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Kapitel
- 00:05Titel
- 01:37Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition
- 02:23Preparation of the Vacuum System
- 02:47Plasma Deposition Process
- 04:27Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material
- 05:36Characterization of Permeability (Rate of Core Release)
- 06:56Results: Plasma Polymerized Hollow Particles
- 08:40Conclusion
हम प्लाज्मा बढ़ाया रासायनिक वाष्प जमाव का इस्तेमाल किया है कुछ एनएम से कई विभिन्न सामग्रियों की नैनो आकार के कणों पर 100 एनएम को लेकर पतली फिल्मों जमा है. हम बाद में खोदना कोर खोखला nanoshells पारगम्यता जिसका खोल की मोटाई के द्वारा नियंत्रित उत्पादन सामग्री. हम छोटे विलेय इन कोटिंग्स की पारगम्यता विशेषताएँ और दिखाना है कि इन बाधाओं को कई दिनों में मुख्य सामग्री के निरंतर जारी प्रदान कर सकते हैं.
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EncapsulationPermeability CharacteristicsPlasma Polymerized Hollow ParticlesCore-shell NanostructuresPlasma Enhanced Chemical Vapor DepositionAmorphous BarrierPlasma PolymerizationIsopropanolSolid SubstratesSilicaPotassium ChlorideNanoparticlesNanopowdersFilms ThicknessDissolution Of The CoreDiffusion CoefficientKCl NanocrystalsIonic ConductivityEncapsulation And Delayed Release Of SolutesShell ThicknessRate Of Release
