A viable transfer printing-based methodology to introduce plasmonic metal nanostructures in solar cells is described. Using nanopillar poly(dimethylsiloxane) stamps, an Ag-based ordered nanodisk array was integrated with standard hydrogenated microcrystalline Si solar cells, which led to improved device performances due to plasmonic light trapping.
One of the potential applications of metal nanostructures is light trapping in solar cells, where unique optical properties of nanosized metals, commonly known as plasmonic effects, play an important role. Research in this field has, however, been impeded owing to the difficulty of fabricating devices containing the desired functional metal nanostructures. In order to provide a viable strategy to this issue, we herein show a transfer printing-based approach that allows the quick and low-cost integration of designed metal nanostructures with a variety of device architectures, including solar cells. Nanopillar poly(dimethylsiloxane) (PDMS) stamps were fabricated from a commercially available nanohole plastic film as a master mold. On this nanopatterned PDMS stamps, Ag films were deposited, which were then transfer-printed onto block copolymer (binding layer)-coated hydrogenated microcrystalline Si (µc-Si:H) surface to afford ordered Ag nanodisk structures. It was confirmed that the resulting Ag nanodisk-incorporated µc-Si:H solar cells show higher performances compared to a cell without the transfer-printed Ag nanodisks, thanks to plasmonic light trapping effect derived from the Ag nanodisks. Because of the simplicity and versatility, further device application would also be feasible thorough this approach.
Teknolojik alanda geniş bir fonksiyonel nano uygulama için uzun süredir bir talep vardır. Bu eğilimin beklentilerden biri geliştirilmiş ya da yenilikçi performanslar giden cihazı mimarilerinin yeni tasarım açmaktır. Güneş pillerinin alanında, örneğin metal nano kullanımının etkin dolayı ilginç optik (yani plasmonik) özellikleri, etkili ışık yakalama sistemlerini inşa etmek 1 potansiyel olarak yararlı bir araştırılmaktadır. 2,3 Gerçekten de, bazı teorik çalışmalar 4 -6 gibi plasmonik ışık yakalama güneş hücreleri ile istenen metal nano entegre stratejiler geliştirmek, konvansiyonel ışın optiği (tekstüre) Sonuç olarak ışık yakalama sınırı. 7 tabanlı aşan etkileri elde edebiliriz ileri sürmüşlerdir bu gerçekleştirmek için giderek daha önemli hale gelmiştir teorik tahminler.
Çok sayıda strateji vardırBu şartları karşılamak için önerilmiştir. 8-24 Bu, örneğin, basit (düşük) metal filmlerle 8,9 ya da önceden sentezlenmiş metal nanopartiküller dispersiyon termal tavlama için 10,11, her ikisi de başarılı gösteriler sonuçlandı içerir plasmonik ışık yakalama. Ancak, bu yaklaşımların tarafından fabrikasyon metal nanoyapılar genellikle teorik modellere maç zorlu olduğunu işaret edilmelidir. Buna karşılık, böyle bir fotolitografi ve elektron demeti litografi gibi yarı iletken sektörlerinde geleneksel nanofabrikasyon teknikleri, 12,13 de alt 100 nm seviyesinin altında yapılar kontrol edebilirsiniz, ancak genellikle çok pahalı ve olan güneş hücreleri uygulamak için zaman alıcı, düşük maliyet ile burada büyük alanlı yeteneği şarttır. Düşük maliyetli, yüksek verim ve nano ölçekli kontrol edilebilirlik ile geniş alan gereksinimleri gibi nanoimprint litografi, 14-16 yumuşak litografi, 17,18 gibi yöntemler yerine getirmek için </sup> Nanokürecikli litografi, 19-21 ve delik maskesi kolloidal litografi 22-24 umut verici olurdu. Bu seçenekler arasında, biz yumuşak litografik, gelişmiş transfer baskı tekniği geliştirdik. 25 bir nanoyapılı poli (dimetilsiloksan) (PDMS) pulları ve blok kopolimer bazlı yapıştırıcı katmanları kullanarak sipariş metal nano desen kolayca teknolojik bir dizi sağlanabilir güneş pilleri için olanlar dahil olmak üzere ilgili maddeler.
Bu yazının amacı, güneş pili yapılarının mevcut etkili ışık yakalama plasmonik nano dahil bizim transfer baskı yaklaşımının detaylı prosedürü tarif etmektir. Metal ve güneş hücreleri için diğer tipleri bu yaklaşım ile uyumlu olan, ancak güneş hücreleri bu çalışmada seçilmiştir (Şekil 1), 26: demonstrasyon bir durum olarak, Ag nanodisks ve ince-film mikrokristalin Si (lH uc-Si) hidrojenlendi. Birlikte onun süreci ilebasitlik, yaklaşma cihazları ile fonksiyonel metal nano entegre kullanışlı bir araç gibi çeşitli araştırmacıların ilgi olacaktır.
Bu yazıda, bir çift katmanlı sert / yumuşak PDMS kompozit malzemeler damga olarak istihdam edildi. 27 Bu kombinasyon kesin çapı altıgen yakın dolu yuvarlak delikli bir dizi oldu kalıp, ebeveyn nano yapısını çoğaltmak için gerekli olduğu tespit edildi 230 nm, 500 nm derinliği ve 460 nm delik merkez-merkez aralığında bir. Sadece yumuşak PDMS kullanıldığında, damga her zaman kötü nanoyapılı yüzeyde sonuçlandı (örneğin, ters ayağı yapısında keskin kenar) düşük olması nede…
The authors have nothing to disclose.
The authors thank New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO) under Ministry of Economy, Trade, and Industry (METI), Japan, for the financial support.
Nanohole mold | Scivax http://www.scivax.com |
FLH230/500-120 | |
PTFE container | Eishin http://www.colbyeishin.com |
n/a | Custom made |
Hard-PDMS materials | Gelest http://www.gelest.com/gelest/forms/Home/home.aspx |
VDT-731 | Vinylmethylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer |
SIP6831.1 | Pt-divinyltetramethyldisiloxane complex | ||
HMS-301 | Methylhydrosiloxane-dimethylsiloxane copolymer | ||
2,4,6,8-tetramethyltetra-vinylcyclotetrasiloxane | Sigma-Aldrich http://www.sigmaaldrich.com |
396281 | Additive for hard-PDMS |
Soft-PDMS materials | Dow Corning http://www.dowcorning.com |
Sylgard-184 | Silicone precursor |
PS-b-P2VP | Polymer Source http://polymersource.com |
P5742-S2VP | Mn × 103 = 133-b-132 |
Glass/SnO2:F substrates | Asahi Glass Co. Ltd. http://www.agc.com/english/company |
Type VU | Chemical mechanical polished by D-process Inc. (http://d-process.jp/index.html) to flatten the surfaces |
Detergent | Fruuchi Chemical Co. http://www.furuchi.co.jp/eng/main.htm |
Semico-clean 56 | Used for the cleaning of Glass/SnO2:F substrates |
ZnO:Ga supputtering target | AGC Ceramics Co. Ltd. http://www.agcc.jp/2005/en/index.html |
5.7GZO | |
Ag supputtering target | Mitsubishi Materials Co. http://www.mitsubishicarbide.com/mmc/en/index.html |
4NAg | |
Double-sided adhesive tape | Nisshin EM Co. http://nisshin-em.co.jp/information/carbontape.html |
732 | |
Polyimide tape | Dupont http://www.dupont.com/products-and-services/membranes-films/polyimide-films/brands/kapton-polyimide-film.html |
Kapton 650S#25 | |
Sn-Zn-based Solder | Kuroda Techno Co., Ltd. http://www.kuroda-techno.com/english/index.html |
Cerasolzer AL-200 | |
Digital micro pipette | Nichiryo http://www.nichiryo.co.jp/en/product/pipette/ex/index.html |
00-NPX2-20 00-NPX2-200 00-NPX2-1000 |
|
Heating chamber | Tokyo Rikakikai Co., Ltd. http://www.eyelaworld.com/product_view.php?id=120 |
VOS-201SD | |
Electron beam evaporator (two types) |
Canon-Anelva https://www.canon-anelva.co.jp/english/index.html |
n/a | Custom made |
Arios http://arios.com/ |
n/a | Custom made | |
Sputtering system | Ulvac http://www.ulvac.co.jp/en |
SBR-2306 | |
PECVD system | Shimadzu Emit Co. Ltd. http://www.shimadzu.co.jp/emit/en/ |
SLCM-13 | |
Ar plasma system | Diner Electric Gmbh http://www.plasma.de/index.html |
Femto | |
RIE system | Samco Inc. http://www.samcointl.com |
RIE-10NR | |
Ultrasonic soldering device | Colby-Eishin Enterprises, Inc. http://www.colbyeishin.com/sub_sunbonder.htm |
SUNBONDER | |
EQE measurement system | Bunkoukeiki Co. Ltd. http://www.bunkoukeiki.co.jp/ |
CEP-25BXS | |
J-V characteristics measurement system | OTENTOSUN-5S-I/V | ||
Amorphous Si reference cell | WPVS-NPB-S1 | For light intensity calibration | |
Digital multi-meter | Keithley Instruments Inc. http://www.keithley.com/ |
2400 |