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एक छद्मस्टिक निकल-टाइटेनियम मिश्र धातु पर स्थिर पतली ऑक्साइड फिल्मों पर गतिशील तनाव लागू करना
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Applying Dynamic Strain on Thin Oxide Films Immobilized on a Pseudoelastic Nickel-Titanium Alloy
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एक छद्मस्टिक निकल-टाइटेनियम मिश्र धातु पर स्थिर पतली ऑक्साइड फिल्मों पर गतिशील तनाव लागू करना

DOI:
10.3791/61410-v

•

09:35 min

•

July 28, 2020

•

, , , ,
1Chemical and Nanoscience Center,National Renewable Energy Laboratory, 2Catalytic Carbon Transformation and Scale-Up Center,National Renewable Energy Laboratory, 3Biosciences Center,National Renewable Energy Laboratory

Kapitel

  • 00:04Introduction
  • 00:46Nickel-Titanium (NiTi) Substrate Polishing
  • 01:51Titanium Dioxide (TiO2) Film Preparation
  • 02:41Conducting Electrochemical Measurements Under Strain
  • 05:42Cracked Film Characterization
  • 06:25Surface Characterization
  • 06:59Results: Representative Characterization of the Effects of Dynamic Strain on Thin Oxide Films
  • 09:01Conclusion

Summary

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इलेक्ट्रोकैटेलिसिस, विशेष रूप से प्रोटॉन कमी और पानी ऑक्सीकरण पर तनाव के प्रभावों का अध्ययन करने के लिए टीआईओ2 पतली फिल्मों पर गतिशील, तन्य तनाव लागू किया जाता है। टीओ2 फिल्में छद्म लोचदार निटी एलॉय (नितिनोल) के थर्मल ट्रीटमेंट से तैयार होती हैं।

Tags

Dynamic StrainThin Oxide FilmsNickel-titanium AlloyChemical And Mechanical PolishingRutile-titanium DioxideTensile StressElectrochemical MeasurementsHydrogen Evolution Reaction

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