 입자 제조에 필요한 제어 수준을 제공 하 고 비용 및 시간에 대 한 충분히 효과적인 산업 응용 프로그램^{6,7,8,9,,1011}에 채용. 일부 최근 연구 노력 향상 제어 펄스 레이저 유도 dewetting (PLiD) 및 템플릿 고체 dewetting^12,,1314, 하지만 그들은 여전히 중요 한 요구 리소 그래피 단계 고 따라서 확장성 문제입니다.

이 원고에 시달려 채택이 확장성과 비용 문제를 해결 하는 nanofabrication 메서드의 프로토콜 및 나노 영화의 광범위 한 산업용 어플리케이션에서 사용 하는 것이 선물이. 이 처리 방법을 지시 하는 표면 에너지를 조작 하 여 생산된 나노 입자 크기와 간격의 제어할 수는 형성 하는 나노 입자의 자기 조립. 여기, 우리 금 나노 입자를 생산 하는 얇은 금 필름을 사용 하 여이 기술의 사용 방법을 설명 하지만 우리는 최근 니켈 필름을 사용 하 여이 방법의 약간 다른 버전을 출판 하 고 따라서이 기술은 어떤 원하는 금속을 사용할 수 있습니다. 이 방법의 목표는 프로세스의 복잡성 및 비용을 최소화 하면서 나노 필름을 생산 하 고 따라서 우리가 니켈-알 루미나 시스템에 원자 층 증 착 및 나노초 레이저 방사선을 사용 하 고 대체 우리의 이전 방법 수정 그들 물리적 증기 증 착 및 핫 플레이트. 니켈-알 루미나 시스템에 대 한 우리의 작업의 결과 또한 dewetting¹⁵후 표면 형태에 컨트롤의 허용 수준을 보여주었다.