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Área análisis sonda Nanolitografía facilitado por alineación automática y su aplicación a la fabricación de sustrato para estudios del cultivo celular
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Large-area Scanning Probe Nanolithography Facilitated by Automated Alignment and Its Application to Substrate Fabrication for Cell Culture Studies
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Área análisis sonda Nanolitografía facilitado por alineación automática y su aplicación a la fabricación de sustrato para estudios del cultivo celular

DOI:
10.3791/56967-v

•

09:45 min

•

June 12, 2018

•

, , , , , ,
1Manchester Institute of Biotechnology & School of Chemistry,University of Manchester, 2School of Engineering,University of Liverpool, 3School of Electrical and Electronic Engineering,University of Manchester, 4School of Science and Technology,Nottingham Trent University

Kapitel

  • 00:04Titel
  • 00:47Polymer Pen Lithography (PPL) Array Fabrication and Substrate Mounting
  • 04:29Automatic Pen Array Alignment
  • 06:35Polymer Pen Lithography
  • 08:20Results: Substrate Patterning by PPL
  • 09:08Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

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Aquí presentamos un protocolo para área amplia exploración sonda Nanolitografía habilitado por el alineamiento iterativo de arreglos de discos de punta de prueba, así como la utilización de patrones litográficos para estudios de interacción de la superficie de la célula.

Tags

Large-area Scanning Probe NanolithographyAutomated AlignmentSubstrate FabricationCell Culture StudiesPDMS PrepolymerSilicon MasterPPL ArrayOxygen Plasma TreatmentAFM Lithography

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