Vi har använt plasmaförstärkt kemisk ångavsättning för att avsätta tunna filmer som sträcker sig från några få nm till flera 100 nm på nanopartiklar av olika material. Vi därefter etsa kärnmaterialet för att producera ihåliga nanoshells vars permeabilitet styrs av tjockleken hos skalet. Vi karakteriserar permeabiliteten hos dessa beläggningar på små lösta ämnen och visar att dessa hinder kan tillhandahålla fördröjd frisättning av kärnmaterialet under flera dagar.