2DO2 분포를 광학 센서 포일로 매핑하기 위한 새로운 주파수 영역 발광 수명 카메라의 사용에 대해 설명합니다. 카메라 시스템 및 이미지 분석 절차는 수생 식물의 뿌리 구에서O2 미세 환경을 시각화하기위한 센서 포일의 준비, 교정 및 적용과 함께 설명됩니다.
우리는 용존 산소(O2)높은 공간 (&50-100 μm) 및 시간 (&10 초) 해상도에서 2D에서 이미지화하는 방법을 설명합니다. 이 방법은 주파수 영역에서 발광 수명을 이미징하기 위한 특수 카메라 시스템과 함께O2 민감한 발광 센서 포일(평면 광도)을 사용합니다. 평면 광형은O2-민감성표시기 염료를 중합체에 용해시키고 칼 코팅을 통해 정의된 두께로 고체 지지체에 혼합물을 확산시킴으로써 제조된다. 용매의 증발 후, 평면 optode는 관심샘플과 밀접한 접촉을 하게 된다 – 여기에 수생 식물 리토렐라 유니플로라의뿌리를 입증하였다. 평면 안편 내의 표시기 염료의 발광 수명에 대한O2 농도 의존적 변화는 특수 카메라를 사용하여 투명 캐리어 호일 및 수족관 벽의 뒷면을 통해 이미지화된다. 이 카메라는 변조된 여기 신호와 방출 신호 사이의 위상 각도 변화를 통해 발광 수명(μs)을 측정합니다. 이 방법은 신호가 염료 농도 또는 여기 소스의 강도와 독립적이기 때문에 발광 강도 이미징 방법보다 우수하며 본질적으로 참조 된 매개 변수인 발광 붕괴 시간에만 의존합니다. 따라서 추가 참조 염료 또는 다른 참조 수단이 필요하지 않습니다. 우리는 식물 뿌리 구의 거시 O2 이미징에 대한 시스템의 사용을 입증하지만, 카메라 시스템은 현미경에 쉽게 결합 될 수있다.
퇴적물과 토양에서 용존 가스와 이온의 분포와 역학은 미생물 호흡1,2,또는 식물 뿌리에서 방사형 산소 손실과 같은 생물 지구 화학 과정에 대한 주요 정보를 제공합니다3,4,5,미생물의 화학 미세 환경6,7,식물 뿌리구5,8,9 및동물 굴10, 11,12. 이러한 확산 제한 환경에서 생물학적 및 화학적 활성은 화학 기질 또는 생물 지구 화학 공정의 제품의 가파른 구배를 만들 수 있습니다. 특히,O2 가용성은 생물지구화학 적 공정 및 따라서 시스템13의생물학 및 생태학에 큰 영향을 미친다. 따라서 높은 공간 및 시간적 해상도에서O2 농도를 분석하는 것은 수생 및 육상 과학에서 매우 중요합니다. 먼저, 전기화학및광학마이크로센서(14,15)는 이러한 중요한 분석을 측정하기 위해 개발되었다. 이후, 평면 광단을 이용한O2의 2차원(2D) 이미징이도입되었고, 12,16,17,18,19,토양 및 퇴적물에서 이질O2 분포의 시각화 및 정량화를 가능하게 하였다.
평면O2 광층은O2-민감성표시기염료(20)로구성되며, 이는 적합한중합체(21)에용해된다. 표시기 염료는 특정 광학 파장에서 흥분하고 발광의 형태로 이완시 적색 이동 빛을 방출한다. O2의존재에서, 흥분된 표시기 염료는 충돌 시O2 분자로 에너지를 전달할 수 있으며, 이는 충돌 기반 발광 담금질(22)이라고 한다. 따라서,O2 농도(23)가증가함에 따라 발광 세기뿐만 아니라 발광 세기도 감소된다. 이상적인 경우에 강도 및 수명의 변화는 주어진 농도에서O2의 발광 강도 또는 수명(I0;θ0)또는 존재(I, θ)를 사용하여 스턴-볼머 방정식(수학식1)을따른다. 스턴 볼머 상수 (Ksv)는O2를향한 광도의 감도에 대한 측정이다; KSV는 온도 및 압력과 같은 환경 변수에 의존합니다.
(1)
카메라 시스템으로 평면 센서 호일을 통해 이러한 발광 변화를 기록하여O2 분포에서 대응하는 변화를 시각화하는 데 사용할 수 있습니다. 처음에는 간단한 발광 강도 기반O2 이미징을 18개사용했습니다. 그러나 이러한 방법론은 외부 간섭에 매우 민감하며, 이는 이질적인 조명, 여기 소스 또는 카메라의 변동뿐만 아니라 평면 안단 내의 표시기 염료의 고르지 않은 분포로 인한 결과의 신뢰성을 손상시킵니다.
이러한 제한 사항 중 일부는 O2-민감성 표시기 염료가O2-표시량보다다른 스펙트럼 범위에서 방출되는 둔감한 기준 염료를 가진 평면 광검의 중합체 층에서 공존하는 비율측정 이미징17,24를위해 평면 광단을 사용하여 완화될 수 있다. 2개의 스펙트럼 윈도우에서 획득한 방출 영상을 기반으로,O2-민감성방출 신호는 기준 신호로 나누어, 상기 언급한간섭에덜 취약한 비 영상을 생성한다5,17. 이 방법은 이상적으로 동일한 여기 소스에 의해 흥분 될 수 있지만, 카메라의 다른 스펙트럼 창 (예를 들어, RGB 카메라의 다른 컬러 채널에서) 다른 파장에서 방출 할 수있는 두 번째 염료의 사용을 필요로한다.
대안적으로,O2 이미징은 지표농도(25)에서고르지 않은 조명 또는 이질성에 의해 영향을 받지 않는 지표 염료의 발광 수명에 있는O2-의존적변화를 정량화하는 것을 기초로 할 수 있다. 제1 발광 수명 기반O2 이미징 시스템은 게이트 가능 충전 장치(CCD) 카메라시스템(26)을이용한 시간 영역 측정을 기반으로 하였으며, 여기서 펄스 여기 소스가 사용되고 발광 이미지는 표시기8,23,27의여기 또는 방출 내에서 정의된 시간 간격을 통해 촬영된다. 이러한 이미지로부터, 발광 수명은 캘리브레이션에서 상응하는O2 농도와 결정되고 상관될 수 있다. 이어서, 평면 광에 대해 가압된 주어진 샘플에 대한 발광 수명 이미지는O2 농도의 상응하는 2D 분포의 이미지로 변환될 수 있다. 이 시스템은 실험실 및 situ16,28에서모두 많은 응용 프로그램에서 사용되었지만 필수 게이트 가능 CCD 카메라는 더 이상 상업적으로 사용할 수 없습니다.
최근에는 주파수 영역8에서이미지를 획득하는 다른 발광 수명 카메라 시스템이 출시되었습니다. 시스템은 여기를 위해 지속적으로 변조된 광원에 의존합니다. 이는 시간 영역에서 이미지 수집에 사용되는 펄스 여기 대신 정현파 또는 사각 파일 수 있습니다. 이러한 변조는O2 표시기 염료의 변조 발광 방출을 초래하며, 이는 표기염료(θ)의 발광 수명에 의존하는 각도, φ에 의해 위상 이동된다(수학식 2 참조).
(2)
여기와 방출 진폭 사이의 변화 (즉, 소위 변조 지수 또는 깊이 (상수 발광 부분으로 나눈 진폭)) 또한 발광 수명에 의존한다. 따라서, 공지된 변조 주파수를 설정함으로써 카메라 내의 특수 CMOS 이미지 센서는 다른 곳에서 8,29,30에상세히 설명된 바와 같이 ns에서 μs 범위로 발광 수명을 측정할 수 있게 된다. 작동 원리에 대한 일반적인 가이드를 찾을 수 있습니다(다음 링크 https://www.youtube.com/watch?v=xPAB_eVWOr8사용).
이하의 프로토콜에서, 우리는 2D9,31에서수생 담수 식물 리토렐라 유니플로라의 뿌리 주위에O2 농도의 분포를 이미징하기 위한 신규한 카메라 시스템의 사용을 입증한다. 우리는이 방법은 결코이 응용 프로그램에 국한되지 않는다는 것을 강조하고 싶습니다. 산소에 민감한 광파 또는 센서입자(27)는 다양한 이미징 방법과 조합하여 의학 연구32,바이오프린팅33,압력 감지 도료34,35,광합성 시스템2,36,37,단지 몇 가지 다른 분야의 응용 분야에 사용되었다.
이 프로토콜에서는 광대 준비에서O2 이미지 분석에 이르는 전체 작업 흐름이 다룹니다. 이 프로토콜을 따르면, 화학적 이미지는 새로운 주파수 도메인 기반 발광 수명 카메라를 사용하여 얻을 수 있다. 적용 용도에 따라 평면 광섬유는 센서 층의 다양한 크기와 층 두께로 제작될 수 있으며, 50-100 μm 두께의 강력한 평면 광섬유부터 현미경 커버 슬립까지 <1 μm 두께의 센서 레이어6,40을사용할 수 있습니다. 이 방법의 잠재력은 특정 적용으로 입증되었지만, 식물 뿌리구12,28에서O2 이미징에 한정되는 것은 아니다.
이 방법은 순수한 발광 강도 기반 화학 이미징 방법과 비교할 때 몇 가지 이점이 있습니다. 발광 일생 화상 진찰은, 적어도 훨씬 적게, 고르지 않은 조명, 고르지 않은 광층 두께 및 사진표백(25)에의해 영향을 받지 않는다. 또한, 이 방법은 비메트릭이미징(17,37)에서공통적인 추가 참조 염료의 사용을 방지한다. 일반적으로 사용되는 게이트 타임 도메인 카메라8,26과같은 다른 수명 기반 카메라 시스템과 비교하여 여기에 제시된 새로운 카메라 시스템 및 프로토콜은 비교 가능한 결과를 제공할 수 있습니다. 최근 발표된 바에 따르면, 이들 두 시스템의 분석 적 특성을 비교하고 주파수 도메인 기반 발광 수명 카메라 시스템은 적어도 단종된 시간 도메인 기반 전임자8과비교할 수 있는 것으로 나타났다.
우리는 폴리머 매트릭스의 표시기로만 구성된 가장 간단한O2 광언을 제시했습니다. 첨가제를 사용할 수 있는 여러 가지 가능한O2 지표(20)를 제외한, 즉 TiO2 또는 다이아몬드 파우더2와 같은 산란제는 광안의 투명성을 감소시키면서 센서 신호를 증가시키는 것이다. 또한 추가 염료는 에너지 전달41을통해 신호 강도를 향상시키기 위해 사용될 수있다.
평면 광섬유 제조의 경우, 설명된 센서 칵테일 조성물을 사용할 때 75-120 μm의 나이프 코팅 장치의 간격을 사용하여 용매 증발 후 약 7.5 ~12 μm의 최종 센서 층 두께를 산출하는 것이 좋습니다. 이는 더 높은 염료 로딩에 의해 수정될 수 있는 신호 강도 또는 더 높은 밝기의 표시기 및 참조 염료 및 응답 시간 사이에 좋은 손상입니다. 층 두께의 증가는 주위 매체와 함께 감지 층에서 열역학적 평형에 도달하는 데 필요한 시간 범위가12증가함에 따라 반응 시간의 증가를 초래한다.
여기에 설명된 바와 같이 광도는, 충분히 강한 발광 신호를 가지면서 몇초(17) 내에O2 농도의 변화에 반응한다. 스핀 코팅6을통해 초초 이하의 응답 시간을 가진 초박형 센서 코팅을 실현할 수 있습니다. 지지대 또는 나이프 코팅 장치가 잘 세척되지 않으면 센서 층이 불균일할 수 있습니다. 또한, 칵테일이 완전히 균일하지 않거나 코팅 장치 앞에 퍼진 후 너무 빠르게 도포되지 않으면 원치 않는 결과를 관찰할 수 있다. 따라서 최적의 광도를 준비하는 데 몇 가지 연습이 필요할 수 있습니다.
이 방법은 특정 해양동물(42,생물막6 및토양(31)과 같은 광단에 밀착될 수 있는 시료를 이미지화하는데 사용될 수 있다. 우리는 객관식을 사용하여 독립형 설정을 제시하지만, 카메라는 고해상도 화학이미징(43)을위해 현미경에 쉽게 결합될 수 있다.
시간 영역 기반 발광 수명 이미징이 배경 형광억제(26)를가능하게 하는 반면, 이것은 새로운 주파수 도메인 기반 카메라 시스템8을사용할 때 문제가 된다. 연속 이미지 수집으로 인해 이 카메라는 선택한 LED에 의해 흥분될 수 있는 샘플의 배경 형광을 기록하고 카메라 대물렌즈의 방출 필터에 정의된 대로 선택한 스펙트럼 창에서 방출합니다. 이렇게 하면 수명이 분명히 낮아지고 결과적으로 잘못된 판독이 발생합니다. O2 센서 여기 및 방출과 중첩되는 상당한 본질형 형광을 가진 시료로 작업하는 경우, 카본 블랙2,17을포함하는 추가 층을 코팅하여 광도 위에 추가 광학 절연을 적용하는 것이 필수적이다. 따라서 평면 광당에서 방출된 발광만 카메라에 도달합니다. 배경 발광을 확인하기 위해 광도없이 이미지를 촬영 할 수 있습니다, 이는 독점적으로 샘플의 본질적인 발광을 표시 할 것이다. 또한 TiO2 또는 다이아몬드 파우더2,44와같은 산란제를 센서 칵테일에 첨가하여 표시기 염료의 발광 강도를 높일 수 있습니다. 그러나, 이것은 또한 더 빠른 사진 표백으로 이어질 수 있고 TiO2는 염료(41)의광안정성을 손상시킬 수 있는 공지된 광 촉매이다. 고려해야 할 또 다른 측면은 배경 라이트입니다. 발광 수명을 이미징할 때 배경 광은 가능한 한 효율적으로 피해야 합니다. 따라서 이 이미징 방법은 어두운 환경에 설치해야 하며 이미지 수집 중에 외부 광원을 일시적으로 꺼야 합니다.
요약하면, 발광 수명 화상 진찰은 많은 다른 응용에 적응될 수 있는 강력한 화학 화상 진찰 방법입니다. 이 프로토콜(섹션 1 – 5 참조)은O2 이미지를 생성하는 모든 필수 단계를 다루며 현재 가장 유연한 주파수 영역 발광 수명 이미징 시스템을 사용하여 단종된 게이트 타임 도메인 카메라를 2D O2 이미징용 평면 광활수로 대체할 수 있습니다.
The authors have nothing to disclose.
우리는 기술 지원을 위해 소피 린데가르드 야콥센 (코펜하겐 대학)과 라스 보레가드 페데르센 (오르후스 대학)에 감사드립니다. 이 연구를 위한 자금조달은 독립적인 연구 기금 덴마크 (DFF-1323-00065B)에서 Sapere-Aude 고급 교부금에서 얻어졌습니다; MK), 덴마크 독립연구기금 프로젝트 보조금 | 자연 과학 (DFF-8021-00308B; MK) 및 기술 및 생산 과학 (DFF-8022-00301B 및 DFF-4184-00515B; MK), 덴마크 국립 연구 재단 (DNRF136), 그리고 폴 듀 젠슨 재단 (KK).
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