Summary

Herstellung eines mikrostrukturierten Chips mit kontrollierter Dicke für die kryogene Elektronenmikroskopie mit hohem Durchsatz

Published: April 21, 2022
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Summary

Ein neu entwickelter mikrostrukturierter Chip mit Graphenoxidfenstern wird unter Anwendung mikroelektromechanischer Systemtechniken hergestellt, die eine effiziente und kryogene Elektronenmikroskopie-Bildgebung verschiedener Biomoleküle und Nanomaterialien mit hohem Durchsatz ermöglichen.

Abstract

Eine wesentliche Einschränkung für die effiziente und hochdurchlässige Strukturanalyse von Biomolekülen mittels kryogener Elektronenmikroskopie (Kryo-EM) ist die Schwierigkeit, Kryo-EM-Proben mit kontrollierter Eisdicke auf der Nanoskala herzustellen. Der auf Silizium (Si) basierende Chip, der über eine regelmäßige Anordnung von Mikrolöchern mit Graphenoxid (GO) -Fenster verfügt, die auf einem dickengesteuerten Siliziumnitridfilm (SixNy) strukturiert sind, wurde unter Anwendung von MEMS-Techniken (Mikroelektromechanik) entwickelt. UV-Photolithographie, chemische Gasphasenabscheidung, nasses und trockenes Ätzen des dünnen Films und Tropfenguss von 2D-Nanoblattmaterialien wurden für die Massenproduktion der mikrostrukturierten Chips mit GO-Fenstern verwendet. Die Tiefe der Mikrolöcher wird reguliert, um die Eisdicke bei Bedarf zu kontrollieren, abhängig von der Größe der Probe für die Kryo-EM-Analyse. Die günstige Affinität von GO zu Biomolekülen konzentriert die interessierenden Biomoleküle während der Kryo-EM-Probenvorbereitung im Mikroloch. Der mikrostrukturierte Chip mit GO-Fenstern ermöglicht eine Kryo-EM-Bildgebung verschiedener biologischer Moleküle sowie anorganischer Nanomaterialien mit hohem Durchsatz.

Introduction

Die kryogene Elektronenmikroskopie (Kryo-EM) wurde entwickelt, um die dreidimensionale (3D) Struktur von Proteinen in ihrem nativen Zustand 1,2,3,4 aufzulösen. Die Technik beinhaltet das Fixieren von Proteinen in einer dünnen Schicht (10-100 nm) aus Glaseis und das Aufnehmen von Projektionsbildern von zufällig orientierten Proteinen mit einem Transmissionselektronenmikroskop (TEM), wobei die Probe bei flüssiger Stickstofftemperatur gehalten wird. Tausende bis Millionen von Projektionsbildern werden aufgenommen und verwendet, um eine 3D-Struktur des Proteins durch Rechenalgorithmen 5,6 zu rekonstruieren. Für eine erfolgreiche Analyse mit Kryo-EM wurde die Kryoprobenvorbereitung automatisiert, indem die Ausrüstung, die die Löschbedingungen, die Feuchtigkeit und die Temperatur steuert, eingefroren wurde. Die Probenlösung wird mit einer löchrigen Kohlenstoffmembran in ein TEM-Gitter geladen, nacheinander getupft, um die überschüssige Lösung zu entfernen, und dann mit flüssigem Ethan eingefroren, um dünnes, glasiges Eis 1,5,6 zu erzeugen. Mit den Fortschritten in der Kryo-EM und der Automatisierung der Probenvorbereitung7 wurde Kryo-EM zunehmend verwendet, um die Struktur von Proteinen zu lösen, einschließlich Hüllproteinen für Viren und Ionenkanalproteinen in der Zellmembran8,9,10. Die Struktur der Hüllproteine pathogener Viruspartikel ist wichtig für das Verständnis der Virusinfektionspathologie sowie für die Entwicklung des Diagnosesystems und der Impfstoffe, z. B. SARS-CoV-2 11, die dieCOVID-19-Pandemie verursacht haben. Darüber hinaus wurden Kryo-EM-Techniken in jüngster Zeit in den Materialwissenschaften angewendet, z. B. für die Abbildung strahlempfindlicher Materialien, die in Batterien 12,13,14 und katalytischen Systemen14,15 verwendet werden, und für die Analyse der Struktur anorganischer Materialien im Lösungszustand 16.

Trotz spürbarer Entwicklungen in der Kryo-EM und relevanten Techniken gibt es Einschränkungen in der Kryoprobenvorbereitung, die die Hochdurchsatz-3D-Strukturanalyse behindern. Die Herstellung eines glasigen Eisfilms mit optimaler Dicke ist besonders wichtig, um die 3D-Struktur biologischer Materialien mit atomarer Auflösung zu erhalten. Das Eis muss dünn genug sein, um Hintergrundgeräusche von Elektronen, die vom Eis gestreut werden, zu minimieren und Überlappungen von Biomolekülen entlang des Elektronenstrahlweges 1,17 zu verbieten. Wenn das Eis jedoch zu dünn ist, kann dies dazu führen, dass sich Proteinmoleküle in bevorzugten Orientierungen ausrichten oderdenaturieren 18,19,20. Daher sollte die Dicke des Glaseises in Abhängigkeit von der Größe des interessierenden Materials optimiert werden. Darüber hinaus ist in der Regel ein umfangreicher Aufwand für die Probenvorbereitung und das manuelle Screening der Eis- und Proteinintegrität auf den vorbereiteten TEM-Gittern erforderlich. Dieser Prozess ist extrem zeitaufwendig, was seine Effizienz für die 3D-Strukturanalyse mit hohem Durchsatz beeinträchtigt. Daher würden Verbesserungen der Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit der Kryo-EM-Probenvorbereitung den Einsatz von Kryo-EM in der Strukturbiologie und kommerziellen Arzneimittelforschung sowie in der Materialwissenschaft verbessern.

Hierin stellen wir Mikrofabrikationsprozesse zur Herstellung eines mikrostrukturierten Chips mit Graphenoxid (GO) -Fenstern vor, die für Kryo-EM mit hohem Durchsatz mit kontrollierter Eisdicke21 ausgelegt sind. Der mikrostrukturierte Chip wurde mit mikroelektromechanischen Systemtechniken (MEMS) hergestellt, die die Struktur und Abmessungen des Chips in Abhängigkeit von den Bildgebungszwecken manipulieren können. Der mikrostrukturierte Chip mit GO-Fenstern hat eine Mikrowellenstruktur, die mit der Probenlösung gefüllt werden kann, und die Tiefe der Mikrovertiefung kann reguliert werden, um die Dicke des Glaseises zu kontrollieren. Die starke Affinität von GO für Biomoleküle erhöht die Konzentration von Biomolekülen für die Visualisierung und verbessert die Effizienz der Strukturanalyse. Darüber hinaus besteht der mikrostrukturierte Chip aus einem Si-Rahmen, der eine hohe mechanische Stabilität für das Gitter19 bietet, was ihn ideal für die Handhabung des Chips während der Probenvorbereitung und der Kryo-EM-Bildgebung macht. Daher bietet ein mikrostrukturierter Chip mit GO-Fenstern, der mit MEMS-Techniken hergestellt wird, Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit der Kryo-EM-Probenvorbereitung, die eine effiziente und hochdurchsatzbasierte Strukturanalyse auf der Grundlage von Kryo-EM ermöglichen kann.

Protocol

1. Herstellung eines mikrostrukturierten Chips mit GO-Fenstern (Abbildung 1) Deponieren Sie das Siliziumnitrid.Auf beiden Seiten des Si-Wafers (4 Zoll Durchmesser und 100 μm Dicke) wird Siliziumnitrid (SixNy) unter Verwendung von Niederdruck-Chemical Vapor Deposition (LPCVD) bei 830 °C und einem Druck von 150 mTorr unter einem Durchfluss von 170 sccm Dichlorsilan (SiH2Cl2, DCS) und 38sccm Ammoniak (</…

Representative Results

Ein mikrogemusterter Chip mit GO-Fenstern wurde durch MEMS-Fertigung und 2D-GO-Nanoblatttransfer hergestellt. Chips für die Mikrostrukturierung wurden in Massenproduktion hergestellt, wobei etwa 500 Chips aus einem 4-Zoll-Wafer hergestellt wurden (Abbildung 1B und Abbildung 2A, B). Die Designs der mikrogemusterten Chips können während des Photolithographieverfahrens mit verschiedenen Designs der Chrommaske (Abbildung 2</s…

Discussion

Hier werden die Mikrofabrikationsverfahren zur Herstellung von mikrogemusterten Chips mit GO-Fenstern vorgestellt. Der hergestellte mikrostrukturierte Chip wurde entwickelt, um die Dicke der Glaskörpereisschicht zu regulieren, indem er die Tiefe des Mikrolochs mit GO-Fenstern in Abhängigkeit von der Größe des zu analysierenden Materials steuert. Ein mikrogemusterter Chip mit GO-Fenstern wurde unter Verwendung einer Reihe von MEMS-Techniken und einer 2D-Nanoblatttransfermethode hergestellt (Abbild…

Divulgaciones

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

M.-H.K., S.K., M.L. und J.P. würdigen die finanzielle Unterstützung durch das Institute for Basic Science (Grant No. IBS-R006-D1). S.K., M.L. und J.P. würdigen die finanzielle Unterstützung durch das Creative-Pioneering Researchers Program der Seoul National University (2021) und den von der koreanischen Regierung finanzierten NRF-Zuschuss (MSIT; Grant Nr. NRF-2020R1A2C2101871 und NRF-2021M3A9I4022936). M.L. und J.P. würdigen die finanzielle Unterstützung durch das POSCO Science Fellowship der POSCO TJ Park Foundation und den von der koreanischen Regierung finanzierten NRF-Zuschuss (MSIT; Grant-Nr. NRF-2017R1A5A1015365). J.P. würdigt die finanzielle Unterstützung aus dem NRF-Zuschuss, der von der koreanischen Regierung (MSIT; Grant-Nr. NRF-2020R1A6C101A183) und die interdisziplinären Forschungsinitiativen Programme des College of Engineering und des College of Medicine, Seoul National University (2021). M.-H.K. erkennt die finanzielle Unterstützung aus dem NRF-Zuschuss an, der von der koreanischen Regierung (MSIT; Grant-Nr. NRF-2020R1I1A1A0107416612). Die Autoren danken den Mitarbeitern und der Crew des Seoul National University Center for Macromolecular and Cell Imaging (SNU CMCI) für ihren unermüdlichen Einsatz und ihre Ausdauer bei den Kryo-EM-Experimenten. Die Autoren danken S. J. Kim vom National Center for Inter-university Research Facilities für die Unterstützung bei den FIB-SEM-Experimenten.

Materials

1-methyl-2-pyrrolidinone (NMP) Sigma Aldrich, USA 443778
Acetone
AFM Park Systems, South Korea NX-10
Aligner Midas System, South Korea MDA-600S
AZ 300 MIF developer AZ Electronic Materials USA Corp., USA 184411
Cryo-EM holder Gatan, USA 626 single tilt cryo-EM holder
Cryo-plunging machine Thermo Fisher SCIENTIFIC, USA Vitrobot Mark IV
Focused ion beam-scanning electron microscopy (FIB-SEM) FEI Company, USA Helios NanoLab 650
Glow discharger Ted Pella Inc., USA PELCO easiGlow
Graphene oxide (GO) solution Sigma Aldrich, USA 763705
Hexamethyldisizazne (HMDS), 98+% Alfa Aesar, USA 10226590
Low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) Centrotherm, Germany LPCVD E1200
maP1205 positive PR Micro resist technology, Germany A15139
Potassium hydroxide (KOH), flake DAEJUNG CHEMICALS & METALS Co. LTD., South Korea 6597-4400
Raman Spectrometer NOST, South Korea Confocal Micro Raman System HEDA
Reactive ion etcher (RIE) Scientific Engineering, South Korea Lab-built
SEM Carl Zeiss, Germany SUPRA 55VP
Si wafer JP COMMERCE, South Korea 4" Silicon wafer, P(B)type, (100), 1-30ohm.c m, DSP, T:100um
Spin coater Dong Ah Trade Corp., South Korea ACE-200
TEM JEOL, Japan JEM-2100F

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Citar este artículo
Kang, M., Lee, M., Kang, S., Park, J. Fabrication of Micro-Patterned Chip with Controlled Thickness for High-Throughput Cryogenic Electron Microscopy. J. Vis. Exp. (182), e63739, doi:10.3791/63739 (2022).

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