Summary

紫外辐射对双 (硫脲) 氯化镉晶体化学镀液沉积的影响及随后的 CdS 获得

Published: August 30, 2018
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Summary

本文提出了一种用化学浴沉积法合成双 (硫脲) 镉氯化物晶体的协议。两个实验被描述: 一个由紫外光辅助与没有紫外光的一。

Abstract

本文比较研究了用化学浴沉积技术对 367 nm 波长的紫外光照射下双 (硫脲) 氯化镉晶体的制备效果。两个实验进行了比较: 一个没有紫外线光和其他的紫外线光的帮助。两个实验都是在同等条件下进行的, 温度为 343 K, pH 值为3.2。所用的前体为氯化镉 (CdCl2) 和硫脲 [CS (NH2)2], 溶解在50毫升的去离子水中, 酸性 pH 值。在该实验中, 在进行化学反应的时刻, 寻求电磁辐射的相互作用。结果表明晶体与紫外光之间存在相互作用;紫外光协助导致晶体生长在针状的形状。此外, 最终的产品是硫化镉, 并显示没有明显的差异, 当合成与或不使用 UV 光。

Introduction

一个重要的研究领域是单一晶体;他们的成长是针对不同的应用。这些材料可作为用于激光技术领域、光电子领域和信息1的非线性光学资料, 为他们的调查提供了一个机会。二 (硫脲) 氯化镉是一种金属有机材料, 可从两个前体、硫脲和氯化镉中合成, 遵循以下化学公式: 2 cs (nh2)2 + CdCl2 CdCl2-[cs2)2]2. 这种金属-有机材料是在不同的反应条件下制备的, 如温度和 pH 值, 但在紫外线 (UV) 光的帮助下从来没有。

报告了 pH 值对晶体结构的影响;在 pH < 6, 有可能获得单晶的形成。这些反过来, 根据 pH 值的范围进行修改。在6到4的间隔时间内, 可以获得六角结构, 因为如果 pH 值为 < 4, 正交晶体结构得到2。离子离解由酸性 pH 值 Cd2 +和 Cl 促进, 因为它防止氢氧化镉形成 [Cd (OH)2]。这稳定了镉: 一个镉原子加入两个无硫自由基和两个氯。

在这里, 采用化学浴沉积技术 (CBD) 进行合成, 控制化学反应时干预的不同条件3。在 CBD 中, 控制化学反应的因素有: 溶液温度、前驱离子、溶液 pH 值、试剂数量和搅拌速度等。另一方面, 这里使用的比较技术称为光化学浴沉积 (PCBD), 因为它使用 UV 光的帮助。有报道称, 紫外线光协助已被用于合成x45、ZnS6、CdS7和 InS8等薄膜。市村和 Gunasekaran9目前在他们的工作, 硫酸盐溶液有一个吸收边缘接近 300 nm。由于这种吸收范围, 紫外线辐射的应用, 这导致了类似的排放范围, 与吸收的解决方案。

二 (硫脲) 氯化镉的另一种性质是加热时降解。它在 512 K 和以上的温度下进行初始分解, 形成硫化镉 (CdS)。降解反应如下: [Cd (CS2]2] Cl2 →Δ CdS + HNCS + nh3 + nh4SCN。这种降解产生 thiocyanuric 酸和各种 thiocyanates10,11。此外, 研究组还对紫外线辐射引起的一些影响进行了研究12。最后, 本文介绍了双 (硫脲) 氯化镉晶体的比较合成方法, 以及紫外光的影响。

Protocol

注意: 本议定书中使用的化学品具有毒性和致癌性;因此, 必须认真遵守安全建议和程序。佩戴适当的防护设备, 查阅相关材料安全数据表 (MSDS)。 1. 二 (硫脲) 氯化镉的合成 前体溶液的制备 将500毫升去离子水倒入1升烧杯中, 持续搅拌;添加0.3 毫升盐酸在36.5% 浓度, 确保溶液的 pH 值尽可能接近 3, 使用 ph 计。注意: 为了避免任何健康影响, 强烈建议在?…

Representative Results

在两种前驱体溶液中, a 和 B 的紫外-可见光扩散反射吸收光谱显示了双 (硫脲) 氯化镉络合物-CdCl2-(CS2)2)2的存在。这在图 2c中由 250-500 nm 范围内的广泛吸收带证明。反过来,图 2c是独立 CdCl2和 CS (NH2)2在解决方案中的主要吸收带的组合, 如图 2a和2b…

Discussion

本节中提出的讨论只侧重于议定书, 而不是着重于代表结果中已经显示的结果。

该议定书最关键的部分之一是编写前体解决方案。保持酸性 pH 值以避免 Cd (OH)2的形成是至关重要的。如果 pH 不是酸性的, 它导致 CdS 的直接形成由于硫脲离解和 cd (OH)2形成。
第二个最重要的步骤是步骤 3.2, 过滤解决方案之前必须执行的解决方案冷却下来, 因为否则, 冷却导致晶体…

Offenlegungen

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

L.E. 和琼斯 Willars 罗德里格斯感谢 CONACYT 的奖学金。E.A. 查韦斯-Urbiola 感谢 CONACYT 为 “Catedras CONACYT” 计划。作者还承认阿维拉的技术援助, Landaverde, J.E. 乌尔维纳 Alvárez, Jiménez 涅托。

Materials

Reagents
Cadmium chloride Anh. ACS, 99.4 % Fermont PQ24291 Highly toxic
Thiourea technical grade, 99.9 % Reasol R5913 Toxic
Hydrochloric acid, 36.5 – 38.0 % J.T.Baker MFCD00011324 Highly corrosive liquid
Material
Filter paper Whatman 1440 125 40, Ashless, Circles, 125 mm
Beaker Kimax 1400 100 mL
Volumetric Flask Kimax 28012-100 Class A 100 mL
Glass Funnel Kimax 28980-150 Addition Funnel, Long Stem, 60° Angle, Wide Top. Type I, Class B.
Watch glasses Pyrex 9985-150 Corning, 150 mm
Crucibles Fisherbrand FB-965-D High-Form Porcelain
Equipment
Furnace Briteg Instrumentos Cientificos S.A. de C.V. 1010
Fume Hood Fisher Alders, S.A. de C.V. F1124
Light surce Philips PL-S 9W UV-A/2P 1CT/6X 10 CC
pH meter OAKTON WD-35419-10
Hotplate whit magnetic stirrer Cole-Parmer JZ-04660-75

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Diesen Artikel zitieren
Trujillo Villanueva, L. E., Legorreta García, F., Chávez-Urbiola, I. R., Willars-Rodriguez, F. J., Ramírez- Bon, R., Ramírez-Cardona, M., Hernández-Cruz, L. E., Chávez-Urbiola, E. A. The Effect of Ultraviolet Radiation on the Chemical Bath Deposition of Bis(thiourea) Cadmium Chloride Crystals and the Subsequent CdS Obtention. J. Vis. Exp. (138), e57682, doi:10.3791/57682 (2018).

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