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Encapsulación y permeabilidad Características de las partículas de plasma polimerizado Hollow
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Kapitel
- 00:05Titel
- 01:37Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition
- 02:23Preparation of the Vacuum System
- 02:47Plasma Deposition Process
- 04:27Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material
- 05:36Characterization of Permeability (Rate of Core Release)
- 06:56Results: Plasma Polymerized Hollow Particles
- 08:40Conclusion
Hemos utilizado reforzada por plasma deposición de vapor químico para depositar películas delgadas que van desde un pocos nm a 100 nm en varios tamaño nano-partículas de diferentes materiales. Hemos posteriormente grabar el material del núcleo para producir nanocápsulas huecas cuya permeabilidad es controlada por el espesor de la cáscara. Nos caracterizar la permeabilidad de estos revestimientos a los solutos pequeños y demostrar que estas barreras pueden proporcionar una liberación sostenida del material del núcleo durante varios días.
Tags
EncapsulationPermeability CharacteristicsPlasma Polymerized Hollow ParticlesCore-shell NanostructuresPlasma Enhanced Chemical Vapor DepositionAmorphous BarrierPlasma PolymerizationIsopropanolSolid SubstratesSilicaPotassium ChlorideNanoparticlesNanopowdersFilms ThicknessDissolution Of The CoreDiffusion CoefficientKCl NanocrystalsIonic ConductivityEncapsulation And Delayed Release Of SolutesShell ThicknessRate Of Release
