マイクロ流体デバイスの低コスト作製のためのPDMSの非プラズマボンディング

ニューロンの細胞培養用マイ​​クロ流体デバイスの準備 1）クリーンコーニング第2​​4ミリメートル× 40 mmのスライドガラス 30分間水浴の超音波処理のスライドガラスを超音波で分解する 70％エタノールでガラススライドをすすぐウォッシュはのdH 2 Oで三回スライド望ましい一晩数時間のための組織培養フード、のドライスライド 注：我々はスライドを使ってロードされる特殊な金属のトレイを持っている。スライドを個別に分離し、この金属製のラックのスロットに配置されます。我々は、我々は、水で埋めることにガラス皿、水浴の超音波処理の場所にトレイをロードするこれらの金属を配置し、30分間超音波処理することができます。その後の洗浄は、この皿の中で行われている。 2）PDMSデバイスを準備するそれを、シリコンウエハからPDMSモールドを切り取るPDSMキャストのパンチ穴と四半期最初にそれらを介して不活性ガス（アルゴンまたは窒素）を吹き込むことでPDMSデバイスを清掃してください。その後、残りの破片をリフトオフ3Mスコッチブランド471テープを使用してください 注：デバイスを表向きに保つことが重要です。当初は、我々はシリコンウエハから離れてPDMSをカットするときに、ウェハに接触する側は、クリーンな側である：それは、マイクロ流体チャネルが含まれています。我々はプラズマボンディングのための準備が整うまで私達がようにデバイスを損傷し、きれいな側面を維持できないためにできる限り慎重にしてみてください。 プラスチック容器のオートクレーブ装置オートクレーブ後、クリーンな1号コーニングのスライドガラスとHarrickブランドプラズマクリーナー、使用してプラズマトリートデバイスwww.harrickplasma.comを デバイスは、スライドガラス上側を下に清潔な場所。 デバイスはスライドガラスに結合プラズマです。 3）コーティングポリL -リジン（PLL）を持つデバイス PLLは、デバイスの各サイドにウエルに添加して、次の井戸に流れるように許可されています 大井戸と小さな井戸では30μリットルPLLのPLLの=>150μlの 。それは、長い井戸が一杯なので正確である必要はありません。 注：デバイスを確認すると、4ウェルが表示されます：それぞれ2つが接続されています。あなたはよくので、次のウェルに、デバイスを流れることに一つにPLLを置きたいと思う。 PLLは、約10分間、デバイスを流れるし、それらを埋めるために井戸に多くのPLL追加することができます （一晩が望ましい）4時間の最小値を37℃でインキュベーターでPLLを含むデバイスを配置治療後に過剰なPLLを掃除しますが、デバイスからすべての液体を吸引しないように注意してください 注：チャネルまたはチャンバーに気泡を導入したくない。ちょうど井戸の過剰なPLLを掃除。 装置の両側に各ウェルにオートクレーブのdH 2 Oを追加し、毛細管現象により、他のウエルに流れることを可能に図1は、マイクロ流体デバイスの模式図である。ブルー（相馬側）が接続されている様子がわかりますし、赤は（軸索側）に接続されています。我々はデバイスの各サイドにもいずれかPLL、または水やメディアを、置くと言うとき、我々は何を意味するか、例えば、ですの注意：オートクレーブDHの一つブルーウェルし、正しい位置を150μlのオートクレーブのdH 2 O中の150μlをまあ1つのRedに2 0。水（またはPLL、またはメディア、またはセル）は、他の対応するウェルにデバイスを介して流れることになる。 図1 注：今から、私は"場所のメディア、細胞、水またはPLLがTOP井戸で"と言うと、私は相馬の左にある場所を上の図を参考にしていますし、軸索はに成長する、注意してください右側。 水を（再び完全にデバイスからすべての液体を除去しないように注意しながら）オフ吸引、その後も接続されている各のいずれかにオートクレーブのdH 2 O中の別の150μlを追加し、対応するウェルに流れるよう。 37℃インキュベーターでのdH 2 Oを含むデバイスを配置° Cで1時間、その後再び洗浄ステップを繰り返します。合計である一時間ごとのdH 2 Oでデバイスを3回洗浄する。 注：PLLからのホウ酸塩は、PDMSに吸収することができる、チョン研究室のいくつかは私のカップルの後にオートクレーブのdH 2 Oで一晩デバイスをインキュベート推奨されている可能性があるためnitial迅速なリンス。これは、すべて無料のホウ酸塩は細胞の読み込み前にPDMSから浸出されることを保証します。これが行われない場合、細胞毒性につながる可能性が時間の経過とともに、メディアへのホウ酸塩の放出、があるかもしれません。 トップウェルに必要な要因（グルタミン、B27、PenStrep）とニューラル基礎培地（NBM）を追加 注：デバイスが一晩と翌日の細胞とメッキインキュベート、または細胞を播種する前にNMB +要因で3時間の最小値をインキュベートすることができます。 デバイスにロードするのニューロンの準備我々はどちら脳ビットまたは私たちのためにキャンパスでここに準備されるという会社から購入することが18日間の古い胎児ラットの大脳皮質を使用してください。我々は、組織が、新鮮な取得することを好む。 HibernateはEに格納される1胎児の脳の皮質（組織の2個）を入手する 3つの長いガラスピペットを取ると、アルコールランプを使用して連続的に小さなサイズにそれらをそれぞれ起動滅菌15 mlのチューブにNMB +要因の2mlのガラスピペットと場所で、HibernateのEから採取した組織を削除します。 粉砕：皮質は約5〜10回上下に渡されたとされる電球とガラスピペットを使用する。その後、次に小さいピペットは、組織の上下にピペッティングとするために使用されます。最後に、最小のピペットは、組織の上下にピペッティングとするために使用されます。私たちは、目に見える塊がないことを確認したい。 注：最近、チョンラボは、当初50％に0.125％トリプシンで処理組織から調製された細胞にHibernateがEに保存されている組織からの細胞を比較し始めたのCa + +フリーおよびMg + +無料の解剖バッファー。コンセンサスは、トリプシンはすぐに組織を使用する予定がない場合は、その後、休止状態E.で組織を格納する必要があるHibernateのE.に最初に置かれた組織よりも多くの生細胞を得る使用して調製したもの組織ですすぐにティッシュを使おうとしていると増加する可能性をご希望の場合は次のように、その後、前の機械的粉砕にトリプシンと組織を扱う：1）Ca + +のフリーMg + +のフリーの1mlで1ミリリットル0.25％トリプシン（Gibco社、Invitrogen）を希釈解剖のバッファは、15 mlのチューブ（氷の寒さを保つ）に（最後のトリプシン= 0.125％）、2）場所バッファ内の組織と8分37℃で直ちに培養、3）を停止する10ミリリットルDMEM/10％FBSを追加するトリプシンの反応と、下記のプロトコールを続ける。 1分間1100 rpmで遠心細胞慎重に細胞ペレットを吸引メディアピペッティングしてペレットと再懸それにNMB +要因の1 mlを添加し、ダウン （BDファルコンセルストレーナー40 UMナイロン）し、細胞塊を除去するフィルタを介して重力流によって再懸濁した細胞を渡す数とプレートの細胞： マイクロ遠心チューブに、60μlのNMBを追加する+要因は、細胞懸濁液20μl、およびトリパンブルー液20μlにして混ぜる血球計算板にこのソリューションの約10μlを加え、生細胞を（ではない青）カウント 2.5に濃度を調整します- 4.5 × 10 6細胞/ ml 注：我々は一般的に約2.5の濃度を得る- 4.5 × 106細胞/ mlを。ボリュームに応じて細胞が（通常は1ミリリットルNBM + B27/Glutamax/PenStrep percortex）に再懸濁する。組織をトリプシンを用いて調製されている場合、収量は可能性が増加します。 デバイスのめっきデバイスの1つのウェルに細胞を（一次ニューロン）を読み込みますプレート小さなデバイスあたり5μlと大きなデバイスあたり20μlの 注：トップソマリ族も（トップソマリ族の5μlをウェルに装置の上部と装置の底部（半数ボリューム）上に10μlの上に細胞を10μl、または直接のすべてのセル20μlをロードすることができます小型デバイス用）。 37℃インキュベーターで10分間インキュベートするので、細胞は、アタッチを開始することができますよくデバイスのサイズに応じてそれぞれにNMB +要因の約30分の150μlを加え 注：ボリュームは、PDMSの厚さによって異なります。大切なことは、井戸が一杯であるということです。 プラズマボンディングなしでデバイスを使用する方法の補足プラズマなしで毎週成功し、それを行うプラズマ処理し、クリスティーナ火、技術者、なしで、ちょうどすぐに細胞をロードするために述べています。 ソーマ側の両方の井戸（あなたのメディアを残す場合、軸索側は関係ないでしょう）からメディアを削除してください。それは細胞が主要なチャネルを入力するための流体の流れです。あなたが井戸内のメディアがあれば、流体の流れを取得することはありません。