使用静态器官培养研究腭融合的方法

口面裂是最主要的颅面先天缺陷。另外，当以在考虑所有可能的颅面畸形，这些是在新生儿²第二最常见的出生异常。腭裂发生在约1在每700出生在美国（美国）每年，腭裂的发生率等于475所生的子女，每月兔唇或15个孩子，每个^3天裂。世界各地的孩子大约有1％生每年展品某种形式的颅面畸形学的。

腭和唇的裂需要非常昂贵和复杂的过程与谁有这种异常的患者终生影响。估计费用为每一个病人口腔裂约为$ 10万个^4。与唇腭裂患者的治疗需要一个团队的医生，包括颅面外科，耳鼻喉科，遗传学家，麻醉医师，言语语言病理学家，营养学家，正牙医生，prosthodontists，心理学家，神经外科医生，和眼科医生。

在腭，次级腭产生作为副产物配对，最初垂直增长和经受舌头的鼻背上述腭搁板标高。随着海拔的配对腭增长对（在小鼠E14.5 -E15和9周人）中线。内侧缘上皮细胞（MEE），涵盖了架子尖端附着形成中线上皮煤层。

这之后是上皮至间质转变和/或凋亡，以允许充质汇合。反对MEE的附着力是一个重要事件，其​​变更导致腭裂。然而，只有少数研究调查了腭^5的初始粘合性。硬腭形式由分化的间充质细胞的成骨细胞。口感可以产生谱号的畸形发展吨口味有或没有唇部的参与。

腭器官培养技术被广泛应用于很多实验室在过去30年^6,7了。

在这个协议中，我们详细描述腭解剖和静态器官培养的方法。一动不动器官培养的优点是，它允许腭融合。这种技术已经被成功地用于在我们的实验室对许多聚变和信令实验^8,9。然而该技术的范围广阔，可以用于每当静态器官培养系统是必需的，包括响应外源性化学药剂的评价中，在不同的途径和特定蛋白质调节的生长因子的作用。

图1.鼠标腭，小鼠腭的发展阶段。（BF）扫描 ELE二级腭ctron显微照片（SEM）的代表发展时期。红色箭头：显示腭粘附和融合的初始部分。黄箭头：点到初级和次级口味融合后，将消失之间的空间（重印从考夫曼¹¹与许可PLOS之一）。