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उच्च संपर्क घनत्व का निर्माण, रिकॉर्डिंग और उत्तेजना अनुप्रयोगों के लिए फ्लैट इंटरफेस तंत्रिका इलेक्ट्रोड
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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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उच्च संपर्क घनत्व का निर्माण, रिकॉर्डिंग और उत्तेजना अनुप्रयोगों के लिए फ्लैट इंटरफेस तंत्रिका इलेक्ट्रोड

DOI:
10.3791/54388-v

•

09:35 min

•

October 04, 2016

•

, , , ,
1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 01:02Contact Placements
  • 03:35Embedding the Electrode Components
  • 05:36Applying Shielding and Completing the Electrode
  • 07:45Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
  • 08:58Conclusion

Summary

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यह लेख एक उच्च संपर्क घनत्व फ्लैट इंटरफेस तंत्रिका इलेक्ट्रोड (ठीक) के निर्माण की प्रक्रिया पर एक विस्तृत विवरण प्रदान करता है। यह इलेक्ट्रोड रिकॉर्डिंग और परिधीय नसों के भीतर चुनिंदा तंत्रिका गतिविधि उत्तेजक के लिए अनुकूलित है।

Tags

Flat-interface Cuff ElectrodesNeural InterfaceNeuroprostheticsCAD SoftwareLaser CuttingSpot WelderSilicon SheetVacuum ChamberIsotemp OvenReference Contacts

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