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सिलिकॉन पर एपिटैक्सियल नैनोस्ट्रक्चर्ड α-क्वार्ट्ज फिल्में: सामग्री से नए उपकरणों तक
Journal JoVE
Ingénierie
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Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
DOI:

11:34 min

October 06, 2020

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Chapitres

  • 00:05Introduction
  • 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
  • 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
  • 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
  • 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
  • 10:20Conclusion

Summary

Traduction automatique

यह काम सिलिकॉन-ऑन-इंसुलेटर (एसओआई) प्रौद्योगिकी सब्सट्रेट पर नैनोस्ट्रक्चर्ड α-क्वार्ट्ज कैंटिलीवर के माइक्रोफैब्रिकेशन के लिए एक विस्तृत प्रोटोकॉल प्रस्तुत करता है जो क्वार्ट्ज फिल्म के एपिटैक्सियल विकास से शुरू होता है और फिर नैनोइमप्रिंट लिथोग्राफी के माध्यम से पतली फिल्म का नैनोस्ट्रक्चरेशन।

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