Journal
/
/
Teoretisk beregning og eksperimentel verifikation for dislokationsreduktion i germaniumepitaksiale lag med semicylindriske hulrum på silicium
JoVE 杂志
工程学
需要订阅 JoVE 才能查看此.  登录或开始免费试用。
JoVE 杂志 工程学
Theoretical Calculation and Experimental Verification for Dislocation Reduction in Germanium Epitaxial Layers with Semicylindrical Voids on Silicon
DOI:

06:57 min

July 17, 2020

, , ,

Chapters

  • 00:04Introduction
  • 00:34Experimental Verification Procedure
  • 04:29Results: Reduction of Threading Dislocation Density in Germanium Epitaxial Layers with Semicylindrical Voids on Silicon
  • 06:12Conclusion

Summary

自动翻译

Teoretisk beregning og eksperimentel verifikation foreslås til en reduktion af gevinddislokationstæthed (TD) i germaniumepitaksiale lag med semicylindriske hulrum på silicium. Beregninger baseret på interaktionen mellem TD'er og overflade via billedkraft, TD-målinger og transmissionselektronmikroskopobservationer af TD'er præsenteres.

Related Videos

Read Article