基于芯片的超分辨率光学显微镜是荧光显微镜的一种新方法,具有成本效益和吞吐量方面的优势。此处显示了用于 TIRF 显微镜和基于定位的超分辨率显微镜的芯片制备和成像协议。
全内反射荧光 (TIRF) 通常用于基于单分子定位的超分辨率显微镜,因为它由于光学切片而增强了对比度。传统方法是使用高数值孔径显微镜 TIRF 物用于激励和收集,严重限制了视野和吞吐量。我们提出了一种利用光学波导(称为基于芯片的纳米显微镜)为成像生成 TIRF 激发的新方法。此协议的目的是演示如何在已构建的设置中执行基于芯片的映像。基于芯片的纳米显微镜的主要优点是激励和收集通路是分离的。然后,可以使用低放大倍率镜头进行成像,从而产生大视场 TIRF 图像,分辨率会小到降低。肝正弦内皮细胞(LSECs)使用直接随机光学重建显微镜(dSTORM)成像,显示其分辨率可与传统的超分辨率显微镜相媲美。此外,我们还通过低放大镜头对 500 μm x 500 μm 区域进行成像,提供 76 nm 的分辨率,从而演示了高通量能力。基于芯片的成像技术具有紧凑的特性,可以改装成最常见的显微镜,并与其他片上光学技术(如片上传感、光谱学、光学陷印等)相结合。因此,该技术非常适合高通量 2D 超分辨率成像,但也为多模态分析提供了绝佳的机会。
自从首次演示单分子定位显微镜以来,已经开发出许多变异来解决不同的挑战1,2,3。然而,仍然存在的一个挑战是大视场dSTORM成像。许多dSTORM 设置使用相同的客观镜头来激发样品并进行图像成像。为了增加视野,需要低放大倍率镜头。低放大率和低数值光圈 (NA) 物镜通常具有较大的景深,从而导致平面外信号增加,从而降低定位精度。TIRF 物镜通常用于通过减少平面外荧光来增加图像对比度。通过TIRF,激发被限制在距表面约150nm的光学厚度,通过消逝场4。TIRF 物镜需要一个大的 NA,从而产生一个小视场 (FOV)(例如 50 x 50 μm2),这极大地限制了吞吐量。然而,有其它方法可以生成一个消逝的场。
光波导是一种结构,如果将光耦合到结构中,它将限制和引导光。最常见的是,波导用于光纤通信。为了开发二维集成波导作为光子集成电路的主要组件,我们做出了巨大的努力。该技术已经发展到一个点,制造低损耗纳米结构的光波导可以例行完成5。如今,世界各地的几家铸造厂可用于开发光子集成电路。波导引导光通过总内部反射也表现出一个在表面的消逝场。通过对波导结构的精心设计,可以在消逝领域实现高强度。因此,直接放置在波导表面顶部的样品也可以通过图像应用的消逝场进行照明。消逝场将沿波导的整个长度和宽度生成,因此可以任意大6。
我们提出了一种新方法的TIRF dSTORM,它提供了一个任意大的视野。而不是使用TIRF镜头的激励和收集,我们激发使用从光波导的消逝场。这种分离使激发和集合光通路分离,允许沿集合光路径实现完全自由,同时不影响波导芯片照明提供的给定波长的光切片。因此,低放大倍率镜头可用于在 TIRF 模式下拍摄非常大的区域,尽管较小的 NA 会降低横向分辨率。此外,使用波导7也大大简化了多色成像,因为无需重新调整系统即可引导和检测多个波长。这有利于dSTORM,因为低波长可用于增强荧光闪烁和多色成像。值得注意的是,消逝场的穿透深度会随着波长的函数而变化,尽管它不会影响成像过程的进行方式。该芯片与活细胞成像8兼容,是微流体集成等应用的理想选择。每个芯片可以包含几十个波导,可以允许用户在不同条件下成像或应用光学陷印9和拉曼光谱10。
基于芯片的系统同样适用于衍射受限和超高分辨率成像。2005年,一种类似的方法被引入,使用棱镜产生消逝的场激发4。光子芯片也通过消逝场激发,但采用现代波导制造技术,可以生成带有波导的奇异光图案。目前的基于芯片的纳米显微镜实现仅限于2D成像,因为激发场被锁定在波导表面。未来的开发将针对 3D 应用。此外,其他超分辨率技术,如结构化照明显微镜正在开发使用相同的芯片显微镜11。
基于芯片的成像类似于传统的dSTORM 成像。因此,可以使用与传统dSTORM 成像相同的方法来测量图像质量。用户的主要区别是透明玻璃滑块与不透明的 Si 晶圆交换。虽然它们看起来非常不同,但样品处理实际上类似于玻璃幻灯片。芯片非常坚固,可以很容易地使用晶圆钳处理。成像过程和图像重建与常规dSTORM 实验中相同。设置基于芯片的功能显微镜不需要特殊组件,光子芯片除外。有关设置的进一步详情,可在先前的工作6、7中找到。这项工作中使用的芯片是使用标准光刻8制造的。
样品制备包括样品室的制备。将 PDMS 机架连接到芯片时,避免空气可能进入的任何小褶皱或裂口至关重要。如果 PDMS 在连接时折叠,只需用钳子小心地将其拆下并重新连接即可。当样品在 PDMS 腔室内准备好时,必须将盖玻片压住,密封该区域。请务必避免在连接盖玻璃时可能出现的任何气泡。如果形成气泡,请轻轻取下盖玻璃,并将 PBS 添加到样品室,以确保样品被覆盖。然后,盖玻片的准备和附件可以简单地重新处理。
利用本文提出的方案,简化了将光耦合到波导中。但是,有一些常见的挑战可以限制耦合。首先,如果芯片未正确清洁,且任何剩余 PBS 完全去除,则波导上可能有污垢或结晶 PBS。这会带来重大损失,导致成像区域的功率极小。使用湿拭子清洁盖玻璃外部的区域可以显著提高功率。其次,如果波导的耦合面损坏(例如,处理不当),耦合损耗可能会急剧增加。对边缘的光学检查通常会很容易发现任何损坏。芯片的整个耦合面可以像光纤一样仔细抛光,并给出平滑的耦合面,从而增加耦合功率。
耦合光后,成像过程与任何传统的dSTORM 设置相同。如果图像具有不均匀的激发(如图 2A所示,则很可能平均模式不起作用)。其中最常见的两个原因是:1) 捕获的图像太少,以创建平均堆栈;2) 太短的振荡距离/太大的步长大小。收集太少的图像可以排除一些激励模式,因此平均值将是不均匀的。这可以通过增加平均堆栈中的映像数来轻松解决。振荡距离过短也会导致图像不均匀,因为没有足够的模式模式激发。这也可以通过增加振荡距离和/或减小步长大小来轻松解决。在这项工作中,我们使用压电级扫描超过20μm的输入激光束,并获取至少300个图像。另一种方法可能是使用高速电镜在单个采集时间内扫描输入波导面上的光线,例如 10-30 ms。 此选项适用于活细胞 TIRF 成像,其中亚细胞细胞器处于恒定运动状态。
基于芯片的dSTORM 提供前所未有的大面积 TIRF 激发,非常适合高通量成像。紧凑的特性允许对商业系统进行改造,其中芯片可以倒置放置,用于倒置设置或开发透明基板。芯片是大批量生产的,可以修改,以满足许多需求。目前,主要限制是仅限于 2D。离波导表面仅约200纳米的消声场可用,因此只有该区域内的荧光道才会兴奋。总之,集成光学领域通过解决新的成像问题以及为现有问题提供新的可能性,在不远的将来为基于芯片的显微镜提供了许多机会。
The authors have nothing to disclose.
作者要感谢欧洲研究理事会(授予B.S.A.第336716号)。作者还要感谢伊拉蒂·拉格弗拉瓜在录制和编辑视频方面提供的宝贵帮助。
1-axis sample stage | Standa | 7T173-20 | |
2-axis sample translation stage | Mad City Labs | Custom order | |
3-axis NanoMax stage | Thorlabs | MAX311D | |
BXFM microscope body | Olympus | OLY-LSM-037018 | |
CellMask Deep Red, Life technologies | ThermoFisher | C10046 | |
Cleanroom grade swabs | MRC Technology | MFS-758 | |
Fiber-coupled laser | Cobolt | Flamenco | |
Filter Holder | Homemade | ||
Hellmanex III, Hellma Gmbh | Sigma-Aldrich | Z805939 | Cleaning detergent concentrate |
Isopropanol | Sigma-Aldrich | 563935-1L | |
KL 1600 LED | Olympus | OLY-LSM-E0433314 | |
Olympus Coupling lens | Olympus | LMPLFLN 50x/0.5 | |
Orca Flash 4.0 V2 | Hamamatsu | ||
PBS tablets | Sigma-Aldrich | P4417-50TAB | Mix according to descriptions |
SYLGARD 184 Silicone Elastomer 1.1 kg kit | Dow | 1673921 | |
Tip-tilt stage | Thorlabs | APR001 | |
Vacuum holder | Thorlabs | HWV001 | |
Wafer Tweezers Type 2W | Agar scientific | AGT5051 |