Se requiere una suscripción a JoVE para ver este contenido. Inicie sesión o comience su prueba gratuita.
Capítulos
- 00:05Título
- 01:13Preparation of a Block for Sectioning: Self-assembled Monolayers
- 04:12Sectioning to Produce Nanogap Structures
- 05:35Preparation for Electrical Measurements of Self-assembled Monolayer Samples
- 06:00Results: Images and Electrical Measurements for Nanogaps below 5 nm
- 07:15Conclusion
De fabricage van elektrisch adresseerbare, high-aspect-ratio (> 1000:1) metalen nanodraden gescheiden door spleten van enkele nanometers behulp van opofferende lagen aluminium en zilver of zelf-geassembleerde monolaag zoals templates wordt beschreven. Deze nanogap structuren zijn vervaardigd zonder clean room of een foto-of electron-beam lithografische processen door een vorm van edge lithografie bekend als nanoskiving.
