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Graphène-Assisté Quasi-van der Waals Epitaxy of AlN Film sur substrat saphir nano-modelé pour les diodes électroluminescentes ultraviolettes
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Graphène-Assisté Quasi-van der Waals Epitaxy of AlN Film sur substrat saphir nano-modelé pour les diodes électroluminescentes ultraviolettes
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07:00 min
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June 25, 2020
DOI:
1State Key Laboratory of Solid-State Lighting, Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences, 2Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering,University of Chinese Academy of Science, 3Center for Nanochemistry (CNC), Beijing National Laboratory for Molecular Science, College of Chemistry and Molecular Engineering,Peking University, 4State Key Laboratory of Superlattices and Microstructures, Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences, 5Electron Microscopy Laboratory, School of Physics,Peking University
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Un protocole pour la croissance assistée par graphène de films AlN de haute qualité sur le substrat de saphir nano-modelé est présenté.
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Zhang, X., Chen, Z., Chang, H., Yan, J., Yang, S., Wang, J., Gao, P., Wei, T. Graphene-Assisted Quasi-van der Waals Epitaxy of AlN Film on Nano-Patterned Sapphire Substrate for Ultraviolet Light Emitting Diodes. J. Vis. Exp. (160), e60167, doi:10.3791/60167 (2020).
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