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Fabricación de alta densidad, Contacto-Interface plana Electrodos nerviosas para aplicaciones de registro y estimulación
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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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Fabricación de alta densidad, Contacto-Interface plana Electrodos nerviosas para aplicaciones de registro y estimulación

9,535 Views

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09:35 min

•

October 04, 2016

DOI:

10.3791/54388-v

DOI:
10.3791/54388-v

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09:35 min
October 04, 2016

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1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

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Este artículo proporciona una descripción detallada sobre el proceso de fabricación de un electrodo del nervio interfaz plana de contacto alta densidad (FINA). Este electrodo está optimizado para la grabación y la estimulación de la actividad neuronal selectiva dentro de los nervios periféricos.

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Dweiri, Y. M., Stone, M. A., Tyler, D. J., McCallum, G. A., Durand, D. M. Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications. J. Vis. Exp. (116), e54388, doi:10.3791/54388 (2016).

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